第1届全国等离子体生物医学会议由西安交通大学发起的“第一届全国等离子体生物医学学术会议”于2024年3月15日-18日在西安成功举办。会议吸引了来自全国80余家高校、研究所、医院和企业的280
2024-03-22 08:01:18
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聚合物锂电池是什么 锂离子电池和聚合物锂电池的区别 聚合物锂电池是一种新型的锂离子电池，它采用了由聚合物形成的电解质，相比传统的液态电解质，具有更高的能量密度、更高的安全性和更长的使用寿命。聚合物
2024-03-07 16:54:14153 Aigtek诚邀您参会2024年3月15-17日，Aigtek安泰电子将携一众明星产品及专业测试解决方案亮相第一届全国等离子体生物医学学术会议。在此，我们诚邀您莅临会议参观、洽谈与观摩！-时间
2024-03-07 08:01:05182 pcb等离子处理的5大作用
2024-03-05 10:24:4897 据了解，中机新材专注于国产高性能研磨抛光材料的研发与应用，能够为客户提供量身打造的工业磨抛解决方案，力求协助半导体产业彻底解决长期困扰的瓶颈问题。
2024-02-21 16:56:53406 虚拟局域网与传统局域网的主要区别 虚拟局域网（VLAN）是一种在传统局域网（，LAN）基础上发展起来的新型网络结构，它通过逻辑上的划分，将一个大型的局域网划分为多个虚拟的小型局域网。虚拟局域网
2024-02-20 14:41:43243 共读好书 陈婷 周伟洁 王涛 （无锡中微高科电子有限公司） 摘要： 研究了微波等离子工艺影响导电胶形貌的机理，进一步分析了等离子清洗次数对电路可靠性的影响。结果表明，对装片后的电路进行 1 次等离子
2024-02-20 13:37:16125 
等离子发动机原理： 等离子发动机是一种利用电磁力将离子加速并喷射出来产生推力的发动机。它主要包括等离子体产生器、离子加速器和喷嘴等组成。下面将详细介绍等离子发动机的工作原理。 生成等离子体：等离子
2024-02-14 18:18:003169 等离子显示器（Plasma Display Panel，简称PDP）是一种采用气体放电和发光材料发光的平板显示技术。与液晶显示器相比，等离子显示器拥有更高的对比度、更高的色彩饱和度和更快的响应速度
2024-02-03 10:00:17305 单晶光伏板和多晶光伏板的区别 单晶光伏板和多晶光伏板是目前最常用的两种太阳能光伏电池板。它们在材料、生产工艺、性能和成本等方面存在一些明显的区别。本文将详细介绍单晶光伏板和多晶光伏板的区别。 首先
2024-02-03 09:19:22652 超级电容器与锂离子电池的区别 超级电容器和锂离子电池是当前主要的储能技术之一，它们在能量密度、功率密度、循环寿命、充放电速度、环境友好性等方面有不同的特点。在下面的文章中，我将详细比较这两种技术
2024-02-02 10:51:19557 光学3D表面轮廓仪通过纳米传动与扫描技术、白光干涉与高精度3D重建技术实现0.1nm级表面粗糙度测量，成为超精密抛光技术研究领域的重要工具和帮手。
我们热切期待参与需要利用光学3D表面轮廓仪对材料
2024-01-30 15:21:55267 
材料 去除的影响。重点综述了传统化学机械抛光技术中的游离磨料和固结磨料工艺以及化学机械抛光的辅助增效工艺。同时从工艺条件、加工效果、加工特点及去除机理 4 个方面归纳了不同形式的化学机械抛光技术，最后对碳化硅的化学 机械抛光技术的未来发展方向进行了展望，并对今后研究的侧重点提出了相关思路。
2024-01-24 09:16:36431 
光刻机的镜头要实现纳米级的成像分辨率，就得拼命增大镜片的数值孔径（Numerical Aperture），但这同时会导致焦深（DoF）的下降，焦深是指光学成像的聚焦深度，要想保证光刻图像清晰不失焦，晶圆表面的高低起伏，就必须落在焦深范围之内。
2024-01-22 18:19:26409 
Disco在切割、研磨和抛光机器方面拥有全球最大的市场份额。安装在机器中的切割轮高速旋转以处理形成电路的基板。该装置由钻石制成，磨损后需要更换。Disco 在广岛县和长野县拥有两家生产切割轮的工厂。
2024-01-14 13:59:03581 最后的抛光步骤是进行化学蚀刻和机械抛光的结合，这种形式的抛光称为化学机械抛光(CMP)。首先要做的事是，将晶圆片安装在旋转支架上并且要降低到一个垫面的高度，在然后沿着相反的方向旋转。垫料通常是由一种
2024-01-12 09:54:06358 
传统的手工抛光打磨存在劳动强度高、抛光效果不稳定、难以处理复杂形状、安全风险和无法满足高质量要求等痛点。因此，应用工业机器人进行自动化表面精加工的技术随之崛起。
2024-01-11 11:03:37196 光电光纤与传统光纤的区别是什么？与传统网线的区别又是什么？ 光电光纤与传统光纤的区别主要体现在传输媒介、传输速率、传输距离、抗干扰能力等方面。而与传统网线相比，光电光纤还具有更高的带宽、电磁兼容
2024-01-09 14:42:04195 ——利用在基板上的金属薄膜中产生的表面波来散热，是一个重要的突破。 韩国科学技术学院（KAIST）宣布，机械工程系Bong Jae Lee教授的研究小组在世界上首次成功测量了沉积在基板上的金属薄膜中“表面等离子体激元”（surface pla
2024-01-03 15:32:39184 特性进行更精确的分析氩离子抛光机可以实现平面抛光和截面研磨抛光这两种形式：半导体芯片氩离子截面切割抛光后效果图： 聚焦离子束FIB切割+SEM分析聚焦离子束FIB测试原理：聚焦离子束(FIB)系统
2024-01-02 17:08:51
单头离子风机和多头离子风机在设计和功能上有一些显著的区别。 单头离子风机通常只有一个离子发生器和一个风扇，它们产生离子并使用风扇将其吹到周围的空气中，从而消除静电。这种设计简单、价格较低，但提供
2023-12-28 15:40:54101 
CMP技术指的是在化学和机械的协同作用下，使得待抛光原料表面达到指定平面度的过程。化学药水与原料接触后，生成易于抛光的软化层，随后利用抛光垫以及研磨颗粒进行物理机械抛光，以清除软化层。
2023-12-28 15:13:06409 12月27日消息，根据韩媒报道，SK海力士近日研发出了可重复使用的 CMP抛光垫技术，不仅可以降低成本，而且可以增强 ESG（环境、社会、治理）管理。
2023-12-27 13:48:50231 
需要指出的是，CMP 技术通过化学与机械作用使得待抛光材料表面达到所需平滑程度。其中，抛光液中化学物质与材料表面发生化学反应，生成易于抛光的软化层。抛光垫和研磨颗粒则负责物理机械抛光，清除这一软化层。
2023-12-27 10:58:31335 
多头离子风机是一种特殊的离子风机，它可以产生多个离子气流，比传统的单头离子风机具有更广泛的除静电区域。
多头离子风机通常具有多个电离头，每个电离头都能产生独立的离子气流。这些离子气流可以同时向多个
2023-12-26 13:56:16
01、重点和难点 等离子体通常被认为是物质的第四态，除了固体、液体和气体之外的状态。等离子体是一种高能量状态的物质，其中原子或分子中的电子被从它们的原子核中解离，并且在整个系统中自由移动。这种状态
2023-12-26 08:26:29209 
磨削和研磨等磨料处理是生产半导体芯片的必要方式，然而研磨会导致芯片表面的完整性变差。因此，抛光的一致性、均匀性和表面粗糙度对生产芯片来说是十分重要的。
2023-12-21 09:44:26491 
01、重点和难点 在硅材料加工和研究领域，皮秒脉冲激光激发的等离子体对于提高加工技术、开发创新设备以及加深对材料物理特性的理解都有重大研究意义。这种影响尤其体现在硅材料表面等离子体形态变化的研究
2023-12-19 10:53:11236 
众所周知，化合物半导体中不同的原子比对材料的蚀刻特性有很大的影响。为了对蚀刻速率和表面形态的精确控制，通过使用低至25nm的薄器件阻挡层的，从而增加了制造的复杂性。本研究对比了三氯化硼与氯气的偏置功率，以及气体比对等离子体腐蚀高铝含量AlGaN与AlN在蚀刻速率、选择性和表面形貌方面的影响。
2023-12-15 14:28:30227 
基于GaN的高电子迁移率，晶体管，凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度，应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言，GaN的相关材料，如AlGaN，凭借其物理和化学稳定性，为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24294 
光捕获技术是提高太阳能电池光吸收率的有效方法之一，它可以减少材料厚度，从而降低成本。近年来，表面等离子体（SP）在这一领域取得了长足的进步。利用表面等离子体的光散射和耦合效应，可以大大提高太阳能电池的效率。
2023-12-05 10:52:27497 
CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化学机械抛光”，是为了克服化学抛光和机械抛光的缺点
2023-12-05 09:35:19416 
高压放大器在等离子体实验中有多种重要应用。等离子体是一种带电粒子与电中性粒子混合的物质，其具有多种独特的物理性质，因此在许多领域具有广泛的应用，例如聚变能源、等离子体医学、材料加工等。下面安泰电子将介绍高压放大器在等离子体实验中的应用。
2023-11-27 17:40:00189 
一种使用等离子体激元的新型成像技术能够以增强的灵敏度观察纳米颗粒。休斯顿大学纳米生物光子学实验室的石伟川教授和他的同事正在研究纳米材料和设备在生物医学、能源和环境方面的应用。该小组利用等离子
2023-11-27 06:35:23121 单片机的区别
架构
STM32单片机采用了Cortex-M系列的处理器架构，而51单片机则采用了传统的8位处理器架构。Cortex-M系列的处理器具有更高的性能和更低的功耗。
性能
由于采用不同的处理器
2023-11-20 13:18:55
化学机械抛光（CMP）是目前最主流的晶圆抛光技术，抛光过程中，晶圆厂会根据每一步晶圆芯片平坦度的加工要求，选择符合去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）等指标要求的抛光液，来提高抛光效率和产品良率。
2023-11-16 16:16:35212 近日，深圳技术大学阮双琛教授和周沧涛教授团队在国际上首次提出基于超光速等离子体尾波场产生阿秒脉冲、亚周期相干光激波辐射的物理方案，并阐释了一种由电子集体作用主导的全新相干辐射产生机制。
2023-11-09 10:40:40307 
近年来，铜(Cu)作为互连材料越来越受欢迎，因为它具有低电阻率、不会形成小丘以及对电迁移(EM)故障的高抵抗力。传统上，化学机械抛光(CMP)方法用于制备铜细线。除了复杂的工艺步骤之外，该方法的一个显著缺点是需要许多对环境不友好的化学品，例如表面活性剂和强氧化剂。
2023-11-08 09:46:21188 
锂电池和锂离子电池的区别？锂离子电池充电模式 锂电池和锂离子电池是两种不同的电池类型。他们有一些基本的区别。在本文中，我将详细说明锂电池和锂离子电池之间的区别，并解释锂离子电池的充电模式。 锂电池
2023-10-24 10:10:47989 科瑞特DMC600系列是一款多功能的运动控制系统，主要应用于焊接、抛光、机械手等设备。实现多轴联动，多种插补，如：直线、圆弧、抛物线、螺旋线插补等。下面以3轴抛光示教系统为例，举例工件加工的编辑方法
2023-10-23 08:07:55379 
超级电容与传统电源有什么区别？双电层电容是什么工作原理？ 超级电容与传统电源的区别 超级电容是一种电力存储设备，它与传统电源之间的主要区别是它的功率密度和能量密度，以及其在短时间内可快速充放电。传统
2023-10-22 15:13:22440 众所周知，倾斜光纤光栅可以激发众多的包层模式，并且对光纤表面周围环境敏感。当光纤包层模式与表面等离子共振相位匹配时，倾斜光纤光栅可以在金表面激发倏逝表面等离子体共振波。
2023-10-20 15:48:08330 
等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分，随着微电子技术的发展，等离子体清洗的优势越来越明显。文章介绍了等离子体清洗的特点和应用，讨论了它的清洗原理和优化设计方法。最后分析了等离子体清洗工艺的关键技术及解决方法。
2023-10-18 17:42:36447 
等离子表面处理机在PCB制程中扮演了关键的角色，它有助于提高了电路板的质量、可靠性和性能。这对于电子制造和各种应用中的PCB制程都非常重要。
2023-10-05 09:53:47384 
基于电池供电的等离子打火机。制作新奇打印方式的等离子打印机！包含相关图文说明、代码、线路图
2023-09-22 07:54:27
两个物体表面相互接触即会产生相互作用力，研究具有相对运动的相互作用表面间的摩擦、润滑与磨损及其三者之间关系即为摩擦学，目前摩擦学已涵盖了化学机械抛光、生物摩擦、流体摩擦等多个细分研究方向，其研究
2023-09-20 09:24:04
0 为了提高等离子消融手术系统的频率输出,提出一种新型的全桥拓扑结构。应用LCR谐振原理,对传统的全桥逆变拓扑结构进行改进,当谐振电路工作在恰当的区域可以实现开关管的零电压的开通和近似零电压的关断,能
2023-09-20 07:38:22
纳米级[1] 。传统的平面化技术如基于淀积技术的选择淀积、溅射玻璃 SOG、低压 CVD、等离子体增强 CVD、偏压溅射和属于结构的溅射后回腐蚀、热回流、淀积 —腐蚀 —淀积等 , 这些技术在 IC
2023-09-19 07:23:03
背景 Adi Salomon 教授的实验室主要致力于了解纳米级分子与光的相互作用，并构建利用光传感分子的设备。该小组设计并制造了金属纳米结构，并利用它们通过与表面等离子体激元的相互作用来影响纳米级
2023-09-19 06:28:29223 
得益于半导体业界的繁荣，世界cmp抛光液市场正在经历明显的增长。cmp抛光液是半导体制造中的关键成分，在实现集成电路制造的精度和效率方面发挥了关键作用。随着技术的发展，半导体的格局不断重新形成，对cmp抛光液的需求从来没有这么高过。
2023-09-14 10:28:36663 机械行业中工件表面改性工艺大多为堆焊、热喷涂、等离子喷焊、镀铬和渗氮等，伴随着行业的变革，对传统的工艺的要求越来越高，其中或多或少存在无法调节的问题。激光熔覆技术作为新型的绿色再制造表面改性技术
2023-09-04 16:09:43295 光学加工是一个非常复杂的过程。难以通过单一加工方法加工满足各种加工质量指标要求的光学元件。平面抛光机的基础是加工材料的微去除。实现这种微去除的方法包括研磨加工、微粉颗粒抛光和纳米材料抛光。根据
2023-08-28 08:08:59355 来自斯图加特大学(德国)的 Harald Gießen 教授的团队正在致力于将光子学和纳米技术用于新的应用和设备。研究人员正在研究通过控制等离子体效应来创建显示器的技术。等离激元学研究光与金属纳米
2023-08-23 06:33:33215 
等离子体显示器在对比度、视角和响应速度等方面的优势较为显著，适合用于娱乐和家庭影院等方面；而液晶显示器则在功耗、分辨率和便携性等方面有一定的优势，适合办公和移动设备等领域。选择时，可以根据使用需求和个人偏好来进行选择。
2023-08-10 14:38:36766 。离子风棒长度可以根据不同的长度定制，使用于不同的设备。 我们有三种传统型离子风棒：分别是简易无风离子分棒、强无风离子分棒、铝制离子分棒、不锈钢离子风棒、铜制离子风棒，分别用于各种薄膜的生产成型加工、耐酸碱、耐
2023-08-09 10:30:49379 
ai芯片和传统芯片的区别 随着人工智能的发展和应用的普及，越来越多的企业和科研机构开始研发人工智能芯片（AI芯片）。与传统芯片相比，AI芯片有着很多的区别。本文将从应用领域、硬件结构、功耗和性能
2023-08-08 19:02:352298 化学机械抛光（CMP）是晶圆制造的关键步骤，其作用在于减少晶圆表面的不平整，而抛光液、抛光垫是CMP技术的关键耗材，价值量较高，分别占CMP耗材49%和33%的价值量，其品质直接影响着抛光效果，因而
2023-08-02 10:59:473404 
20世纪60年代以前，半导体基片抛光还大都沿用机械抛光，得到的镜面表面损伤是极其严重的。1965年Walsh和Herzog提出SiO2溶胶和凝胶抛光后，以SiO2浆料为代表的化学机械抛光工艺就逐渐代替了以上旧方法。
2023-08-02 10:48:407522 
在常规离子注入中，三氟化硼常用于形成P型浅结的注入不是B,因为BF2+离子大且重。B10H14,B18H22和硼烷（C2B10&或CBH）是研究中的大分子。
2023-07-21 10:18:571397 
脉冲离子风机（DC Pulsed Ionic Fan）是一种通过激发离子产生的气流来产生风力，而不需要传统机械结构运作的风扇，因此具有噪音低、能耗低和体积小的特点。 脉冲离子风机的工作原理是利用
2023-07-21 09:56:07315 
亿美元的三维多芯片集成封装项目稳步推进，跨入新的发展阶段。 首批搬入的设备涵盖了曝光、显影、电镀、清洗、等离子溅射、减薄抛光、检测量测等晶圆级先进封装主要工艺环节。值得一提的是，2015年盛合晶微创立之初，首条12英寸中段凸块（Bum
2023-07-20 19:12:591212 电化学抛光(EP)通过选择性地去除工件表面区域中的特定零件（如粗糙度和氧化物）形成镜面状表面。
2023-07-18 17:24:43550 
陶氏化学公司是粘合剂，辅助剂等在内的多种材料提供的高纯度化学产品生产线的半导体核心化学材料的主要供应商，也供应全球重要的CMP材料包括抛光垫、抛光液等。
2023-07-18 09:59:07613 1、产品简介： 放电等离子烧结 (SPS)是一种快速、低温、节能、环保的材料制备新技术，可用来制备金属、陶瓷、纳米材料、非晶材料、复合材料、梯度材料等
2023-07-16 23:06:19
XR虚拟拍摄和传统绿幕拍摄的区别 随着科技的进步，电影和电视剧的制作技术也在不断革新。XR虚拟拍摄，作为一种新兴的拍摄方式，正在逐渐替代传统的绿幕拍摄。这两种拍摄方式之间存在显著的区别，主要表现
2023-07-13 17:33:29260 行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 14:27:42
、污水处理、电容老化、等离子放电、科学研究等对电源的要求,更能通过其特有的 标准脉冲矩形波和高精度调节能为您的生产或研究创造更大的效益、为社会节约更多的能 源。紧凑
2023-07-11 12:24:25
、污水处理、电容老化、等离子放电、科学研究等对电源的要求,更能通过其特有的 标准脉冲矩形波和高精度调节能为您的生产或研究创造更大的效益、为社会节约更多的能 源。紧凑
2023-07-11 12:23:40
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统, 实现小规模试验中 2-4 英寸硅片等半导体衬底表面的清洁, 确保样品表面清洁无污染, 满足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制备.
2023-07-07 14:55:44439 
根据制造工艺分类，半导体硅片主要可以分为抛光片、外延片与以SOI硅片为代表的高端硅基材料。单晶硅锭经过切割、研磨和抛光处理后得到抛光片。抛光片经过外延生长形成外延片，抛光片经过氧化、键合或离子注入等工艺处理后形成SOI硅片。
2023-06-27 14:34:383725 
随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm，铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻，我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压，但大多数铝蚀刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
近日，Nano Letters（《纳米快报》）在线发表武汉大学高等研究院梁乐课题组和约翰霍普金斯大学Ishan Barman课题组关于高效构建等离子增强NV色心的纳米器件研究进展，他们利用自下向上的DNA自组装方法开发了一种混合型独立式等离子体纳米金刚石
2023-06-26 17:04:52396 
抛光机构底部后侧设置有粉尘吸收装置，可将加工抛光过程中形成的粉尘吸收至排风管中排出，防止大量粉尘直接飘散对加工人员身体健康产生损害。罩壳底设置有粉尘吸收软管，上端口连接至出风管上，中部设置有固定
2023-06-21 14:16:58233 
电抛光smt钢网是什么工艺，它与其他smt钢网相比有哪些优点呢，今天我们为大家做深入的讲解，希望帮助大家在选购适合自己工厂真正需要的smt钢网。
2023-06-19 10:17:44568 交流电源板过载防护高电压气体放电管 气体放电管- GDT /气体等离子体避雷器 2R3600ML5 Gas Discharge
2023-06-14 17:30:02
2023年6月，浙江海纳半导体股份有限公司（以下简称“海纳半导体”）与浦江县经济开发区管理委员会正式签署《半导体级抛光片生产线项目投资框架协议》。 浦江县委书记俞佩芬、浦江县委副书记、县长
2023-06-13 15:47:371042 在现代工业中，表面加工是至关重要的一环。为了达到所需的表面粗糙度、光洁度和平整度等要求，往往需要进行抛光处理。
2023-06-08 11:13:552652 
在化学腐蚀点处的浓度越高，腐蚀速率越快。在抛光过程中抛光液持续流动，我们假设在腐蚀点处的浓度可以保持初始时的浓度，腐蚀率以最快的速度发生，则抛光液不同的PH值对应一个腐蚀率，由此可见，去除速率与PH值有关，PH越高，速率越快。
2023-06-02 15:24:06344 
使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验，探究了滴液速率、抛光头转 速、抛光压力、抛光时长及晶片吸附方式等工艺参数对晶片表面粗糙度的影响，并对工艺参数进行了优化，最终 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子级光滑碳化硅晶片。
2023-05-31 10:30:062212 
速科德Kasite打磨抛光主轴主要对高精度零件的加工处理，如汽车零部件、光纤接插件陶瓷加工、义齿加工雕铣等行业。这些高精度零件如果在抛光打磨过程中稍有误差可能就会导致零件的报废，造成较大的经济损失，因此一款高精度高性能打磨抛光主轴就显得尤为重要。
2023-05-29 17:39:48743 
金属银镀PTFE涂层等离子处理是指在金属镀银进行PTFE涂层，并在PTFE涂层上进行等离子处理的一种表面处理技术。该技术可以使金属表面具有一定的耐腐蚀性、耐磨性和耐高温性，同时还可以提高金属表面的润滑性和粘附性。
2023-05-25 15:54:14513 
PTFE表面等离子改性是一种有效的技术手段，可以改变PTFE表面的性质，增加其在各个领域的应用。通过引入亲水基团、改善表面形貌、形成致密的氟化物膜等方式，可以提高PTFE表面的粘附性、润湿性、抗腐蚀性、耐磨性、生物相容性和电性能。
2023-05-19 10:45:39628 
在天体物理学中，有许多天体都具有强大的磁场，例如恒星、行星和黑洞。这些天体周围通常有大量的等离子体，例如恒星风、行星际介质和吸积盘。
2023-05-17 09:24:16452 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准射频等离子体源 RF2100ICP Plasma Source上海伯东代理美国 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
碳化硅衬底 产业链核心材料，制备难度大碳化硅衬底制备环节主要包括原料合成、碳化硅晶体生长、晶锭加工、晶棒切割、切割片研磨、研磨片抛光、抛光片清洗等环节。
2023-05-09 09:36:483426 
芯片等离子活化技术是一种物理处理技术，通过改变材料表面的化学性质、物理性质和机械性能，实现对材料的表面处理和改性。芯片等离子活化技术具有处理效率高、处理精度高、无需添加剂、处理后材料性能稳定和应用范围广泛等优势。
2023-05-06 10:44:50651 
通过金徕等离子体处理，可以提高金属表面的活性，改善金属表面的结合力、增强涂层附着力等性质，使得金属制品的质量和性能得到明显的改善和提升。此外，等离子体处理还可以改善金属表面的光洁度，使得金属表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23525 
一、自动抛光机的抛光效果因素自动抛光机的抛光效果取决于多个因素，除了自动抛光机本身的质量以外，还包括使用工艺、选用什么样的抛光辅料，要抛光物件材质，操作者的经验技术等，在条件都合适的情况下，自动
2023-05-05 09:57:03535 VESD三头离子风机相对于普通的三头离子风机有哪些区别，你知道吗？接下来让您快速了解VESD三头离子风机的不同之处。
2023-05-04 14:27:09167 因子导致了辐射传热的改善。因此，去除导热路径并不会导致温度的剧烈变化。 5.3.2 抛光铝外壳 可以预计，铝外壳会产生更显著的影响，因为铝是比塑料更好的导热体，因此，去除这种传导路径对Tj的影响应
2023-04-21 15:00:28
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：III-V族化学-机械抛光工艺开发 编号：JFKJ-21-214 作者：炬丰科技 摘要 III-V材料与绝缘子上硅平台的混合集成是一种很有前景的技术
2023-04-18 10:05:00151 
云安全和传统安全的区别如下：
1. 呈现方式不同：传统安全主要是面向本地网络和IT基础设施的安全方案，而云安全则是面向整个云计算环境的安全方案，包括公有云、私有云、混合
2023-04-14 16:39:312148 半导体材料和半导体器件在世界电子工业发展扮演的角色我们前几天已经聊过了。而往往身为使用者的我们都不太会去关注它成品之前的过程，接下来我们就聊聊其工艺流程。今天我们来聊聊如何从原材料到抛光晶片的那些事儿。
2023-04-14 14:37:502034 
抛光工作在电镀、涂装、阳极氧化等表面处理过程中发挥重要作用。早期的抛光工作由工人手动操作，通过经验和观察进行打磨抛光。此种作业方式既损害环境和身体健康，也具备较大的安全风险和人力成本，逐渐被自动抛光
2023-04-14 10:21:59337 
是世界上最圆的球了。我们通过短片了解一下。1、研磨与抛光的区别研磨：利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。
2023-04-13 14:24:341683 全硅等离子体色散效应环形谐振器调制器具有诱人的发展前景。然而，其性能目前受限于调制深度和开关速度之间的权衡。
2023-04-12 09:12:121594 大家目前对于等离子光谱仪的普遍使用早已见怪不怪了，这种相对来说较为细致的设备是一定要尽早的实施维修保养的，否则很容易就没办法运用或者机械设备产生情况，下面大家一起来看看等离子光谱仪需要进行哪种
2023-04-07 07:37:42124 
本教程向您展示了有关如何将环氧树脂端接和抛光 sc 连接器连接到3毫米护套光纤的详细分步指南。彻底了解抛光光纤连接器的原因和方法，将有助于确保一致、高质量的端接。
2023-04-03 10:52:02186
导读： 屏(也叫面板)，是等离子电视最重要的部件，占整机成本的六、七成。屏的好坏，直接决定着平板电视的优劣。目前世界上只有韩国LG、三星和日本的松下等少数厂商具备等离子屏的生产能力，其中LG的A3生产线被公认为最先进的等离子生产线。很大程度上，等离子电视的选择就是等离子屏的选择。
2023-03-30 15:56:10452 2RM3600A6L2 气体放电管- GDT /气体等离子体避雷器3600Discharge 2-Electrode Arrester 5.5*6 直流击穿电压3600V气体
2023-03-27 17:04:09
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