电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知，EUV光刻机产能有限而且成本高昂，业界一直都在探索不完全依赖于EUV光刻机来生产高端芯片的技术和工艺。纳米
2024-03-09 00:15:00
2912 电子发烧友网报道（文/李弯弯）近期，各大视频平台疯传一条消息，称清华大学EUV项目，把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地，还在视频中配了下面这张图，表示图片
2023-09-20 08:56:502579 
电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造技术，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业，光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下，摩尔定律
2023-07-16 01:50:153008 
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。
2024-03-21 11:31:4142 
感谢您一直以来对博达智联自主研发的远程透传工具的支持与信任！为提升广大用户的操作体验，博达智联团队经过不懈努力，不断优化产品功能，将透传工具进行了全面的升级，即刻发出全新版本。相比于之前的版本
2024-03-19 08:33:3842 
ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面。 除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列，ASML 也为其 NXE 系列传统数值孔径
2024-03-14 08:42:346 
STM32CubeMX安装最新版本V6.9,但Motor Control Workbench生成项目工程，总是显示STM32CubeMX not found？
2024-03-14 07:28:38
据荷兰《电讯报》3月6日报道，因荷兰政府的反移民政策倾向，光刻机巨头阿斯麦（ASML）正计划搬离荷兰。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光刻胶膜层损坏、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻机巨头ASML传出可能因荷兰政府的反移民政策倾向而考虑迁离本国的消息，这令业界哗然。据悉，荷兰政府为阻止这一可能发生的变故，已专门成立了由首相马克·吕特亲自挂帅的“贝多芬计划”特别工作组。
2024-03-07 15:36:51209 1.STMCWB最新版本是否支持绝对值编码器？只能通过MCLIB库手动增加吗？
2.基于ST FOC库的磁编码器（SPI出绝对角度信息）只跑速度环和电流环最简单
2024-03-07 06:11:23
英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止，英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂，据报道它们的售价约为3.8亿美元
2024-03-06 14:49:01162 
ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色，其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
2024-03-05 11:26:00123 光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18400 根据资料显示，在2012年，为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用，并获得EUV光刻机的优先供应，在2012年，英特尔、台积电、三星均斥资入股了ASML。2012年7月，英特尔入股ASML获得15%股权，并出资10亿美元支持研发。
2024-02-23 17:27:59562 、新增TTS机箱模块、新增地图显示模块等。一大波超实用的新功能，一起来看看吧！体验新功能建议您将软件更新至最新版本TSMaster下载链接01工具箱相关更新工具箱模
2024-02-19 12:12:58288 
Takeishi向英国《金融时报》表示，公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C，并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月，该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。 佳能表示，与利用光曝光电路图案的传统光刻技术不同，纳米压印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:05270 
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
2024-01-29 09:37:24359 
来源：AIot工业检测，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 随着芯片需求的不断增长，芯片制造商正加大采购晶圆厂设备的力度，以提高产能。作为EUV光刻机制造商，ASML受益于这一趋势，其2023
2024-01-26 09:20:12409 关于光刻机，大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗？来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性不断提升，人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂，不仅仅涉及到底层的架构设计，还需要通过
2024-01-17 17:56:59292 linux上更新了最新版本的SDK软件后，执行编译出现了
riscv-nuclei-elf-objcopy -O verilog “NICE_Test.elf” “NICE_Test.verilog
2024-01-10 06:34:37
在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后，美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 声明：2050 及2100 光刻机出口许可证已被部分撤销 ASML日前发表声明，称荷兰政府最近部分撤销了此前颁发的NXT:2050i and NXT:2100i光刻机在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
2023-12-28 11:31:39406
总的来说，最新版本的端云一体化模板确实方便了开发者自行搭建项目，极大地简化了开发者在这上面的时间浪费。同时对应用功能的开发搭建也缩短了不少时间。
期待后续更新更多的开发模板把！
2023-12-05 14:57:39
和法规的更新正在进行。预计2023年秋季，GS1电子产品代码（EPC）全球Gen2规范将推出新版本（Gen2v3），以进一步提高RAIN RFID的部署更快、更准确。 新版本Gen2v3的推出是为了适应
2023-11-30 15:40:04183 
三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579 
虽然目前在光刻机市场，还有尼康和佳能这两大供应商，但是这两家厂商的产品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市场份额仅有10%左右，ASML一家占据了90%的市场份额，并垄断了尖端的EUV光刻机的供应。
2023-11-23 16:14:45485 
就国别来看，来自荷兰的进口额暴涨了超过6倍。预估其中大部分为荷兰光刻机龙头艾ASML的光刻机产品。来自日本的半导体设备进口额成长约40%、来自美国的进口额则仅增长20%。
2023-11-22 17:09:02419 EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分，占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂，因此ASML每年只能制造约60台，而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机，包括英特尔、美光、三星、SK海力士、台积电。目前，AMSL约有70%的EUV光刻机被台积电购买。
2023-11-22 16:46:56383 据悉，谷歌Titan Security Key的最新版本已经问世，可以与苹果、微软、谷歌和其他许多公司支持推出的新的无密码密钥技术一起使用。从现在开始，谷歌商店将推出两个新版本的钥匙，分别为
2023-11-20 16:55:35354 关键词：TouchGFX,版本升级 目录预览 1、引言 2、TouchGFX软件升级安装 3、工程项目由旧版本迁移到新版本TouchGFX 4、软件升级遇到的常见问题 01 引言 随着
2023-11-01 17:15:02312 EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55615 stc12c5a60s2单片机，下载程序失败，用的是最新版本的STC-ISP，出现以下提示，该怎么办呢？求各位大佬指点！
. 下次冷启动后系统时钟源为外部晶体振荡器
. 当前的时钟频率
2023-10-25 06:35:06
电子发烧友网报道（文/周凯扬）随着双碳目标的提出，越来越多的行业应用开始注意到能耗问题，尤其是在半导体制造设备上。就拿我们常常提及的EUV光刻机来说，就是一个不折不扣的耗电大户，结合光刻半导体
2023-10-25 01:14:001061 据外媒透露，ASML的指控基于中国违规拆解了从荷兰进口的ASML光刻机。中国方面对此感到不满，认为这是对其科技进步的不公平限制。显然，我们正站在一场关于技术保护、市场份额争夺的战场之上。
2023-10-20 15:51:43480 当制程节点演进到5nm时，DUV和多重曝光技术的组合也难以满足量产需求了，EUV光刻机就成为前道工序的必需品了，没有它，很难制造出符合应用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整个生产线的良率也非常低，无法形成大规模的商业化生产。
2023-10-13 14:45:03834 
新版本GUI Guider发布 作为恩智浦研发的一款用户友好、跨平台、支持多语言的嵌入式人机交互应用开发工具，GUI Guider一经推出就受到了广大开发者的喜爱。为了更好地回馈大家的厚爱，GUI
2023-10-13 08:10:031445 
电子发烧友网报道（文/周凯扬）随着欧美韩等国家均已引进EUV光刻机，为其晶圆代工厂提供最先进的工艺支持，日本虽然半导体制造水平这些年来提升不大，却也计划引进EUV光刻机来打破这一困局，重回行业一流
2023-10-10 01:13:001437 近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12562 
早在2015年，中国的长春光机所就成功研发出了EUV（极紫外光刻）光刻机的高精度弧形反射镜系统。这个系统的多层层镀膜面形误差小于0.1纳米，达到了EUV级光刻机的标准。这个成就在国际上已经堪称顶尖水平。
2023-09-11 17:16:489826 EUV光刻胶材料是光敏物质，当受到EUV光子照射时会发生化学变化。这些材料在解决半导体制造中的各种挑战方面发挥着关键作用，包括提高灵敏度、控制分辨率、减少线边缘粗糙度（LER）、降低释气和提高热稳定性。
2023-09-11 11:58:42349 
ASML是欧洲最大半导体设备商，主导全球光刻机设备市场，光刻机是半导体制造关键步骤，但高数值孔径（High NA）EUV，Peter Wennink指有些供应商提高产能及提供适当技术遇到困难，导致延误。但即便如此，第一批产品仍会在年底推出。
2023-09-08 16:54:10713 P系列直线电机是一种具有铁芯的高推力直线电机。它具有很高的推力密度和较低的停止力。峰值推力可达450NM峰值加速度可达5G。它是TPA机器人的一种高性能的直接驱动线性运动台。常用于高精度直线电动机
2023-09-04 16:14:38
光刻机是半导体制造行业的“心脏”，也是集成电路制造过程中不可或缺的关键设备。尽管国在半导体领域取得了显著进展，但在光刻机的自主研发方面仍面临诸多挑战。本文旨在分析国产光刻机研发中的几大难点。
2023-08-30 09:42:062096 
体验。欢迎开发者了解并升级使用，积极反馈宝贵建议、参与贡献，共同促进4.0版本的成熟。 为了方便社区开发者了解新版本能力，我们准备了版本上新内容介绍及相关文档资源，快来体验吧~ 新增和增强的特性 ArkUI • 支持命名路由的能力，借助此能力可针对不同页面设置差异化的切换动效。 API参考：
2023-08-28 12:05:07592 了解新版本能力，我们准备了版本上新内容介绍及相关文档资源，快来体验吧~ 新增和增强的特性 ArkUI • 支持命名路由的能力，
2023-08-24 21:10:04419 光刻机有半导体工业“皇冠上的明珠“之称，是高速生产芯片所需要的最关键和最复杂的设备之一（一台光刻机有10万个组件）。目前全世界的高端光刻机被荷兰公司ASML垄断（中低端产品美国、日本和中国均能生产），而绝大部分的组件供应商又被美国控制。
2023-08-21 16:09:33472 EC-Master协议栈是一个经过精心设计和优化的主站协议栈产品，方便客户朋友更好地完成EtherCAT主站控制器的开发工作，支持在不同的嵌入式或非嵌入式(实时)操作系统上运行。现迎来最新版本V3.2更新
2023-08-18 14:00:00749 
EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02396 在 Oracle，我们不断寻找方法来改进产品，以更好地满足您的需求。我们很高兴地推出 MySQL 创新版（Innovation）和长期支持版（LTS，Long-Term Support），这是 MySQL 版本模型中的一个重要改进。
2023-08-01 16:41:25435 
随着制程工艺的进步，DRAM内存芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题，解决办法就是上EUV光刻机，但是设备实在太贵，现在还要榨干DUV工艺最后一滴，DDR5内存有望实现单条1TB。
2023-07-31 17:37:07875 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是一种高级光刻设备，用于半导体制造业中的微电子芯片生产。EUV光刻机是目前最先进的光刻技术之一，它采用极端紫外光作为曝光光源，具有更短的波长
2023-07-24 18:19:471095 光刻机。然而在庞大的光刻机中，由于包含了生成光、投射光的过程，同时又要精细控制光线，自然也就需要一套复杂无比的光学系统。 EUV 光学系统唯一指定供应商——蔡司 提到蔡司这个名号大家都不陌生了，小到眼镜镜片，大到医学显
2023-07-14 09:09:031690 
ASML：没向中国推出特别版光刻机 就是荷兰出台光刻机限制出口禁令后ASML给出了回应，ASML：没向中国推出特别版光刻机。ASML表示ASML一致都遵守所适用的法律条例，并没有面向中国市场推出
2023-07-07 12:32:371112 光刻机是半导体产业的重要设备之一。网传荷兰ASML（阿斯麦）试图规避荷兰新销售许可禁令，向中国推出特别版DUV光刻机，但ASML据报否认这一行动，并指一直都遵守所适用的法律条例。
2023-07-07 11:50:521351 
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
2023年9月1日生效。 由于美国长期以来一直想尽办法的限制中国芯片产业的发展，并限制荷兰ASML向中国出售光刻机，但是这一点会促使我们研发出国产光刻机，从而打破了这种技术封锁。 编辑：黄飞
2023-07-06 17:15:2678105 荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源产品介绍：ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒
2023-07-05 16:16:48
荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源产品介绍：ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒
2023-07-05 16:06:24
ASML强调，这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，并非所有浸润式DUV光刻系统。ASML表示其EUV光刻系统在此前已经受到限制。ASML其他系统的发运未受荷兰政府管控。
2023-07-03 15:38:34713 荷兰实施半导体出口管制 ASML光刻机DUV系统需要许可证 芯片战愈演愈烈。荷兰正式实施半导体出口管制条款，这将对光刻机巨头阿斯麦（ASML）产生更多影响。ASML的EUV光刻系统在此前已经
2023-07-01 17:38:19669 
报道称，ASML 量产尖端半导体工艺所需的 EUV 光刻机。Rapidus 计划利用经产省提供的补贴，采购 EUV 光刻设备。IT之家注意到，EUV 光刻机在全球范围内较为短缺，面临着台积电、英特尔、三星等巨头的争抢。报道指出，如果 Rapidus 和 ASML 展开合作，有望强化供应链。
2023-06-27 16:08:05498 
euv极紫外光刻机是目前最先进的半导体制造设备，用于7纳米以下工程的半导体制造。荷兰对这种尖端设备实施出口控制，限制对中国的出口。据《日本经济新闻》报道，日本和荷兰决定一致控制尖端产品制造设备的出口是在美国的压力下做出的决定。
2023-06-26 10:28:08396 因此光刻机对芯片制造非常重要，它是影响芯片制造质量和效率的重要因素。纵观全球光刻机市场，荷兰ASML公司一家独大，占据全球80%的光刻机市场份额，高端EUV光刻机的市占比更是达到100%。
2023-06-20 11:42:271258 技术升级阶段 (2007 至今)：该阶段公司技术不断升级，推出一系列创新产品， 于 2010 年推出全球首台 EUV 光刻机 NXE3100，并于 2016 年推出首台可量产光刻 机 NXE3600B（2017 年开始上量），由此确立高端光刻机系统龙头地位。
2023-06-19 11:27:413484 
M451的NuMicro ICP Programming Tool烧录工具新版本时鐘源选项不见了,是否能加上这个选项,没有外加石英晶振时无法使用。
2023-06-13 06:00:33
TPT是控制软件所有开发阶段的完美测试工具，无论您是单元测试、集成测试还是系统测试，TPT都能直观、灵活地完成这些测试。现在TPT迎来了全新版本——TPT19，那么新版本都有哪些惊喜呢？本期将为大家一一进行介绍。
2023-06-12 16:44:02446 
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205857 
够高同样以3400B来说，该EUV光刻机的生产效率是每小时125片晶圆，还不到DUV光刻机生产效率的一半。
随机效应严重DUV时代就存在，但对芯片制造影响不大，因此被芯片代工厂忽略。但在EUV时代，该问题开始严重影响芯片的良率，随芯片工艺尺寸越来越小，随机效应越发明显
2023-06-08 15:56:42283 
光刻机技术有多难搞？有人将它与核弹相提并论：目前，全球光刻机已由荷兰ASML、日本尼康和佳能公司完全垄断。10nm节点以下，ASML稳稳占据100%的市场，佳能和尼康等同业竞争对手难以打破这样的局面
2023-06-08 14:55:0020068 
asml是euv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻机生产企业的领头羊，也是全球市场占有率最大的光刻机生产企业。2012年，asml推出了世界上第一个euv试制品，并于2016年推出了euv第一个商用显卡制造机asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 光刻机需要采用全反射光学元件，掩模需要采用反射式结构。
这些需求带来的是EUV光刻和掩模制造领域的颠覆性技术。EUV光刻掩模的制造面临着许多挑战，包括掩模基底的低热膨胀材料的开发、零缺陷衬底抛光、多层膜缺陷检查、多层膜缺陷修复等。
2023-06-07 10:45:541008 
极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.
2023-06-02 15:53:52396 
由于美国的干涉，asml的极紫外线光刻机无法出口到中国，甚至深度紫外线光刻机也受到了限制。很明显，美国不会放松对 EUV光刻机的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 西门子EDA全球客户支持部门从2023年3月份开始推出客户关怀系列技术文章。本系列，我们的产品技术专家将结合电子系统设计软件的新功能和应用热点进行选题，本期主题为新版本HyperLynx VX.2.13速览，敬请参阅！
2023-05-25 17:37:491807 
新版本kicad中的包含图层与绘制所有图层有什么区别？
2023-05-22 14:31:20
需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比，EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别，从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041790 
GitHub 项目，他们说它是通过包装器集成为动态库 `librpmsg_lite-imx.so`，位于 `BSP/sr/lib/rpmsg_lite `文件夹。
如何获得为在 Cortex-A53 上运行的 QNX 编译的最新版本？
2023-05-17 06:48:49
支持RT-Thread最新版本的瑞萨RA2E1开发板终于要大展身手了
2023-05-16 15:30:56464 
新版本持续为软件开发测试带来系列化的新功能：SIL全面支持DevOps和CI/CT流程中的工具功能、全新的10MB/s总线CANXL和10BASE-T1S解决方案、全新的IO测试硬件
2023-05-12 10:24:054321 
2023年中国光刻机现状是什么样的呢？自从2018年以来，我国开始被美国各种手段制裁，光刻机被卡脖子，美国不让荷兰卖先进的光刻机给我们，这也让这些年来无数国人关注光刻机的研发进度。
2023-05-10 16:24:1521221 总而言之，
我有一个在 ESP8266 上使用 painlessMesh 的项目。
已经工作了好几个月了。
不幸的是，最新版本的 8266 内核导致 painlessMesh 编译错误。
有没有一种方法可以在“附加板管理器 URL”中指定旧版本
2023-05-08 08:25:01
本课程基于CadenceAllegroPCB最新版本AllegroX进行RK3588实例项目设计，是一个完整的项目设计过程，力求通过实例项目的操作演示，将软件新的功能和技巧融入到工程师的设计中去
2023-05-06 09:55:50934 
2023年4月9日，OpenAtom OpenHarmony（以下简称“OpenHarmony”）3.2 Release的新版本的发布。相比之前的版本，新版本的系统能力、系统整体性能、稳定性和安全性
2023-04-18 15:00:57
作为一家专为本地市场量身打造智能联网电视操作系统的领先供应商，VIDAA宣布推出其创新平台的最新版本。新版本让各品牌和厂商能够获得通常仅应用于高端品牌的最先进技术。新版本VIDAA操作系统比以往任何
2023-04-15 19:04:181988 openEuler RISC-V 23.03 创新版本正式发布。openEuler RISC-V SIG 作为 openEuler 系统在 RISC-V 架构上的维护组织，主要致力于
2023-04-15 13:55:40
近日，openEuler RISC-V 23.03 创新版本正式发布。openEuler RISC-V SIG 作为 openEuler 系统在 RISC-V 架构上的维护组织，主要致力于
2023-04-14 16:16:24849 我正在使用带有为 MCUXpresso IDE 生成的 SDK 的 FRDM-K66F 板。我看到当我生成 SDK 时，CMSIS DSP 库的包含版本是 V1.4.5 b。在 SDK 构建过程中如何将其更新到最新版本或选择替代版本？
2023-04-14 07:10:52
新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发，必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战，imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121164 香港2023年4月12日 /美通社/ -- 今天，以"共成长，赢未来"为主题的2023华为港澳伙伴峰会上，华为面向亚太市场正式发布华为云Stack 8.2新版本，通过可信的云原生底座、丰富的云服务
2023-04-12 21:41:48417 
光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。 很多人都对光刻机有所耳闻，但其实不同光刻机的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
电子发烧友App
工商网监
湘ICP备 2023018690 号
评论