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      电子发烧友网>今日头条>湿式清洗工艺在半导体制造中的重要作用

      湿式清洗工艺在半导体制造中的重要作用

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      2023-06-28 10:04:58843

      半导体前端工艺：刻蚀——有选择性地刻蚀材料，以创建所需图形

      在半导体制程工艺中，有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺，如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉，“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料，从而创建所需的微细图案。半导体“刻蚀”工艺所采用的气体和设备，在其他类似工艺中也很常见。
      2023-06-15 17:51:571177

      半导体制造光刻工艺制作流程

      金属-氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）的革命，让我们可以在相同面积的晶圆上同时制造出更多晶体管。MOSFET体积越小，单个 MOSFET的耗电量就越少，还可以制造出更多的晶体管，让其发挥作用，可谓是一举多得。
      2023-06-13 12:29:09596

      半导体制冷器应用--半导体冷冻治疗仪

      半导体冷冻治疗仪利用半导体制冷组件产生的低温来治疗疾病，是近年来发展较快的物理治疗设备。它具有温控精确、功耗低、体积小等优点，在康复治疗领域有广阔的应用前景。半导体冷冻治疗仪包括治疗仪本体、半导体制
      2023-06-12 09:29:18700

      博捷芯划片机半导体封装的作用、工艺及演变

      半导体封装是芯片封装的过程，其作用包括安装、固定、密封、保护芯片和增强电热性能。这个过程始于将晶圆分离成单个的芯片，这可以通过划片法或锯片法实现。划片机是使用刀片或通过激光等方式高精度切割被加工
      2023-06-09 15:03:24629

      揭秘半导体制程：8寸晶圆与5nm工艺的魅力与挑战

      在探讨半导体行业时，我们经常会听到两个概念：晶圆尺寸和工艺节点。本文将为您解析8寸晶圆以及5nm工艺这两个重要的概念。
      2023-06-06 10:44:001423

      博捷芯:晶圆切割提升晶圆工艺制程，国产半导体划片机解决方案

      晶圆切割是半导体制造中的关键环节之一。提升晶圆工艺制程需要综合考虑多个方面，包括切割效率、切割质量、设备性能等。针对这些问题，国产半导体划片机解决方案可以提供一些帮助。首先，在切割效率方面，国产
      2023-06-05 15:30:447568

      臭氧清洗系统的制备及其在硅晶片清洗中的应用

      在半导体和太阳能电池制造过程中，清洗晶圆的技术的提升是为了制造高质量产品。目前已经有多种湿法清洗晶圆的技术，如离子水清洗、超声波清洗、低压等离子和机械方法。由于湿法工艺一般需要使用含有有害化学物质的酸和碱溶液，会产生大量废水，因此存在废物处理成本和环境监管等问题。
      2023-06-02 13:33:211021

      半导体工艺与制造装备技术发展趋势

      摘 要：针对半导体工艺与制造装备的发展趋势进行了综述和展望。首先从支撑电子信息技术发展的角度，分析半导体工艺与制造装备的总体发展趋势，重点介绍集成电路工艺设备、分立器件工艺设备等细分领域的技术发展态势和主要技术挑战。
      2023-05-23 15:23:47974

      碳化硅赋能更为智能的半导体制造/工艺电源模块

      功率密度和灵活性便是 Wolfspeed 和 Astrodyne TDI（ATDI）合作的原因，双方一同挖掘 SiC 技术的优势，以满足现代半导体制造/工艺设备的多种电源需求。我们携手使用 SiC
      2023-05-20 15:46:51436

      SiC赋能更为智能的半导体制造/工艺电源

      半导体器件的制造流程包含数个截然不同的精密步骤。无论是前道工艺还是后道工艺，半导体制造设备的电源都非常重要。
      2023-05-19 15:39:04478

      半导体工艺之气相外延介绍

      在半导体科学技术的发展中，气相外延发挥了重要作用，该技术已广泛用于Si半导体器件和集成电路的工业化生产。
      2023-05-19 09:06:462464

      半导体封装技术研究

      本文以半导体封装技术为研究对象，在论述半导体封装技术及其重要作用的基础上，探究了现阶段半导体封装技术的芯片保护、电气功能实现、通用性、封装界面标准化、散热冷却功能等诸多发展趋势，深入研究了半导体前端
      2023-05-16 10:06:00497

      虹科分享 | 半导体制造工艺中的虹科光源解决方案（2）

      结 构。 得益于LED的技术优势和成本优势，半导体制造领域正在摆脱长期以来的传统放电汞灯技术，进而选择 UVLED技术 作为一种理想解决方案。 虹科UVLED紫外光源 提供稳定且超高功率的UV辐射输出，最高 输出功率可达80W ，具有长寿命和成本优势，无需额外冷却时间，即开即用，取代了传统的灯箱结构
      2023-05-16 09:54:17533

      芯片的制作为什么要用半导体？Wafer晶圆半导体制造工艺

      所谓“半导体”，是一种导电性能介于“导体”和“绝缘体”之间的物质总称。导体能导电，比如铁铜银等金属，绝缘体不导电，比如橡胶。芯片的制作为什么要用半导体？
      2023-05-15 14:50:164221

      频发变数，欧洲本土的半导体制造道阻且长

      半导体中却只有10%是在欧洲制造的，而且大部分还是成熟工艺的汽车芯片。欧盟旨在通过这一计划，将这个数字于2030年提高到20%。   欧洲本土晶圆厂   从地理位置分布就可以看出，绝大多数欧洲本土晶圆厂都建在德国、英国、意大利和法国等地方，
      2023-05-15 07:05:002389

      半导体材料在纳米光子学中的作用

      半导体材料在开发纳米光子技术方面发挥着重要作用。
      2023-05-14 16:58:55590

      日本拟扩大半导体制造设备出口管制，中国多家协会发表严正声明！

      就日方计划扩大半导体制造设备出口管制范围，中国半导体行业协会严正声明。 2023年3月31日，日本经济产业省大臣西村康稔在内阁会议后的记者会上宣布修改《外汇及对外贸易法》，计划扩大半导体制造设备出口
      2023-05-08 10:41:49891

      日本扩大半导体制造设备出口管制 中国半导体行业协会发布严正声明

      此前，日本政府宣布修改《外汇及对外贸易法》，计划扩大半导体制造设备出口管制范围，涉及6大类23种设备。日本政府的出口管制措施将对全球半导体产业生态带来更大的不确定性；甚至对全球产业链的稳定都有很大
      2023-05-05 15:00:491489

      金属布线的工艺为半导体注入生命的连接

      经过氧化、光刻、刻蚀、沉积等工艺，晶圆表面会形成各种半导体元件。半导体制造商会让晶圆表面布满晶体管和电容（Capacitor）；
      2023-04-28 10:04:52532

      半导体工艺之金属布线工艺介绍

      本篇要讲的金属布线工艺，与前面提到的光刻、刻蚀、沉积等独立的工艺不同。在半导体制程中，光刻、刻蚀等工艺，其实是为了金属布线才进行的。在金属布线过程中，会采用很多与之前的电子元器件层性质不同的配线材料（金属）。
      2023-04-25 10:38:49986

      虹科技术|半导体制造工艺中的UV-LED光源

      半导体行业借助紫外光谱范围（i 线：365 nm、h线：405 nm和g线：436 nm）中的高功率辐射在各种光刻、曝光和显影工艺中创建复杂的微观结构
      2023-04-24 11:23:281480

      半导体清洗科技材料系统

      书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：下一代半导体清洗科技材料系统 编号：JFKJ-21-188 作者：炬丰科技 摘要 本文简要概述了面临的挑战晶圆清洗技术正面临着先进的silicon技术向非平面
      2023-04-23 11:03:00246

      工业泵在半导体湿法腐蚀清洗设备中的应用

      【摘要】 在半导体湿法工艺中，后道清洗因使用有机药液而与前道有着明显区别。本文主要将以湿法清洗后道工艺几种常用药液及设备进行对比研究，论述不同药液与机台的清洗原理，清洗特点与清洗局限性。【关键词
      2023-04-20 11:45:00823

      《炬丰科技-半导体工艺》金属氧化物半导体的制造

      书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：金属氧化物半导体的制造 编号：JFKJ-21-207 作者：炬丰科技 概述 CMOS制造工艺概述   CMOS制造工艺流程   设计规则   互补金属氧化物
      2023-04-20 11:16:00247

      虹科分享 | 半导体制造工艺中的虹科光源解决方案（1）

      结 构。 得益于LED的技术优势和成本优势，半导体制造领域正在摆脱长期以来的传统放电汞灯技术，进而选择 UVLED技术 作为一种理想解决方案。 虹科UVLED紫外光源 提供稳定且超高功率的UV辐射输出，最高 输出功率可达80W ，具有长寿命和成本优势，无需额外冷却时间，即开即用，取代了传统的灯箱结构
      2023-04-20 09:32:24412

      《炬丰科技-半导体工艺》硅片清洗技术的演变

      通过对硅表面的清洗和表面处理制备超净硅。集成电路在制造条件下发生了相当大的变化，在1993年。 这些变化的驱动力是不断增长的，生产高性能先进硅器件的要求，可靠性和成本。 这些电路的特征尺寸已经被放大
      2023-04-18 10:06:00106

      国内功率半导体需求将持续快速增长

      制造产业的转移、下游行业需求的拉动以及国家推出的支持政策，半导体分立器件行业已经进入快速发展通道。目前，我国已经成为全球重要的半导体分立器件制造基地和全球最大的半导体分立器件市场，根据中国半导体行业协会
      2023-04-14 13:46:39

      使用虚拟实验设计加速半导体工艺发展

      ，在半导体设计和制造领域，DOE（或实验）空间通常并未得到充分探索。相反，人们经常使用非常传统的试错方案来挖掘有限的实验空间。这是因为在半导体制造工艺中存在着太多变量，如果要充分探索所有变量的可能情况
      2023-04-13 14:19:57415

      半导体制造步骤

      很少有人知道，所有的半导体工艺都是从一粒沙开始的。因为沙子中所含的硅是生产晶圆所需要的原料。
      2023-04-11 16:39:021657

      陶瓷基板用于精密半导体制冷片封装的优势

      半导体制冷片是一种基于半导体材料热电效应原理制冷的装置。它由一系列电子元件（如P型半导体、N型半导体等）组成，当电流通过这些元件时，会发生热电效应，产生冷热差，从而使制冷片一侧的温度下降，另一侧
      2023-04-03 14:57:441029

      半导体晶圆清洗设备市场：行业分析

      半导体晶圆清洗设备市场预计将达到129\.1亿美元。到 2029 年。晶圆清洗是在不影响半导体表面质量的情况下去除颗粒或污染物的过程。器件表面晶圆上的污染物和颗粒杂质对器件的性能和可靠性有重大影响。本报告侧重于半导体晶圆清洗设备市场的不同部分（产品、晶圆尺寸、技术、操作模式、应用和区域）。
      2023-04-03 09:47:511643

      半导体制造工艺中的UV-LED解决方案

      针对半导体制造工艺的UV-LED光源需求，虹科提供高功率的紫外光源解决方案，可适配步进器和掩膜版设备，更换传统工具中的传统灯箱，实现高质量的半导体质量控制。
      2023-03-29 10:35:41710

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