本文展示了一种使用连续湿法化学表面活化(即SPM→RCAl清洗)结合硅和石英玻璃晶片的键合方法。经过200 ℃的多步后退火，获得了无空洞或微裂纹的牢固结合，基于详细的表面和键合界面表征，建立
2022-05-13 16:08:32
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在整个晶圆加工过程中，仔细维护清洁的晶圆表面对于在半导体器件制造中获得高产量至关重要。因此，湿式化学清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中应用最重复的处理步骤。
2023-03-30 10:00:091940 
本实用新型涉及云计算机设备技术领域，具体为一种新型云计算机设备。背景技术：云计算是基于互联网的相关服务的增加、使用和交互模式，通常涉及通过互联网来提供动态易扩展且经常是虚拟化的资源。通过云计算
2021-09-02 07:19:26
一种新型光纤位移传感器的设计
2012-08-14 23:19:19
一种新型单相脉冲整流器
2012-08-20 17:00:38
一种新型多协作中继选择协议研究
2012-08-06 13:35:31
请求大佬详细介绍一下一种新型微弱激光检测系统
2021-04-21 06:19:40
一种新型的电梯门机控制系统电梯的开关门过程是一个变速运动过程 ,需要对电梯门系统的驱动电机进行调速控制；本文提出了一种以高性能单片微机87C196MC 为核心的电梯门机变频调速控制系统，功率驱动电路
2009-10-06 08:59:56
一种新型的矩阵键盘扫描方式
2016-10-09 21:37:27
波长选择开关(WSS)被认为是最重要的波长引擎技术,已成为运营商在下一代网络部署中的关键器件。提出了一种新型的波长选择开关结构,用基于一维的微电机系统(MEMS)转镜实现切换的功能和透射式MEMS
2010-06-02 10:05:15
一种新颖的ＺＶＺＣＳＰＷＭ全桥变换器
2012-04-08 12:46:49
新型铜互连方法—电化学机械抛光技术研究进展多孔低介电常数的介质引入硅半导体器件给传统的化学机械抛光（ＣＭＰ）技术带来了巨大的挑战，低ｋ 介质的脆弱性难以承受传统ＣＭＰ 技术所施加的机械力。一种结合了
2009-10-06 10:08:07
新型非联网2.4GHz技术为什么会是一种理想的选择？
2021-05-28 06:15:05
LabVIEW开发新型电化学性能测试设备
开发了一种基于Arduino和LabVIEW的新型电化学性能测试装置，专门用于实验电池，特别是在锂硫（Li-S）技术领域的评估。这种装置结合了简单、灵活
2023-12-10 21:00:05
1、全自动化的在线式清洗机 一种全自动化的在线式清洗机，该清洗机针对SMT/THT的PCBA焊接后表面残留的松香助焊剂、水溶性助焊剂、免清洗性助焊剂/焊膏等有机、无机污染物进行彻底有效的清洗
2021-02-05 15:27:50
不足之处在于废液和废水处理是一个较为复杂和尚待彻底解决的问题。 3、免清洗技术 在焊接过程中采用免清洗助焊剂或免清洗焊膏，焊接后直接进入下道工序不再清洗，免清洗技术是目前使用最多的一种替代技术，尤其是
2018-09-14 16:39:40
抄板之免清洗技术 在焊接过程中采用免清洗助焊剂或免清洗焊膏，焊接后直接进入下道工序不再清洗，免清洗技术是目前使用最多的一种替代技术，尤其是移动通信产品基本上都是采用免洗方法来替代ODS.目前国内
2018-09-13 15:47:25
本帖最后由 gk320830 于 2015-3-9 08:22 编辑
1、免清洗技术 在焊接过程中采用免清洗助焊剂或免清洗焊膏，焊接后直接进入下道工序不再清洗，免清洗技术是目前使用最多的一种
2012-07-23 20:41:56
定义的CSP分类中。晶片级CSP是多种应用的一种低成本选择,这些应用包括EEPROM等引脚数量较少的器件，以及ASIC和微处理器。CSP采用晶片级封装(WLP)工艺加工，WLP的主要优点是所有装配
2018-08-27 15:45:31
什么是绿色无线通信的新型基站架构？基于软件无线电技术的新型基站架构是怎样设计的？
2021-05-27 06:27:18
分享一种Bluetooth 2.1+EDR版本的蓝牙技术
2021-05-26 06:45:04
分享一种CameraCube新型图像传感技术
2021-06-08 09:29:49
本文根据国内外线缆测试技术的发展及生产企业的实际要求，设计了一种新型便携式线缆组快速测试系统。该测试系统采用两块CPLD 用于接口电路，从而实现多组线缆（内有多条导线）同时测试，检测线缆的通断、短路和错接情况，进而达到快速检测线缆连通性能的目的。
2021-05-08 06:04:28
有机物光纤的特点是什么？一种新型有机物光纤的全光交换系统设计与实现
2021-06-03 06:45:33
新型车载影音系统的工作原理是什么？如何去设计一种新型车载影音系统？
2021-05-12 06:46:11
为什么要提出一种新型AC-PDP驱动电路？新型AC-PDP驱动电路的设计思想及其计算机仿真新型AC-PDP驱动电路的具体实现
2021-04-21 07:00:47
本文重点剖析了全桥模拟型D类功放设计要素，实现了一种基于NXP公司新型绿色能效模拟D类功放TFA9810T电路设计，并重点对绿色节能高效、高输出功率、低温升效应、PCB布局、EMI抑制几个方面进行总结分析。
2021-04-22 06:20:52
在深亚微米工艺条件下设计了一种新型电流灵敏放大器，该电流灵敏放大器的优势在于响应速度快，并且可以在较低电源电压和恶劣环境下正常工作。
2021-04-20 06:08:25
在本设计中，设计了一种新型的应用pin diodes的射频开关转换电路，实现的功能是4路RF输入信号选择其中任意2路RF信号输出。
2021-06-04 06:55:00
什么是DPGA（数字可编程增益放大器）？如何设计一种采用发散指数曲线理念的新型DPGA？
2021-04-23 07:05:37
接近传感器是如何定义的？接近传感器有哪些应用？接近传感器的一种新型应用是什么？
2021-06-16 07:37:50
本文根据国内外线缆测试技术的发展及生产企业的实际要求，设计了一种新型便携式线缆组快速测试系统。该测试系统采用两块CPLD 用于接口电路，从而实现多组线缆（内有多条导线）同时测试，检测线缆的通断、短路和错接情况，进而达到快速检测线缆连通性能的目的。
2021-05-14 06:19:16
根据供电企业的实际需要，采用无线技术设计了一种新型电缆接头温度监测系统终端。
2021-04-09 06:05:47
本文介绍了一种新型UHF频段RFID读写器设计方案。
2021-06-01 06:33:21
基于FPGA的新型数字微镜芯片测试系统是由哪些部分组成的？怎样去设计一种基于FPGA的新型数字微镜芯片测试系统？
2021-11-10 06:05:57
怎样去设计一种基于STM32的负压式玻璃清洗机器人呢？有哪些操作流程？
2021-10-14 08:47:00
怎样去设计一种基于电磁感应定律的化学污水流量计选择电路呢？其有哪些功能？
2021-11-10 07:21:00
的保洁维护。由停电作业转变为带电维护，是对全社会设备维护技术的一次革新，是对社会发展和文明进步的积极贡献。传统清洗维护传统的清洗维护方法相当落后：用“皮老虎”吹拂，用小毛刷掸刷，用酒精棉球擦拭等等，效率
2020-09-10 08:45:55
求一种新型WCDMA直放站PA的设计方案
2021-05-26 06:14:52
求一种新型低温科里奥利质量流量计
2021-05-06 06:56:40
请求大佬分享一种新型光电定向系统的设计与实现
2021-04-22 06:16:37
求一种新型系统级可编程芯片的设计方案
2021-05-06 07:44:32
求一种DSP+CPLD新型的智能仪器的设计方案
2021-05-08 07:54:25
求一种可以让汽车中电容传感器的应用数量大幅增长的新型测量技术？
2021-05-11 07:04:26
本文以传统的电磁式系统为基础，研制一种使用红外辐射技术的新型转速测量仪，安装方便，对周围环境要求不高，可以很容易地完成转速的测量。具有较宽的动态测量范围，测量精度较高。
2021-05-08 06:46:34
进入下道工序不再清洗，免清洗技术是目前使用最多的一种替换技术，尤其是移动通讯产品基本上都是采用免洗方法来替换ODS。目前海内外已经开发出良多种免洗焊剂，海内如北京晶英公司的免清洗焊剂。免清洗焊剂大致
2018-09-13 15:50:54
怎么设计一种新型射频开关转换电路？射频开关转换电路设计步骤有哪些？
2021-04-21 07:06:21
怎样去设计一种全高清H264视频硬解码系统？如何对全高清H264视频硬解码系统进行测试？
2021-06-01 07:12:58
怎样去设计一种新型宽带圆极化微带天线？
2021-05-31 06:10:06
为什么要设计一种新型电压基准电路？怎样去设计一种新型电压基准电路？
2021-04-22 06:37:20
为什么要提出一种基于AVR的新型防汽车追尾安全装置设计？怎样去设计一种新型防汽车追尾安全装置？
2021-05-12 06:02:32
ADXL202工作原理是什么？ADXL202的抗干扰设计思想是什么？车载电子罗盘中的一种新型抗干扰设计
2021-05-13 07:01:36
研究人员开发了一种新型的无线充电发射器，它可以以90% 的高效率在近距离为多个设备充电。无线充电技术不再依赖于插头、插座和充电板来充电，使得人们的生活更加轻松。世界各地的研究人员都在尝试制造真正
2022-03-03 11:10:26
叙述了凝汽器铜管化学清洗的优点和在清洗过程中必须注意的几个问题，并且用实例进一步说明化学清洗还能够有效防止凝汽器铜管的腐蚀。
2010-02-03 11:43:55
8 本发明的工艺一般涉及到半导体晶片的清洗。更确切地说，本发明涉及到可能存在于被研磨的单晶硅晶片的表面上的有机残留物、金属杂质和其它特定的沾污物的清洗处理步骤的顺序。 集成电路制造中所用的半导体晶片
2020-12-29 14:45:211999 近日，中国科学院微系统与信息技术研究所第八研究室宓现强课题组通过同时引入电化学生物传感器、DNA四面体探针和微流控芯片，开发了一种新型的微流控-电化学检测系统
2021-05-30 08:58:412748 
一种新型的多智能体深度强化学习算法
2021-06-23 10:42:4736 [技术领域] 本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体地说是一种酸性化学品供应控制系 统。 由于半导体行业中芯片生产线的工作对象是硅晶片，而能在硅晶片上蚀刻图形 以及清洗硅晶片上的杂质、微粒子的化学
2023-04-20 13:57:0074 索引术语—清洗、化学机械抛光、乙二胺四乙酸、多晶硅、三氧化二氢。 摘要 本文为后化学机械抛光工艺开发了新型清洗液，在稀释的氢氧化铵(NH4OH+H2O)碱性水溶液中加入表面活性剂四甲基氢氧化铵
2022-01-26 17:21:18550 
半导体制造工业中的湿法清洗/蚀刻工艺用于通过使用高纯化学品清洗或蚀刻来去除晶片上的颗粒或缺陷。扩散、光和化学气相沉积(CVD)、剥离、蚀刻、聚合物处理、清洁和旋转擦洗之前有预清洁作为湿法清洁/蚀刻
2022-02-22 13:47:511696 
和极低温的关于向粒子喷射氮气溶胶等“清洗能力相关技术”进行了大量研究;另一方面，关于通过清洗暂时远离晶片的粒子，重新附着到晶片上，进行叶片式清洗，在干燥时晶片和保持晶片的转盘高速旋转。
2022-02-22 16:01:08904 
清洗都是开发半导体电子器件的首要和基本步骤。清洗过程是在不改变或损坏晶圆表面或基片的情况下去除化学物质和颗粒杂质。 介绍 半导体是一种固体物质，其导电性介于绝缘体和导体之间。半导体材料的定义性质是，它可以掺杂
2022-02-23 17:44:201426 摘要 该公司提供了一种用于清洗半导体晶片的方法和设备 100，该方法和方法包括通过从装载端口 110 中的盒中取出两个或多个晶片来填充化学溶液的第一罐将晶片放入。将晶片放入装满液体的第一槽(137
2022-02-28 14:56:03927 
摘要 研究了泵送方法对晶片清洗的影响。两种类型的泵，例如隔膜泵和离心泵，用于在湿浴和单晶片工具中循环和供应用于晶片清洁的去离子水。清洗研究表明，泵送方法对清洗性能有很大影响。实验研究表明，在 MLC
2022-03-02 13:56:46521 
摘要 本文介绍了半导体晶片加工中为颗粒去除(清洗)工艺评估而制备的受污染测试晶片老化的实验研究。比较了两种晶片制备技术:一种是传统的湿法技术，其中裸露的硅晶片浸泡在充满颗粒的溶液中，然后干燥；另一种
2022-03-04 15:03:502588 
残留物由不同量的聚乙二醇或矿物油(切削液)、铁和铜的氧化物、碳化硅和研磨硅，这些残留物可以通过锯切过程中产生的摩擦热烧到晶片表面，为了去除这些残留物，需要选择正确的化学物质来补充所使用的设备。 在晶片清洗并给予
2022-03-15 16:25:37320 
本文介绍了新兴的全化学晶片清洗技术，研究它们提供更低的水和化学消耗的能力，提供了每种技术的工艺应用、清洁机制、工艺效益和考虑因素、环境、安全和健康(ESH)效益和考虑因素、技术状态和供应商信息的可用信息。
2022-03-16 15:24:57308 
单片SPM系统使用了大量的化学物质，同时满足28nm以下的清洁规格。 本文描述了在集成系统Ultra-C Tahoe中使用批量SPM系统和单晶片清洗，结果达到了技术规范，使用了不到单晶片系统中使用的80%的SPM化学物质。
2022-04-01 14:22:551155 
在许多半导体器件的制造中，硅是最有趣和最有用的半导体材料。 在半导体器件制造中，各种加工步骤可分为四大类，即沉积、去除、图形化和电性能的修改。 在每一步中，晶片清洗都是开发半导体电子器件的首要和基本步骤。 清洗过程是在不改变或损坏晶圆表面或基片的情况下去除化学物质和颗粒杂质。
2022-04-01 14:25:332948 
法与添加臭氧的超纯水相结合的新清洗法，与以往的方法相比，具有更好的清洗能力，在抑制自然氧化膜生成的同时，可以在短时间内完全除去晶片表面的有机物。
2022-04-13 15:25:211593 
本文利用CZ、FZ和EPI晶片，研究了湿式化学清洗过程对硅晶片表面微粒度的影响。结果表明，表面微粗糙度影响了氧化物的介电断裂~特性：随着硅基底的微粗糙度的增加，氧化物的微电击穿会降解。利用
2022-04-14 13:57:20459 
本发明公开了一种用湿式均匀清洗半导体晶片的方法,所公开的本发明的特点是:具备半导体晶片和含有预定清洁液的清洁组、对齐上述半导体晶片的平坦区域，使其不与上述清洁组的入口相对、将上述对齐的半导体晶片浸入
2022-04-14 15:13:57604 本文的目标是讨论一种新技术，它可以在保持竞争力的首席运营官的同时改善权衡。 将开发湿化学抗蚀剂去除溶液的能力与对工艺和工具要求的理解相结合，导致了用于光刻胶去除的单晶片清洗技术的发展。 该技术针对
2022-05-07 15:11:11621 
引言 描述了溢流晶片清洗工艺中的流场。该信息被用于一项倡议，其主要目的是减少晶片清洗中的用水量。使用有限元数值技术计算速度场。大部分的水无助于晶片清洗。 介绍 清洗步骤占工厂中使用的ulaa纯水
2022-06-06 17:24:461044 
表面和亚微米深沟槽的清洗在半导体制造中是一个巨大的挑战。在这项工作中，使用物理数值模拟研究了使用脉动流清洗毯式和图案化晶片。毯式晶片清洗工艺的初步结果与文献中的数值和实验结果吻合良好。毯式和图案化晶片的初步结果表明，振荡流清洗比稳定流清洗更有效，并且振荡流的最佳频率是沟槽尺寸的函数。
2022-06-07 15:51:37291 
华林科纳使用多步清洗工艺清洗晶片的半导体衬底表面，其中清洗工艺的最后一步包括用HMSO和HCO的溶液清洗，由此在晶片表面上形成化学氧化物初始层。此后，晶片的表面被氧化以形成热氧化层，其中在集成电路的制造中，化学氧化
2022-06-17 17:20:40783 
本文讲述了我们华林科纳的一种在单个晶圆清洗工艺中使用新型清洗溶液的方法，该方法涉及在单一晶片模式下使用清洗溶液，并且清洗溶液包括至少包括氢氧化铵（NH-OH）、过氧化氢(HO)、水(HO)和螯合剂
2022-06-30 17:22:112101 
虽然听起来可能没有极紫外(EUV)光刻那么性感，但对于确保成功的前沿节点、先进半导体器件制造，湿法晶片清洗技术可能比EUV更重要，这是因为器件的可靠性和最终产品的产量都与晶片的清洁度直接相关，因为晶片要经过数百个图案化、蚀刻、沉积和互连工艺步骤。
2022-07-07 16:24:231578 
的实验和理论分析来建立晶片表面清洁技术。本文解释了金属和颗粒杂质在硅片表面的粘附机理，并提出了一些清洗方法。 介绍 LSI(大规模集成电路)集成密度的增加对硅片质量提出了更高的要求。更高质量的晶片意味着晶体精度、成形质量和
2022-07-11 15:55:451025 
在半导体和太阳能电池制造过程中，清洗晶圆的技术的提升是为了制造高质量产品。目前已经有多种湿法清洗晶圆的技术，如离子水清洗、超声波清洗、低压等离子和机械方法。由于湿法工艺一般需要使用含有有害化学物质的酸和碱溶液，会产生大量废水，因此存在废物处理成本和环境监管等问题。
2023-06-02 13:33:211021 
激光清洗技术是激光技术在工程领域的一种成功应用，其基本原理是利用激光能量密度高的特点，使激光与工件基底上附着的污染物相互作用，以瞬间受热膨胀、熔化、气体挥发等形式与工件基底分离。激光清洗技术具有高效
2023-10-29 08:07:49883 
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