以色列理工学院29日发布公告称,该校研究人员首次通过实验证明,水与光相互作用也能发出激光,在之前被认为毫无关联的两个研究领域间构建起“桥梁”。
2016-12-01 10:47:23757 引言 近年来,随着集成电路的微细化,半导体制造的清洗方式从被称为“批量式”的25枚晶片一次清洗的方式逐渐改变为“单张式”的晶片一次清洗的方式。在半导体的制造中,各工序之间进行晶片的清洗,清洗工序
2021-12-23 16:43:041104 本文介绍了我们华林科纳研究了污染和清洗顺序对碱性纹理化的影响。硅表面专门暴露在有机和金属污染中,以研究它们对碱性纹理化过程的影响,由此可见,无机污染对金字塔密度的影响不小,而对宏观参数没有影响,而胶残留剂或刻蚀剂等有机污染则存在关键问题,可以抑制碱性纹理化过程。
2022-05-18 14:55:43714 引言 过氧化氢被认为是半导体工业的关键化学品。半导体材料的制备和印刷电路板的制造使用过氧化氢水溶液来清洗硅晶片、去除光刻胶或蚀刻印刷电路板上的铜。用于硅晶片表面清洗的最常用的清洗
2022-07-07 17:16:442758 半导体制造业面临的最大挑战之一是硅的表面污染薄片。最常见的是,硅晶片仅仅因为暴露在空气中而被污染,空气中含有高度的有机颗粒污染物。由于强大的静电力,这些污染物牢固地结合在硅晶片表面,给半导体制造行业带来了许多令人头痛的问题。
2022-07-08 17:18:503378 在整个晶圆加工过程中,仔细维护清洁的晶圆表面对于在半导体器件制造中获得高产量至关重要。因此,湿式化学清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中应用最重复的处理步骤。
2023-03-30 10:00:091940 在当今的器件中,最小结构的尺寸接近于需要从晶片表面移除的粒子的尺寸。在不破坏脆弱设备的情况下,在工艺步骤之间去除纳米颗粒的清洗过程的重要性正在不断增长。兆波清洗可用于单晶片或批量晶片处理。
2023-05-02 16:32:11865 纹理图像的特征是什么?指纹图像的特征是什么?
2021-06-02 07:05:59
1、全自动化的在线式清洗机 一种全自动化的在线式清洗机,该清洗机针对SMT/THT的PCBA焊接后表面残留的松香助焊剂、水溶性助焊剂、免清洗性助焊剂/焊膏等有机、无机污染物进行彻底有效的清洗
2021-02-05 15:27:50
PIC32 MZ2048 EFHXC32 1.44应与TMR2和TMR4相互作用吗?问题是:我正在运行两个计时器,TMR2和TMR4,以驱动一些PWM。为此,我使用OC1和OC2。首先,我测试了两个
2020-03-18 09:57:30
:太阳能电池清洗设备, 半导体清洗设备,微电子工艺设备及清洗设备,太阳能电池片清洗刻蚀设备, 微电子半导体清洗刻蚀设备,LCD液晶玻璃基板清洗刻蚀设备;LED晶片清洗腐蚀设备,硅片切片后清洗设备,划片后
2011-04-13 13:23:10
弹性轮与地面相互作用建模及仿真研究以半经验法为指导思想 对刚性轮与地面相互作用进行了总结在此基础上对弹性轮与地面相互作用提出了合理假设通过对弹性轮与地面相互作用的受力分析建立了弹性轮的压实阻力
2009-12-02 12:47:05
电流和磁场的相互作用产生电磁转矩,利用叉乘可以很方便地推导出永磁同步电机的电磁转矩,包括表贴式永磁同步电机(SPMSM)和内嵌式永磁同步电机(IPMSM)。
2021-08-27 07:21:00
该学生团队及其学院和当地一家太空商业公司合作,为一个新的实验设备设计了一个电子器件包,该设备将用于研究粒子如何与零重力中的航天器和太空服材料相互作用,并允许研究人员远程控制和监控实验。
2019-08-06 08:27:52
纹理是游戏不可或缺的一部分。
这是一个艺术家可以直接控制的领域,以提高游戏的性能。
本最佳实践指南介绍了几种纹理优化,这些优化可以帮助您的游戏运行得更流畅、看起来更好。
最佳实践系列指南的总体目标
2023-08-28 06:39:47
建立数字城市过程中纹理制作问题的探讨
2009-01-09 22:18:4216 大气中固体燃烧等离子体与微波相互作用的实验研究:设计制造了含特定组分的化学药剂,利用热力学方法对其在大气中燃烧所产生的等离子体的电子密度进行了理论计
2009-10-26 17:03:2810 ,从而达到洁净的工艺过程。它是基于激光与物质相互作用效应的一项新技术,与传统的机械清洗法、化学腐蚀清洗、液体固体强力冲击清洗、高频超声清洗等传统清洗方法相比,有明显的
2023-12-06 10:58:54
LED晶片的组成,作用及分类
一、LED晶片的作用:LED晶片为LED的主要原材料,LED主要依靠晶
2009-05-09 09:05:581617 PHB和PHB-g-MA与甲壳胺的相互作用
随着科学技术日新月异的发展,高分子材料得到快速发展,目前已经成为应用最广泛的材料。由于PHB是由生物合成的高分子,从PHB的发
2009-11-21 09:47:361843 BIA(Biomolecular Interaction Analysis)提供了实时观察生物分子间相互作用的技术。 通过它能观察两种分子结合的特异性, 能知道两种分子的结合有多强,还能了解生物分子的结合过程共有多少个协同者和参与者。 BIA可以让得到用其他技术方法难以得到的结果
2011-02-08 15:46:0285 从激光技术的发展、超短超强激光等离子体相互作用研究的特点、方法、内容及其潜在的应用等5个方面对强场物理在国内外的情况作了论述,进一步指出强场物理的实验研究及其应用依赖于激光装置的发展,而超短超强激光技术的发展又使得强场物理的研究变得更具前景、更具挑战性。
2017-11-07 10:43:1611 的计算能力进一步帮助我们从硬件上来实现时间严格任务的实时处理,从而使对较小系统执行反馈控制成为可能,甚至于单个原子与单个光子的相互作用。
使用LabVIEW FPGA,我们可以快速地开发FPGA
2017-11-17 20:18:511189 本文主要介绍了太赫兹光谱技术简单介绍及应用详解_太赫兹与物质的相互作用。THz脉冲光源与传统光源相比具有很多独特的性质:瞬态性、宽带性、相干性、低能性。太赫兹光谱测量技术和太赫兹光谱分析技术。Hz
2018-01-08 10:49:4313773 为研究聚类系数对病毒传播与级联故障相互作用的影响,提出一种改进的病毒传播与级联故障相互作用模型。通过改变平均度和三角连接概率调节网络聚类系数,以此观察病毒传播与级联故障相互作用过程。当不考虑三角连接
2018-01-30 17:53:571 双馈风电场通过串联补偿装置进行远距离输电时存在发生次同步相互作用(sub-synchronous interactions,ssi)的风险。结合我国华北地区某风电场的实际情况,在PSCAD
2018-01-31 11:23:5311 大规模风电经串补线路进行远距离传送存在引发次同步相互作用的风险,系统运行方式、串补度及变频器控制参数为主要影响因素。采用概率法和模式分析相结合,分别在含双馈感应型和永磁同步型风电场系统中,研究多运
2018-02-06 14:12:540 双馈风电机组中存在较多与次同步振荡频率范围耦合的控制环路,容易引发控制环路与线路串联电容补偿之间的次同步控制相互作用(ssci)其中双馈风电机组转子侧内环比例参数对SSCI影响显著,但由于其稳定
2018-03-05 15:27:570 物体表面上每一点的纹理像素都能在纹理映射中找到,它们遵循光照公式以某种方式与光照结合在一起。在最简单的情况下,一个从漫反射纹理映射得到的样例可以用于调节漫反射的颜色。
2018-05-05 11:34:354585 的电绝缘性能,是由填料粒子的绝缘性能决定的。导热塑料的导热性能取决于聚合物与导热填料的相互作用。不同种类的填料具有不同的导热机理。 导热塑料作为一种全新的材料,具有塑料优异的成型加工条件,同时导热金属具有更低的密度,更低的成
2020-04-01 09:57:561061 该芯片可以成为基于细胞的药物筛选平台,用于探索抗生素相互作用的关键药理学模式,有望扩展筛选其他细胞类药物和临床治疗指导潜在应用。
2019-04-25 09:34:002723 发现PCB和路由规则的正确使用可以减少回修。在这个网络研讨会,我们将向您展示如何PCB设计的三个R的相互影响,以及如何使用它们来你的优势,降低成本,提高投放市场的时间。
2019-10-12 07:04:003101 电磁相互作用即是带电粒子与电磁场的相互作用以及带电粒子之间通过电磁场传递的相互作用。它是自然界的一种基本相互作用。
2020-01-31 10:37:004490 单个原子是什么模样,原子与原子之间是如何相互作用的?最近,据物理学家组织网报道,来自新西兰奥塔哥大学物理系的科学家首次捕获到单个原子并让其发生受控反应,并观察到了前所未见的原子间相互作用的情景,他们认为这或将大大影响未来的技术进步。
2020-02-24 22:27:422187 在量子计算的世界里,交互就是一切,为了让计算机正常工作,比特(构成数字信息的一比特和零比特)必须能够相互作用并传递数据进行处理。
2020-04-02 17:01:102182 列车-轨道相互作用(TTI)是铁路工程中的一个经典研究课题,主要由列车模型、轨道模型和轮轨相互作用三部分组成。为了提高计算精度,拓宽应用范围,介绍了一种基于商业软件ANSYS二次开发技术,利用
2020-05-11 08:00:005 据英国剑桥大学官网近日报道,该校科研人员和美国科学家携手,开发出一种可以模仿人类细胞膜的“芯片上的膜”(membrane on a chip),它可以连续监测药物和感染因子与人体细胞的相互作用,有望加快新冠肺炎候选药物筛选工作的进度。
2020-07-24 14:45:07474 知识图谱和机器学习,这两个看似不相关的事物,放在一起会发生什么样的化学反应?本文将从五个方面,阐述机器学习如何与机器学习相互作用,希望对你有帮助。
2020-07-28 09:10:36782 Mentor的Symphony混合信号仿真平台看起来将成为设计师工具箱中最有价值的工具之一 混合信号设计是指涉及模拟和数字电路交互相互作用以达到设计目的的设计。验证这种设计非常棘手,特别是在采用
2021-05-20 16:08:473130 本发明的工艺一般涉及到半导体晶片的清洗。更确切地说,本发明涉及到可能存在于被研磨的单晶硅晶片的表面上的有机残留物、金属杂质和其它特定的沾污物的清洗处理步骤的顺序。 集成电路制造中所用的半导体晶片
2020-12-29 14:45:211999 的氧化物去除 , 从而实现对晶片进行清洗的目的。采用这种先氧化再剥离的方法 ,可有效去除附着在晶片表面的杂质及各种沾污物。对于不同的材料 , 氧化过程以及剥离过程可以在不同的溶液中相互独立地进行 ; 也可以组合在一起 , 使用一种混合液同时实现
2021-04-08 14:05:3949 目前,致密油藏的高效开采仍是世界研究的重点及难点,其中CO2压裂技术受到广泛重视。为了进一步明确CO2前置压裂流体之间的相互作用机理,利用室内实验对地层条件下CO2注入后原油高压物性(密度、黏度
2021-04-15 15:08:194 在改善锂离子电池性能的过程中,研究人员大多把精力放在活性物质材料研究与改性上,忽视了导电剂、粘结剂形貌及其与活性物质之间相互作用,以及在电极浆料制备过程中影响浆料分散性的因素。另外,电极材料能够决定
2021-06-02 10:59:423565 单晶片兆频超声波清洗机的声音分布通过晶片清洗测试、视觉观察、声音测量和建模结果来表征。该清洁器由一个水平晶圆旋转器和一个兆频超声波换能器/发射器组件组成。声音通过液体弯月面从换能器组件传输到水平石英
2021-12-20 15:40:31776 引言 湿化学蚀刻是制造硅太阳能电池的关键工艺步骤。为了蚀刻单晶硅,氢氧化钾溶液被广泛使用,因为它们可以形成具有随机金字塔的表面纹理,从而增强单晶硅晶片的光吸收。对于多晶硅晶片,表面纹理化通常通过
2022-01-13 14:47:19624 本文讨论了稀氢氟酸清洗过程中颗粒沉积在硅片表面的机理。使用原子力显微镜的直接表面力测量表明,硅表面上的颗粒再沉积是由于颗粒和晶片表面之间的主要相互作用。表面活性剂的加入可以通过改变颗粒和晶片之间
2022-02-11 14:44:271442 近年来,随着集成电路的微细化,半导体制造的清洗方式从被称为“批量式”的25枚晶片一次清洗的方式逐渐改变为“单张式”的晶片一次清洗的方式。在半导体的制造中,各工序之间进行晶片的清洗,清洗工序
2022-02-22 16:01:08904 摘要 在许多半导体器件的制造中,硅是最有趣和最有用的半导体材料。在半导体器件制造中,各种加工步骤可分为文章全部详情:壹叁叁伍捌零陆肆叁叁叁四大类,即沉积、去除、图形化和电性能的修改。在每一步中,晶片
2022-02-23 17:44:201426 摘要 该公司提供了一种用于清洗半导体晶片的方法和设备 100,该方法和方法包括通过从装载端口 110 中的盒中取出两个或多个晶片来填充化学溶液的第一罐将晶片放入。将晶片放入装满液体的第一槽(137
2022-02-28 14:56:03927 摘要 研究了泵送方法对晶片清洗的影响。两种类型的泵,例如隔膜泵和离心泵,用于在湿浴和单晶片工具中循环和供应用于晶片清洁的去离子水。清洗研究表明,泵送方法对清洗性能有很大影响。实验研究表明,在 MLC
2022-03-02 13:56:46521 摘要 本文介绍了半导体晶片加工中为颗粒去除(清洗)工艺评估而制备的受污染测试晶片老化的实验研究。比较了两种晶片制备技术:一种是传统的湿法技术,其中裸露的硅晶片浸泡在充满颗粒的溶液中,然后干燥;另一种
2022-03-04 15:03:502588 在半导体器件的制造过程中,兆声波已经被广泛用于从硅晶片上去除污染物颗粒。在这个过程中,平面硅片被浸入水基溶液中,并受到频率在600千赫-1兆赫范围内的声能束的作用。声波通常沿着平行于晶片/流体界面
2022-03-15 11:28:22460 本文将详细探讨清洗和纹理的相互作用,在清洁过程中使用的化学类型对平等有着深远的影响,并在纹理中产生不可预测的影响。 经过线锯、除胶和切割,最终清理的目的是清除所有泥浆、切削液和线锯残留物,通常,这种
2022-03-15 16:25:37320 本文介绍了新兴的全化学晶片清洗技术,研究它们提供更低的水和化学消耗的能力,提供了每种技术的工艺应用、清洁机制、工艺效益和考虑因素、环境、安全和健康(ESH)效益和考虑因素、技术状态和供应商信息的可用信息。
2022-03-16 15:24:57308 实验研究了预清洗对KOH/IPA溶液中单晶硅表面纹理化的影响。如果没有适当的预清洗,表面污染会形成比未污染区域尺寸小的金字塔,导致晶片表面纹理特征不均匀,晶片表面反射率不均匀。根据供应商的不同,晶片的表面质量和污染水平可能会有所不同,预清洗条件可能需要定制,以达到一致和期望的纹理化结果。
2022-03-17 15:23:08501 NH4OH和H2O2,和/或四甲基氢氧化铵(TMAH)和乙二胺四乙酸(EDTA)的一步清洗溶液对硅表面粗糙度和刻蚀速率的影响。讨论了TMAH溶液与硅表面的相互作用机理。此外,还分析了颗粒、有机物和金属杂质,以评估清洁效率。还评价了用这种新型清洗液清洗后栅氧化层的电特性
2022-03-21 13:39:405472 在许多半导体器件的制造中,硅是最有趣和最有用的半导体材料。 在半导体器件制造中,各种加工步骤可分为四大类,即沉积、去除、图形化和电性能的修改。 在每一步中,晶片清洗都是开发半导体电子器件的首要和基本步骤。 清洗过程是在不改变或损坏晶圆表面或基片的情况下去除化学物质和颗粒杂质。
2022-04-01 14:25:332948 引言 本文考虑了范德华相互作用的2个数量级范围,以考虑了实际粒子的形状和材料,将这些相互作用与静电电荷、阻力、表面张力、冲击波、高加速度和气溶胶粒子所产生的排斥力进行相互比较,可以预测不同清洗
2022-04-08 17:22:531231 本文考虑了范德华相互作用的2个数量级范围,以考虑了实际粒子的形状和材料,将这些相互作用与静电电荷、阻力、表面张力、冲击波、高加速度和气溶胶粒子所产生的排斥力进行相互比较,可以预测不同清洗过程的内在
2022-04-11 16:48:42520 硅晶片的蚀刻预处理方法包括:对角度聚合的硅晶片进行最终聚合处理,对上述最终聚合的硅晶片进行超声波清洗后用去离子水冲洗,对上述清洗和冲洗的硅晶片进行SC-1清洗后用去离子水冲洗,对上述清洗和冲洗的硅晶片进行佛山清洗后用去离子水冲洗的步骤,对所有种类的硅晶片进行蚀刻预处理,特别是P(111)。
2022-04-13 13:35:46852 法与添加臭氧的超纯水相结合的新清洗法,与以往的方法相比,具有更好的清洗能力,在抑制自然氧化膜生成的同时,可以在短时间内完全除去晶片表面的有机物。
2022-04-13 15:25:211593 本文利用CZ、FZ和EPI晶片,研究了湿式化学清洗过程对硅晶片表面微粒度的影响。结果表明,表面微粗糙度影响了氧化物的介电断裂~特性:随着硅基底的微粗糙度的增加,氧化物的微电击穿会降解。利用
2022-04-14 13:57:20459 本发明公开了一种用湿式均匀清洗半导体晶片的方法,所公开的本发明的特点是:具备半导体晶片和含有预定清洁液的清洁组、对齐上述半导体晶片的平坦区域,使其不与上述清洁组的入口相对、将上述对齐的半导体晶片浸入
2022-04-14 15:13:57604 本文介绍了新型的全化学晶片清洗技术,研究它们是否可以提供更低的水和化学消耗的能力,能否提供每种技术的工艺应用、清洁机制、工艺效益以及考虑因素、环境、安全、健康(ESH)效益、技术状态和供应商信息的可用信息。
2022-04-21 12:28:40258 本文阐述了金属杂质和颗粒杂质在硅片表面的粘附机理,并提出了一些清洗方法。
2022-05-11 16:10:274 本文介绍了我们华林科纳半导体将空间交替相移(SAPS)兆频超声波技术应用于TSV晶片的刻蚀后清洗工艺,SAPS技术通过在兆频超声波装置和晶片之间的间隙中改变兆频超声波的相位,在整个晶片的每个点上提供
2022-05-26 15:07:03700 引言 描述了溢流晶片清洗工艺中的流场。该信息被用于一项倡议,其主要目的是减少晶片清洗中的用水量。使用有限元数值技术计算速度场。大部分的水无助于晶片清洗。 介绍 清洗步骤占工厂中使用的ulaa纯水
2022-06-06 17:24:461044 表面和亚微米深沟槽的清洗在半导体制造中是一个巨大的挑战。在这项工作中,使用物理数值模拟研究了使用脉动流清洗毯式和图案化晶片。毯式晶片清洗工艺的初步结果与文献中的数值和实验结果吻合良好。毯式和图案化晶片的初步结果表明,振荡流清洗比稳定流清洗更有效,并且振荡流的最佳频率是沟槽尺寸的函数。
2022-06-07 15:51:37291 解过程的基本原理。本文提出了一个数学模型,它使用了基本的物理机制并提供了一个综合的过程模拟器。该模型包括流体流动,静电效应,以及整体和表面的相互作用。该模拟器被应用于研究具有铪基高k微米和纳米结构的图案化晶片的清洗
2022-06-08 17:28:50865 本文讲述了我们华林科纳的一种在单个晶圆清洗工艺中使用新型清洗溶液的方法,该方法涉及在单一晶片模式下使用清洗溶液,并且清洗溶液包括至少包括氢氧化铵(NH-OH)、过氧化氢(HO)、水(HO)和螯合剂
2022-06-30 17:22:112101 虽然听起来可能没有极紫外(EUV)光刻那么性感,但对于确保成功的前沿节点、先进半导体器件制造,湿法晶片清洗技术可能比EUV更重要,这是因为器件的可靠性和最终产品的产量都与晶片的清洁度直接相关,因为晶片要经过数百个图案化、蚀刻、沉积和互连工艺步骤。
2022-07-07 16:24:231578 的实验和理论分析来建立晶片表面清洁技术。本文解释了金属和颗粒杂质在硅片表面的粘附机理,并提出了一些清洗方法。 介绍 LSI(大规模集成电路)集成密度的增加对硅片质量提出了更高的要求。更高质量的晶片意味着晶体精度、成形质量和
2022-07-11 15:55:451025 溶液中颗粒和晶片表面之间发生的基本相互作用是范德华力(分子相互作用)和静电力(双电层的相互作用)。近年来,与符合上述两种作用的溶液中的晶片表面上的颗粒粘附机制相关的研究蓬勃发展,并为阐明颗粒粘附机制做了大量工作。
2022-07-13 17:18:441491 南方科技大学顾均等人对目前已报道的串联CO2RR催化剂中CO传质行为进行了合理分析和总结。首先,作者讨论了生成CO的催化剂与Cu之间的相互作用,包括:①串联催化剂如何打破线性比例关系;
2022-08-22 10:46:351692 氧化石墨烯(GO)是二维材料中的一颗冉冉升起的新星,但它与液态水的相互作用仍然是一个悬而未决的问题:难以在原子尺度上进行实验表征,并且通过经典方法进行建模无法正确描述化学反应性。
2022-08-31 16:00:291024 Weld 回忆道:“Victor 提出的问题是,如果不是单纯的无相互作用的量子系统,由于干涉而保持稳定,而是有一堆这样的量子转子,它们全部可以碰撞和相互作用,会发生什么?局域化会持续存在,还是会被相互作用破坏?”
2022-10-27 09:37:24531 我们日常生活中遇到的几乎所有现象都可以用这两种相互作用描述,但到了20世纪,我们渐渐遇到了这两种理论无法解释的现象——原子核结构与中子衰变。
2022-11-23 11:41:391289 电子发烧友网站提供《工程微生物相互作用的工具包.zip》资料免费下载
2022-12-13 09:42:370 等离激元是金属表面电子的集体振荡,在金属纳米材料中比较常见。研究电子和声子之间相互作用机制对理解等离激元的能量弛豫至关重要。文献报道了两种典型的电子能量弛豫过程。
2023-01-09 14:37:58429 北京工业大学开发了一种新的策略来实验表征W/Cu边界的连通性和相互作用。通过实验所得光谱与模拟光谱进行了比较,发现W/Cu界面的连通性和相互作用具有独特的特征。因此,W和Cu相的连通性可以被量化
2023-02-10 14:19:47700 概述 在涉及复杂的多物理系统的光学工程中,光及其与不同材料和结构的相互作用的高效和精确建模是一个巨大的挑战,模拟的使用可以提前对光学产品设计和系统功能的理解,反过来又可以指导产品进行如何的改进和选材
2023-05-16 15:52:23383 本文介绍了激光在碳化硅(SiC)半导体晶圆制程中的应用,概括讲述了激光与碳化硅相互作用的机理,并重点对碳化硅晶圆激光标记、背金激光表切去除、晶粒隐切分片的应用进行了介绍。
2023-05-17 14:39:041222 超导量子比特与微小的电流一起工作,这些电流以每秒约一百亿次的频率在电路中来回移动。它们使用微波光子(光粒子)相互作用。它们的频率与手机使用的频率相似。
2023-05-22 12:52:42258 21世纪将是光的世纪,光学与微电子学、材料科学、人工智能、生命科学等多学科交叉融合日趋深入。光与物质之间的相互作用已成为许多重要技术的基础,推动了物质科学的突破与发展。2023年6月2-4日,闪光
2023-05-30 16:35:26323 在半导体和太阳能电池制造过程中,清洗晶圆的技术的提升是为了制造高质量产品。目前已经有多种湿法清洗晶圆的技术,如离子水清洗、超声波清洗、低压等离子和机械方法。由于湿法工艺一般需要使用含有有害化学物质的酸和碱溶液,会产生大量废水,因此存在废物处理成本和环境监管等问题。
2023-06-02 13:33:211021 光在激光器中是经过以下过程产生的:物质中的电子从激发态能级跃迁到较低能级,发射光子,贡献于激光 束的产生。因此,光与物质之间的基本相互作用是分析激光器运行和激光特性的基础。这一节简略描述激光 材料
2023-06-12 10:37:54632 都被磁铁的吸引力所磁化。磁铁相互作用当将永磁体置于干簧开关附近时,簧片被磁化后具有磁极性,如图所示。当外部磁场变得足够强时,簧片因磁性吸引力闭合。干簧簧片已经过退
2021-05-25 15:08:47790 磁铁会释放磁通线,干簧开关受感应而关闭组件。干簧开关这种相互作用在不消耗任何功率的情况下发生,且可进行数十亿次可靠操作。磁铁相互作用的基础干簧开关和磁铁的相互作用
2021-05-26 10:35:442148 而产生的一种新型“免清洗”的焊料出现了,而这款有什么作用呢,怎么使用,接下来大家可以了解一下:免清洗型助焊剂是一种不含卤化物活性剂,焊接后不需要清洗的新型助焊剂。使用这类助焊剂不但能节约对清洗设备和清洗溶
2021-11-08 14:39:13991 线性回归中相互作用项的综合指南
2023-07-05 16:30:30982 相较于共价键相互作用,分子内非共价相互作用是一种弱的两个原子之间或者两个基团之间的非键相互作用。
2023-07-31 17:12:43561 霍尔效应源于带电粒子在磁场中的运动,它对材料的描述具有深远的影响,其影响远远超出了凝聚态物质的范围。了解相互作用系统中的这种效应是一个根本性的挑战,即使对于小磁场也是如此。
2023-08-01 15:59:31323 激光加工是利用激光束与材料相互作用的特性对材料进行去除加工 、增材制造 、 材料改性以及微细加工的一门加工技术。
2023-08-08 14:41:161306 背景 尽管我们在宏观长度尺度上感知地质过程,但地质结构的力学行为可能会受到岩石微观矿物结构以及接触矿物表面微观尺度相互作用的显着影响。矿物颗粒之间的微观和纳米级空间通常含有流体和水,它们可以反应
2023-08-22 06:26:56135 中微子是一种非常微小的基本粒子,它几乎不与其他物质相互作用,所以它可以穿透整个地球而不被阻挡。
2023-08-30 16:02:49497 激光清洗技术是激光技术在工程领域的一种成功应用,其基本原理是利用激光能量密度高的特点,使激光与工件基底上附着的污染物相互作用,以瞬间受热膨胀、熔化、气体挥发等形式与工件基底分离。激光清洗技术具有高效
2023-10-29 08:07:49883 文本介绍了用光子连接悬浮在真空中的纳米粒子,并控制它们之间的相互作用的实验。这展示了一种在宏观尺度上实现量子纠缠和量子信息传输的可能性。
2024-03-20 11:47:09177
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