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使用湿化学物质去除光刻胶和残留物

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光刻胶国内市场及国产化率详解

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不仅需要***,更需要光刻胶

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西陇科学9天8板,回应称“未生产、销售光刻胶

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晶瑞电材子公司引入战投中石化资本,定增募资8.5亿元加码光刻胶项目

股,募集资金人民币850,000,002.24元,用于瑞红苏州先进制程工艺半导体光刻胶及配套试剂业务的研发、采购、生产和销售及相关投资。
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室温下使用外部短路策略对废旧的LiFePO4正极进行直接再生!

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2023-06-11 10:28:31551

半导体制备的主要方法

上,使光刻胶在照射处发生化学反应。然后,通过显影步骤,未照射到的光刻胶被溶解掉,形成图案。经过后烘烤,图案被固定,以便后续步骤。
2023-06-09 11:36:522037

ROHS六项有害物质检测

ROHS六项有害物质检测:为环境与健康筑起的安全屏障 引言: 随着科技的飞速发展,电子产品已经成为我们日常生活中不可或缺的一部分。然而,电子产品的制造与使用过程中往往涉及许多化学物质,其中一些可能
2023-06-08 17:48:421008

重点阐述湿法刻蚀

光刻工艺后,在硅片或晶圆上形成了光刻胶的图形,下一步就是刻蚀。
2023-06-08 10:52:353320

知识分享---光刻模块标准步骤

通常,光刻是作为特性良好的模块的一部分执行的,其中包括晶圆表面制备、光刻胶沉积、掩模和晶圆的对准、曝光、显影和适当的抗蚀剂调节。光刻工艺步骤需要按顺序进行表征,以确保模块末端剩余的抗蚀剂是掩模的最佳图像,并具有所需的侧壁轮廓。
2023-06-02 16:30:25418

蓝宝石在化学机械抛光过程中的材料去除机理

化学腐蚀点处的浓度越高,腐蚀速率越快。在抛光过程中抛光液持续流动,我们假设在腐蚀点处的浓度可以保持初始时的浓度,腐蚀率以最快的速度发生,则抛光液不同的PH值对应一个腐蚀率,由此可见,去除速率与PH值有关,PH越高,速率越快。
2023-06-02 15:24:06347

adn是什么化学物质

2023-05-29 12:34:47

光刻胶产业天价离婚案!分割市值高达140亿元

来源:每日经济新闻,记者:程雅 编辑:张海妮,谢谢 编辑:感知芯视界 5月24日晚,国产光刻胶大厂彤程新材发布公告称,于近日收到实控人Zhang Ning与Liu Dong Sheng的通知,二人
2023-05-29 09:33:44187

PCBA上残留物的类型

随着电子信息业的发展,PCBA组装工艺要求越来越高,而电子整机产品的质量和可靠性取决于PCBA的质量和可靠性。
2023-05-25 09:50:08345

化学放大型光刻胶的作用原理

感光速度:即光刻胶受光照射发生溶解速度改变所需的最小能量,感光速度越快,单位时间内芯片制造的产出越高,经济效益越好,另-方面,过快的感光速度会对引起工艺宽容度的减小,影响工艺制程的稳定性。
2023-05-25 09:46:09561

采用光刻胶牺牲层技术改善薄膜电路制备工艺

改善之后的工艺与之前最大的区别在于使用光刻胶充当溅射的掩膜,在电镀之前将电路图形高精度的制备出来,不再进行湿法刻蚀,避免了侧腐蚀对线条精度和膜基结合力的影响,同时,基板只浸入丙酮中一次以去除光刻胶,避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218

一文讲透光刻胶及芯片制造关键技术

在集成电路制造领域,如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”,光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381122

全面解读光刻胶工艺制造流程

光刻胶可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。依据使用场景,这里的待加工基片可以是集成电路材料,显示面板材料或者印刷电路板。
2023-05-11 16:10:492775

EUV光刻的无名英雄

晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模,然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是,如果光刻胶太薄,它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小,底层厚度也应该减小。
2023-04-27 16:25:00689

光刻技术的种类介绍

根据维基百科的定义,光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
2023-04-25 11:11:331243

光刻技术的详细工序

清洗硅片(Wafer Clean) 清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少针孔和其它缺陷,提高光刻胶黏附性 基本步骤:化学清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:403859

光刻技术的原理及发展前景分析

光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-04-25 11:05:322260

讨论污染对PCB点焊的影响以及有关清洁的一些问题

的产品故障增加。本文将简要讨论污染残留物对PCB点焊的影响以及有关清洁的一些问题。  •污染残留对PCB点焊的影响  a.电化学迁移  电化学迁移是ECM的缩写,是指通过某些介质(例如,在电磁场
2023-04-21 16:03:02

PCB制造过程分步指南

的光敏膜层。该光致抗蚀剂包括在暴露于紫外光之后硬化的光反应性化学物质层。这确保了从照相胶片到光刻胶的精确匹配。薄膜安装在将销钉固定在层压板上的适当位置的销钉上。  薄膜和纸板排成一行,并接收一束紫外线
2023-04-21 15:55:18

光刻胶显影残留原因

151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留,找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52

浅谈EUV光刻中的光刻胶和掩模等材料挑战

新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发,必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战,imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121164

高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺

此前该公司指出,公司已建成年产5吨ArF干式光刻胶生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶生产线及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线,具备ArF光刻胶及配套关键组分材料的生产能力,目前公司送样验证的产品均由该自建产线产出。
2023-04-11 09:25:32920

调温调湿箱的特点介绍

调温调湿箱全名“恒温恒湿试验箱”是航空、汽车、家电、科研等领域必备的测试设备,用于测试和确定电工、电子及其他产品及材料进行高温、低温、湿热度或恒定试验的温度环境变化后的参数及性能,它主要用于根据试验
2023-03-28 09:02:36

被卡脖子的半导体设备(万字深度报告)

光刻是将设计好的电路图从掩膜版转印到晶圆表面的光刻胶上,通过曝光、显影将目标图形印刻到特定材料上的技术。光刻工艺包括三个核心流程:涂胶、对准和曝光以及光刻胶显影,整个过程涉及光刻机,涂胶显影机、量测设备以及清洗设备等多种核心设备,其中价值量最大且技术壁垒最高的部分就是光刻机。
2023-03-25 09:32:394952

被卡脖子的半导体材料(万字深度报告)

根据SEMI数据,2020年全球晶圆制造材料中,硅片占比最高,为35%;电子气体排名第2,占比13%;掩膜版排名第3,占比12%,光刻胶占比6%;光刻胶配套材料占比8% ;湿电子化学品占比7%;CMP抛光材料占比6%;靶材占比2%。
2023-03-25 09:30:544119

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