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台积电 将决定在14nm制程节点转向使用垂直型晶体管结构

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2023-03-28 06:37:56

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快讯:2023年全面验证华为14nm以上EDA工具 美国芯片法案限制细则公布 我们来看看近期的一些行业热点新闻: 华为14nm以上EDA工具国产化 华为轮值董事长徐直军透露了几个关键信息点:华为芯片
2023-03-27 16:27:184778

全新二维半导体垂直鳍片/高介电自氧化物外延集成架构

工艺技术节点进入亚3 nm以后,垂直鳍片沟道架构的新器件开发仍备受关注,人们正在考虑制造基于垂直鳍式结构开发垂直围栅器件(VGAA)或垂直传输场效应晶体管(VTFET),以满足“后摩尔时代”芯片的更高集成度、高性能和低功耗发展要求,世界著名集成电路制造龙头公司IBM和三星已进行相关研发。
2023-03-27 11:25:401373

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