被划分为与晶体表面的不同状态和各种蚀刻机制相对应的部分。蚀刻后的晶体表面的形状与同一溶液中沿同一方向蚀刻的凹槽的轮廓密切相关。 介绍 本文研究（100）砷化镓在硫酸、过氧化氢和水溶液中的化学蚀刻具有重要的技术和科学意义。该解决方案通常用于
2022-01-25 10:32:24
2215 
本文章提出了一种新的半导体超卤素深度分析方法，在通过臭氧氧化去除一些硅原子层，然后用氢氟酸蚀刻氧化物后，重复测量，然后确定了成分和表面电位的深度分布，因此这种分析技术提供了优于0.5纳米的深度分辨率
2022-04-07 13:18:16949 
本文研究了硅的氧化物和氮化物的气相氟化氢蚀刻作用，新的氧化物选择性模式，概述了通过将无水高频与控制量的水蒸汽混合而产生高频蒸汽蚀刻剂的实现方法，描述了一种通过将氮气通过高频水溶液而引入高频蒸汽的系统。
2022-04-11 16:41:191101 
本文提出了一种利用原子力显微镜(AFM)测量硅蚀刻速率的简单方法，应用硅表面的天然氧化物层作为掩膜，通过无损摩擦化学去除部分天然氧化物，暴露底下新鲜硅。因此，可以实现在氢氧化钾溶液中对硅的选择性蚀刻，通过原子精密的AFM可以检测到硅的蚀刻深度，从而获得了氢氧化钾溶液中精确的硅蚀刻速率。
2022-04-22 14:06:011266 
项工作中，使用光刻和蚀刻技术将晶体硅(c- Si)晶片深度蚀刻至厚度小于20 μm。使用SPR 220-7.0和SU-8光刻胶，使用四甲基氢氧化铵(TMAH)湿法各向异性蚀刻和基于等离子体的反应离子蚀刻(RIE)。二氧化硅用作TMAH蚀刻的制造层。4英寸c-Si晶片的TMAH蚀刻在80℃的温度
2022-06-10 17:22:587362 
引言 氢氧化钾(KOH)是一种用于各向异性湿法蚀刻技术的碱金属氢氧化物，是用于硅晶片微加工的最常用的硅蚀刻化学物质之一。各向异性蚀刻优先侵蚀衬底。也就是说，它们在某些方向上的蚀刻速度比在其
2022-07-14 16:06:062774 
本文分享了一种适用于模拟/数字混合信号环境的接地技术。
2021-04-25 07:46:35
`高纯氧化铝，作为一种新型高纯材料，其作用日趋扩大。高纯氧化铝呈白色微粉，粒度均匀，易于分散，化学性能也很稳定，高温收缩性能也适中，具有良好的烧结性能转化率，是生产耐热、耐磨、耐腐产品的基本原料。高
2016-10-21 13:51:08
`什么是硅晶圆呢，硅晶圆就是指硅半导体积体电路制作所用的硅晶片。晶圆是制造IC的基本原料。硅晶圆和晶圆有区别吗？其实二者是一个概念。集成电路（IC）是指在一半导体基板上，利用氧化、蚀刻、扩散等方法
2011-12-02 14:30:44
为了在基板上形成功能性的MEMS结构，必须蚀刻先前沉积的薄膜和/或基板本身。通常，蚀刻过程分为两类：浸入化学溶液后材料溶解的湿法蚀刻干蚀刻，其中使用反应性离子或气相蚀刻剂溅射或溶解材料在下文中，我们将简要讨论最流行的湿法和干法蚀刻技术。
2021-01-09 10:17:20
Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵铈产品，1020AC是不含硝酸的低速蚀刻剂，两种产品均可配合正负
2008-09-10 22:38:44
Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵铈产品，1020AC是不含硝酸的低速蚀刻剂，两种产品均可配合正负
2008-09-22 23:22:07
设备的工业生产中。但是在许多情况下，这两者之间的区别已经减少。一种新的刻蚀技术，即深反应离子刻蚀，使结合体微加工和梳状结构的典型性能以及表面微加工的典型面内操作相结合成为可能。尽管在表面微机械加工中通常
2021-01-05 10:33:12
腐蚀掉,称为蚀刻。要注意的是,这时的板子上面有两层铜.在外层蚀刻工艺中仅仅有一层铜是必须被全部蚀刻掉的,其余的将形成最终所需要的电路。这种类型的图形电镀,其特点是镀铜层仅存在于铅锡抗蚀层的下面。另外一种
2018-11-26 16:58:50
目前，有三种天线制造技术：蚀刻/冲压天线（etched/punchedantenna）、印刷天线（printedantenna）和绕线式天线。其中，绕线和印刷技术在中国大陆得到了较为广泛
2019-06-26 06:17:24
有效期--一年（15-25 °C）铬蚀刻剂Chromium Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵
2008-11-01 00:41:39
有效期--一年（15-25 °C）铬蚀刻剂Chromium Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵
2008-11-01 00:43:24
有效期--一年（15-25 °C）铬蚀刻剂Chromium Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵
2008-11-05 23:50:16
有效期--一年（15-25 °C）铬蚀刻剂Chromium Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵
2008-11-05 23:48:44
有效期--一年（15-25 °C）铬蚀刻剂Chromium Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵
2008-12-30 18:44:48
：MacEtch 是一种湿法蚀刻工艺，可提供对取向、长度、形态等结构参数的可控性，此外，它是一种制造极高纵横比半导体纳米结构的简单且低成本的方法。 3 该工艺利用了在氧化剂（例如过氧化氢 (H2O2)）和酸（例如
2021-07-06 09:33:58
氧化物）中的高质量电介质。此外，在加工过程中，热生长的氧化物可用作注入、扩散和蚀刻掩模。硅作为微电子材料的优势可归因于这种高质量原生氧化物的存在以及由此产生的接近理想的硅/氧化物界面。湿法蚀刻包括
2021-07-06 09:32:40
颗粒4、去除原生氧化物。其中，单独使用 DI-O3 水无法去除原生氧化物，但臭氧技术可以在裸硅上重新生成干净的氧化物以满足某些工艺要求，如上一节所述。对于其他过程，DI-O3 水可以单独工作，也可以与其
2021-07-06 09:36:27
的宽带隙使其可以用于蓝色/紫外线发光二极管和激光二极管，并且由于其固有载流子浓度低，可以在非常高的温度下工作。 氧化锌是一种具有纤锌矿晶体结构的直接宽带隙材料，可用于气体传感器、透明电极、液晶显示
2021-10-14 11:48:31
发射极感兴趣，这可以避免AlGaAs 的氧化和深能级问题。用于器件制造的关键技术操作之一是湿化学蚀刻。在我们之前的论文中，我们介绍了一组在 HC1:C H3COOH:H2O2（所谓的 KKI）溶液中
2021-07-09 10:23:37
晶片的时间长度 。文章全部详情，请加V获取：hlknch / xzl1019据我们所知，只有一篇参考文献引用了在 GaAs 上使用预涂层原生氧化物蚀刻来提高附着力。参考研究表明，预涂层处理是有希望
2021-07-06 09:39:22
镜面硅结构时，表面的平滑度和蚀刻速率是关键参数。我们展示了一种从单晶硅创建 45° 和 90° 蚀刻平面的方法，用作微流体装置中的逆反射侧壁。该技术使用相同的光刻图案方向，但使用两种不同的蚀刻剂。用
2021-07-19 11:03:23
本文介绍一种基于虚拟串口的GPS／GSM远程定位技术。
2021-05-25 07:14:20
什么是一氧化二氮（N2O）？一氧化二氮（N2O）有什么影响？介绍一种N2O气体探测器的解决方案
2021-06-15 07:02:48
CH372是什么？有何优点？一种基于CH372芯片的USB通信技术
2021-06-07 07:01:51
IPSec协议是什么？一种基于SoC的IPSec协议实现技术
2021-05-26 07:05:43
介绍一种无线电测向技术
2021-05-26 06:40:24
本文介绍了一种汽车无线接入技术的解决方案。
2021-05-12 06:40:56
分享一种Bluetooth 2.1+EDR版本的蓝牙技术
2021-05-26 06:45:04
分享一种CameraCube新型图像传感技术
2021-06-08 09:29:49
分享一种基于基片集成波导（SIW）技术的和差模提取方法
2021-05-24 07:03:05
蚀刻 浸入蚀刻是一种半桨技术，它只需一个装满蚀刻洛液的槽，把板子整个浸入到溶液中，如图1所示。板子需要保持浸入直至蚀刻完成，这就需要很长的蚀刻时间，且蚀刻速度非常缓慢。可以通过加热蚀刻溶液的方法来
2018-09-11 15:27:47
适用范围 印制线路板制造业发达地区集中开展含铜蚀刻废液综合利用。 主要技术内容 一、基本原理 将印制线路板碱性蚀刻废液与酸性氯化铜蚀刻废液进行中和沉淀，生成的碱式氯化铜沉淀用于生产工业级硫酸铜；沉淀
2018-11-26 16:49:52
如何利用51单片机去实现一种可控硅调光的设计？其源代码该怎样去实现呢？
2022-01-17 09:34:33
分布式计算技术是什么？如何去实现一种分布式计算技术？
2021-09-24 07:52:34
测量生命体征的技术报考哪些？如何去实现一种基于传感器的人体生命体征监控技术呢？
2021-10-26 07:37:37
与电容式触控技术相比，电容式感应技术具有哪些优点？如何去实现一种基于电容式感应技术的触摸按键设计？基于电容式感应技术的触摸按键设计有哪些应用啊？
2021-07-08 06:10:46
如何去实现一种智能天线技术？求过程
2021-05-25 06:03:02
什么是硅基CMOS技术？如何去实现一种石墨烯CMOS技术？
2021-06-17 07:05:17
什么是OPC技术？如何去开发一种基于OPC技术的上位机监控系统？
2021-09-23 07:37:30
Σ-ΔADC基本原理是什么？由哪些组成的？为了解决DAC失真误差这个问题，该如何设计并仿真一种数字误差校正技术 ？
2021-04-12 07:11:54
本文将介绍和比较在硅光电子领域中使用的多种激光器技术，包括解理面、混合硅激光器和蚀刻面技术。我们还会深入探讨用于各种技术的测试方法，研究测试如何在推动成本下降和促进硅光子技术广泛普及的过程中发挥重要作用。
2021-05-08 08:14:10
Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵铈产品，1020AC是不含硝酸的低速蚀刻剂，两种产品均可配合正负
2008-09-10 22:03:40
构成高速缓存的方案有哪几种？如何去实现一种海量缓存的设计？怎样去实现一种基于DSP和ADC技术高速缓存和海量缓存？
2021-06-26 07:50:30
有线技术和无线技术有哪些区别？怎样去设计一种基于ZigBee技术的智能家居系统？
2021-09-23 07:35:46
新型非联网2.4GHz技术为什么会是一种理想的选择？
2021-05-28 06:15:05
晶片与工作台面间的空间小，气体喷出凹槽喷出的气体对蚀刻液会形成阻力，造成蚀刻液回渗太少，去除晶片边缘上的硅针效果不佳。 为了克服现有技术的不足，本发明的目的是为了解决上述问题而提供一种晶片边缘的蚀刻
2018-03-16 11:53:10
,臭氧质量浓度的控制还没有找到更好的方法,如果臭氧浓度过高,不仅会加大设备造价,同时又会对人体有危害,而臭氧浓度太小,又难以达到满意效果.所以将现代检测控制技术应用于臭氧发生设备系统中,实现臭氧质量浓度的有效控制是一个值得研究的课题.
2011-03-04 14:12:09
如何去区分燃气报警器和煤气报警器呢？燃气报警器和煤气报警器的区别再哪？有没有一种可同时监测燃气和一氧化碳的传感器呢？
2021-07-19 08:12:28
Jini的基本原理是什么？其结构是怎样的？蓝牙技术的基本原理是什么？其结构是怎样的？求一种Jini与蓝牙技术的结合应用方案
2021-06-04 06:05:46
一种基于DSP的移动平台ATP技术的应用设计
2021-05-25 07:03:21
湿蚀刻是光刻之后的微细加工过程，该过程中使用化学物质去除晶圆层。晶圆，也称为基板，通常是平面表面，其中添加了薄薄的材料层，以用作电子和微流体设备的基础；最常见的晶圆是由硅或玻璃制成的。湿法刻蚀
2021-01-08 10:15:01
的结合。因此从本质上讲，其隔离与构成其封装的组件相关。在 TI 的电容式技术中，信号信息以通过一系列蚀刻在硅芯片上的电路为基础。中间是二氧化硅构成的电容器，可通过利用边缘检测方案阻隔直接电流流动（可以
2022-11-22 06:46:06
1995年希腊科学家A.G.Nassiopuoulos等人用高分辨率的紫外线照相技术,各向异性的反应离子刻蚀和高温氧化的后处理工艺,首次在硅平面上刻划了尺寸小于20nm的硅柱和 硅线的表面结构,观察到了类似于多孔硅的光激发光现象。
2019-09-26 09:10:15
表面硅MEMS加工技术是在集成电路平面工艺基础上发展起来的一种MEMS工艺技术，它利用硅平面上不同材料的顺序淀积和选择腐蚀来形成各种微结构。什么是表面硅MEMS加工技术？表面硅MEMS加工技术先在
2018-11-05 15:42:42
一层铜是必须被全部蚀刻掉的，其余的将形成最终所需要的电路。这种类型的图形电镀,其特点是镀铜层仅存在于铅锡抗蚀层的下面。 另外一种工艺方法是整个板子上都镀铜，感光膜以外的部分仅仅是锡或铅锡抗蚀层。这种
2018-09-19 15:39:21
从数据手册看，AD9643芯片有两种管脚定义方式， 平行的LVDDS 和 多氧化(日/日/日/日)LVDS 。请问AD9643BCPZ-250属于哪一种管脚定义方式？
2023-12-06 06:54:17
我对工艺不是很懂，在氧化层上直接淀积的话是不是非晶硅？如果要单晶硅的话应该怎么做？（有个思路也可以）
2011-06-23 11:06:36
一种新型阳极氧化多孔硅技术:在适当条件下氧化多孔硅是提高多孔硅发光强度的良好途径,提出了一种新型阳极氧化方法,并探讨了该方法所涉及的阳极氧化条件。采用含CH3CSNH2 的HF
2009-12-29 23:38:47
13 一种改良过的适用于生产超精密板的蚀刻技术 Vacuum Etching T
2006-04-16 21:23:152143 臭氧发生器是用于制取臭氧的设备装置。臭氧易于分解无法储存需现场制取现场使用（但是在特殊的情况下是可以进行短时间的储存），凡是能用到臭氧的场所均需使用臭氧发生器。臭氧发生器在自来水，污水，工业氧化，空间灭菌等领域广泛应用。
2018-01-30 09:37:2722448 如何控制臭氧？ 结合臭氧的成因，控制臭氧就是要从前提物上进行控制，简而言之就是控制源头。其实我们现在控制PM2.5前提物，也是在控制臭氧的前提物，因为这两个的前提物是重合的，一个是氮氧化物，一个是
2018-06-22 10:35:144083 由于现在环境污染比较严重，大家在日常生活中都开始重视消毒杀菌了。消毒杀菌的方法有很多，比如臭氧消毒，这种是许多人选择的方法之一。臭氧是一种强消毒剂和氧化剂，臭氧在生活中的杀菌和利用可以更好地保护人体健康。
2020-04-24 17:02:122997 ，锡铅为抗蚀剂。 二、蚀刻反应基本原理 1．酸性氯化铜蚀刻液 ①．特性 -蚀刻速度容易控制，蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量 -蚀铜量大 -蚀刻液易再生和回收 ②．主要反应原理 蚀刻过程中，Cu2+有氧化性，将板面铜氧化成Cu+：Cu+CuCl2→2CuC
2020-12-11 11:40:587458 臭氧常温下是一种天蓝色的伴有腥臭味的气体，液体状态下颜色呈暗黑色，固体颜色则为蓝黑色。臭氧主要存在于离地球表面20公里的平流层下部。它吸收、阻挡和削弱对人体有害的短波紫外线，阻止其到达地球。 现在
2020-10-26 10:28:362428 臭氧作为一种在常温常压下具有鱼腥味的淡蓝色气体，氧化性很强，能杀死细菌、病毒等微生物，还能氧化多种无机和有机物，起到脱色、去味的作用，在污水处理中得到了广泛的应用。由于臭氧是一种有毒的强氧化剂，一定
2020-11-03 16:43:47859 臭氧作为一种在常温常压下具有鱼腥味的淡蓝色气体，氧化性很强，能杀死细菌、病毒等微生物，还能氧化多种无机和有机物，起到脱色、去味的作用，在污水处理中得到了广泛的应用。
2020-11-02 15:16:461007 臭氧发生器是一种用来制取臭氧的装置。臭氧容易分解，不能储存，需要现场准备和使用（特殊情况下可以短时间储存）。因此，在所有可以使用臭氧的地方都应该使用臭氧发生器。臭氧发生器广泛应用于饮用水、工业氧化、食品保鲜、空间杀菌等领域。臭氧发生器产生的臭氧气体可以直接利用，也可以通过混合装置与液体混合参与反应。
2020-12-15 14:14:441565 在半导体工业中， “绝对清洁”的要求扩展到设备（臭氧发生器，接触到的设备），这意味着不会产生颗粒，没有金属，离子或有机污染物。目前德国ANSEROS安索罗斯的臭氧发生器以及其他的臭氧处理系统已经可以“绝对清洁”的要求。
2021-09-27 17:37:09489 我们华林科纳使用K2S2O8作为氧化剂来表征基于KOH的紫外(UV)光辅助湿法蚀刻技术。该解决方案提供了良好控制的蚀刻速率，并产生了光滑的高质量蚀刻表面，同时通过原子力显微镜测量的表面粗糙度降低最小
2022-02-14 16:14:55716 
，在实现晶片通孔互联的情况下，圆角是必须的。尖角增加了光致抗蚀剂破裂的风险，光致抗蚀剂破裂用于图案化下面的金属。因此，了解最常见的各向异性蚀刻剂（氢氧化钾）的蚀刻行为以及圆角的形状非常重要。本文通过蚀刻
2022-03-07 15:26:14372 
缓冲氧化物蚀刻(BOE)或仅仅氢氟酸用于蚀刻二氧化硅在硅上晶片。 缓冲氧化蚀刻是氢氟酸和氟化铵的混合物。含氟化铵的蚀刻使硅表面具有原子平滑的表面高频。 由于这一过程中所涉及的酸具有很高的健康风险，建议用户使用在执行工艺之前，请仔细阅读材料安全数据表。
2022-03-10 16:43:35798 
本文提出了一种利用原子力显微镜(AFM)测量硅蚀刻速率的简单方法，应用硅表面的天然氧化物层作为掩膜，通过无损摩擦化学去除去除部分天然氧化物，暴露地下新鲜硅。因此，可以实现在氢氧化钾溶液中对硅的选择性蚀刻，通过原子精密的AFM可以检测到硅的蚀刻深度，从而获得了氢氧化钾溶液中精确的硅的蚀刻速率。
2022-03-18 15:39:18401 
本文采用超声增强化学蚀刻技术制备了多孔硅层，利用高频溶液和硝酸技术在p型取向硅中制备了多孔硅层。超声检测发现p型硅多孔硅层的结构，用该方法可以制备质量因子的多孔硅微腔，超声波蚀刻所导致的质量的提高
2022-04-06 13:32:13330 
本文采用超声增强化学蚀刻技术制备了多孔硅层，利用高频溶液和硝酸技术在p型取向硅中制备了多孔硅层。超声检测发现p型硅多孔硅层的结构，用该方法可以制备质量因子的多孔硅微腔，超声波蚀刻所导致的质量的提高
2022-04-15 10:18:45332 
本文章提出了一种新的半导体超卤素深度分析方法，在通过臭氧氧化去除一些硅原子层，然后用氢氟酸蚀刻氧化物后，重复测量，然后确定了成分和表面电位的深度分布，因此这种分析技术提供了优于0.5纳米的深度分辨率
2022-04-18 16:35:05261 
在本文中，结合了现有的经验和观察到的多晶氧化锌腐蚀模型，该模型可以定性地描述溅射条件、材料特性和蚀刻条件的影响。几项研究调查了溅射参数和蚀刻行为之间的关系，并提出了一种用于蚀刻的现象学结构区域模型
2022-05-09 14:27:58281 
氢氧化钾(KOH)是一种用于各向异性湿法蚀刻技术的碱金属氢氧化物，是用于硅晶片微加工最常用的硅蚀刻化学物质之一。各向异性蚀刻优先侵蚀衬底。也就是说，它们在某些方向上的蚀刻速度比在其他方向上的蚀刻
2022-05-09 15:09:201419 介绍 硅或二氧化硅已被用作牺牲层来制造独立式结构，例如微机电系统(MEMS)中的梁、悬臂和隔膜。传统的含水HF已经广泛用于蚀刻二氧化硅牺牲层，因为它成本低廉。然而，当具有高纵横比的结构在含水蚀刻
2022-05-23 17:01:43948 
受疫情影响，各大医院臭氧威胁迅速加重，医患臭氧毒气威胁。 一、臭氧是如何产生的？ 臭氧是一种氧化剂，可以与细菌、病毒直接作用，破坏它们的细胞器和DNA、RNA，因此，它广泛应用于消毒剂中、杀菌剂
2022-11-02 15:00:51532 臭氧是目前空气污染源中最常见的一种。臭氧虽然来去无踪，但对健康的危害不容忽视。臭氧浓度达到50%ppb(十亿分率，1ppb也就是十亿分之一)，人就会开始出现鼻粘膜和咽喉粘膜的影响，随着浓度的增加
2022-11-21 15:20:592503 受疫情影响，各大医院臭氧威胁迅速加重，医患臭氧毒气威胁。 一.臭氧是如何产生的？ 臭氧是一种氧化剂，可以直接与细菌结合.病毒作用，破坏它们的细胞器和细胞器DNA.RNA，因此广泛应用于消毒剂
2022-12-28 10:31:30222 金属蚀刻是一种通过化学反应或物理冲击去除金属材料的技术。金属蚀刻技术可分为湿蚀刻和干蚀刻。金属蚀刻由一系列化学过程组成。不同的蚀刻剂对不同的金属材料具有不同的腐蚀特性和强度。
2023-03-20 12:23:433172 过去利用碱氢氧化物水溶液研究了硅的取向依赖蚀刻，这是制造硅中微结构的一种非常有用的技术。以10M氢氧化钾（KOH）为蚀刻剂，研究了单晶硅球和晶片的各向异性蚀刻过程，测量了沿多个矢量方向的蚀刻速率，用单晶球发现了最慢的蚀刻面。英思特利用这些数据，提出了一种预测不同方向表面的倾角的方法
2023-05-29 09:42:40618 
器件尺寸的不断缩小促使半导体工业开发先进的工艺技术。近年来，原子层沉积(ALD)和原子层蚀刻(ALE)已经成为小型化的重要加工技术。ALD是一种沉积技术，它基于连续的、自限性的表面反应。ALE是一种蚀刻技术，允许以逐层的方式从表面去除材料。ALE可以基于利用表面改性和去除步骤的等离子体或热连续反应。
2023-06-15 11:05:05526 
关键词：氢能源技术材料，耐高温耐酸碱耐湿胶带，高分子材料，高端胶粘剂引言：蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wetetching)和干蚀刻
2023-03-16 10:30:163504 
法是最常用的一种原理，它利用臭氧在紫外波段具有特定吸收特性的原理，通过光谱技术来测量臭氧浓度。 二、臭氧检测仪的应用领域 1. 环境监测 环境监测部门使用臭氧检测仪对大气中的臭氧浓度进行实时监测，以评估空气质量。通过长
2023-06-26 16:48:24547 臭氧-去离子水 (O3 -DI) 工艺可以集成到臭氧 (O3) 具有工艺优势的各种水性应用中。 溶解在水中的臭氧也可用作 HCl 过氧化物混合物中过氧化氢的替代品，从而降低所用化学品的成本，同时
2023-07-07 17:25:07162 蚀刻是一种从材料上去除的过程。基片表面上的一种薄膜基片。当掩码层用于保护特定区域时在晶片表面，蚀刻的目的是“精确”移除未覆盖的材料戴着面具。
2023-07-12 09:26:03190 
蚀刻是一种从材料上去除的过程。基片表面上的一种薄膜基片。当掩码层用于保护特定区域时在晶片表面，蚀刻的目的是“精确”移除未覆盖的材料戴着面具。
2023-07-14 11:13:32183 
臭氧老化试验箱是一种专门用于模拟和测试材料在臭氧环境下的老化性能的设备。这种设备广泛应用于橡胶、塑料、涂料等高分子材料的研究、生产和质量控制等领域。本文将介绍臭氧老化试验箱的基本原理、技术
2023-08-22 10:16:31539 
蚀刻时间和过氧化氢浓度对ZnO玻璃基板的影响 本研究的目的是确定蚀刻ZnO薄膜的最佳技术。使用射频溅射设备在玻璃基板上沉积ZnO。为了蚀刻ZnO薄膜，使用10%、20%和30%的过氧化氢（H2O2
2024-02-02 17:56:45306 
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