第1届全国等离子体生物医学会议由西安交通大学发起的“第一届全国等离子体生物医学学术会议”于2024年3月15日-18日在西安成功举办。会议吸引了来自全国80余家高校、研究所、医院和企业的280
2024-03-22 08:01:18
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中微公司的电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova系列第500台反应腔顺利付运国内一家先进的半导体芯片制造商。
2024-03-21 15:12:4392 一般高效单晶硅电池采用化学腐蚀制绒技术，制得绒面的反射率可达到10％以下。目前较为先进的制绒技术是反应等离子蚀刻技术（RIE），该技术的优点是和晶硅的晶向无关，适用于较薄的硅片。
2024-03-19 09:27:59100 
刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似，先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜，再将掩膜与待加工物料模组装好，将样品置于刻蚀室内，通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将待加工物料表面的非掩膜区域刻蚀掉，以得到所需的凹槽和沟槽。
2024-03-11 15:38:24454 
背景介绍 电场诱导二次谐波产生(Electric Field Induced Second Harmonic Generation, EFISHG)光谱是一种等离子体诊断学中常用于测量体相和表面
2024-03-08 06:37:4541 
Aigtek诚邀您参会2024年3月15-17日，Aigtek安泰电子将携一众明星产品及专业测试解决方案亮相第一届全国等离子体生物医学学术会议。在此，我们诚邀您莅临会议参观、洽谈与观摩！-时间
2024-03-07 08:01:05182 现在对 2 个晶圆进行处理，为粘合做好准备。它们经过 N2 等离子体处理以激活表面。等离子处理改变了表面的特性，以增加表面能并使其更加亲水。
2024-03-06 11:31:03235 
pcb等离子处理的5大作用
2024-03-05 10:24:4897 解决核聚变反应中过热等离子体不可预测性问题，是实现稳定电力产出的最大瓶颈之一。近期，美国普林斯顿等离子体物理实验室（简称 PPPL）取得重要进展，已经成功研发新型AI系统，可提前300毫秒预测聚变中等离子体的“撕裂”行为
2024-02-28 16:08:07250 共读好书 陈婷 周伟洁 王涛 （无锡中微高科电子有限公司） 摘要： 研究了微波等离子工艺影响导电胶形貌的机理，进一步分析了等离子清洗次数对电路可靠性的影响。结果表明，对装片后的电路进行 1 次等离子
2024-02-20 13:37:16125 
等离子发动机原理： 等离子发动机是一种利用电磁力将离子加速并喷射出来产生推力的发动机。它主要包括等离子体产生器、离子加速器和喷嘴等组成。下面将详细介绍等离子发动机的工作原理。 生成等离子体：等离子体
2024-02-14 18:18:003168 等离子显示器（Plasma Display Panel，简称PDP）是一种采用气体放电和发光材料发光的平板显示技术。与液晶显示器相比，等离子显示器拥有更高的对比度、更高的色彩饱和度和更快的响应速度
2024-02-03 10:00:17305 。常见的干法刻蚀设备有反应离子刻蚀机（RIE）、电感耦合等离子体刻蚀机（ICP）、磁性中性线等离子体刻蚀机（NLD）、离子束刻蚀机（IBE），本文目的对各刻蚀设备的结构进行剖析，以及分析技术的优缺点。
2024-01-20 10:24:561104 
报告提及，该公司在芯片制造领域关键设备，如CCP和ICP等离子体刻蚀设备销售表现强劲，预期2023年营业额将达47亿元，较2022年的基础上再增加约15.6亿元，同比攀升约49.4％。
2024-01-15 11:17:39233 对DRIE刻蚀，是基于氟基气体的高深宽比硅刻蚀技术。与RIE刻蚀原理相同，利用硅的各向异性，通过化学作用和物理作用进行刻蚀。不同之处在于，两个射频源：将等离子的产生和自偏压的产生分离
2024-01-14 14:11:59508 
TF磁体旨在为洪荒 70的等离子体创造并维持环向磁场，这些磁体被包裹在真空室中，作为超高温等离子体的“反应容器”；真空室与TF磁体外则安装有内冷屏，它能有效地隔离高温组件对磁体的干扰。
2024-01-11 10:45:19338 北方华创最近研发出了一款12英寸高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）设备，名为Orion Proxima，并已正式进入客户端验证阶段。这一创新标志着北方华创在绝缘介质填充工艺技术上取得了重大突破，同时也为该公司进军12英寸介质薄膜设备领域，打开百亿级市场铺平了道路。
2024-01-09 18:17:35475 ——利用在基板上的金属薄膜中产生的表面波来散热，是一个重要的突破。 韩国科学技术学院（KAIST）宣布，机械工程系Bong Jae Lee教授的研究小组在世界上首次成功测量了沉积在基板上的金属薄膜中“表面等离子体激元”（surface pla
2024-01-03 15:32:39184 据传感器专家网获悉，12月28日，位于广州的增芯科技MEMS量产线项目举行首台生产设备搬入仪式， 本次搬入设备是由中微半导体设备（上海）有限公司制造的Primo D-RIE刻蚀设备反应台。 增芯12
2024-01-02 18:10:26422 
01、重点和难点 等离子体通常被认为是物质的第四态，除了固体、液体和气体之外的状态。等离子体是一种高能量状态的物质，其中原子或分子中的电子被从它们的原子核中解离，并且在整个系统中自由移动。这种状态
2023-12-26 08:26:29209 
瑞芯微RK2606USB驱动软件求分享！
谢谢大师们！
2023-12-21 10:46:16
01、重点和难点 在硅材料加工和研究领域，皮秒脉冲激光激发的等离子体对于提高加工技术、开发创新设备以及加深对材料物理特性的理解都有重大研究意义。这种影响尤其体现在硅材料表面等离子体形态变化的研究
2023-12-19 10:53:11236 
众所周知，化合物半导体中不同的原子比对材料的蚀刻特性有很大的影响。为了对蚀刻速率和表面形态的精确控制，通过使用低至25nm的薄器件阻挡层的，从而增加了制造的复杂性。本研究对比了三氯化硼与氯气的偏置功率，以及气体比对等离子体腐蚀高铝含量AlGaN与AlN在蚀刻速率、选择性和表面形貌方面的影响。
2023-12-15 14:28:30227 
基于GaN的高电子迁移率，晶体管，凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度，应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言，GaN的相关材料，如AlGaN，凭借其物理和化学稳定性，为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24294 
)
{ { {
EncposVolBufindex = 0;
ad2s1210_position_mode; ad2s1210_position_mode; 等离子体
qspi_sspin_pull_high; 密钥
2023-12-12 06:52:45
书接上节，常见的物质的第四种自然状态是等离子体状态。我们比较熟知的恒星天体就是等离子体态的一个例子。当然，它和我们最常见到的固体、液体或气体的定义的定义不相符合。等离子体态可以被定义为高能电离原子
2023-12-08 09:47:18232 
该专利详细阐述了一种针对含硅有机介电层的高效刻蚀方法及相应的半导体工艺设备。它主要涉及到通过交替运用至少两个刻蚀步骤来刻蚀含硅有机介电层。这两个步骤分别为第一刻蚀步骤和第二刻蚀步骤。
2023-12-06 11:58:16370 
光捕获技术是提高太阳能电池光吸收率的有效方法之一，它可以减少材料厚度，从而降低成本。近年来，表面等离子体（SP）在这一领域取得了长足的进步。利用表面等离子体的光散射和耦合效应，可以大大提高太阳能电池的效率。
2023-12-05 10:52:27497 
我使用ADI7180做三路CVBS输入，decoder是瑞芯微的RK3288, 显示出现的图像中，红色与蓝色反过来了；
请教ADV7180中，是那个寄存器控制色彩设置？
感谢
2023-12-05 07:22:12
GaN作为宽禁带III-V族化合物半导体最近被深入研究。为了实现GaN基器件的良好性能，GaN的处理技术至关重要。目前英思特已经尝试了许多GaN蚀刻方法，大部分GaN刻蚀是通过等离子体刻蚀来完成
2023-12-01 17:02:39259 
高压放大器在等离子体实验中有多种重要应用。等离子体是一种带电粒子与电中性粒子混合的物质，其具有多种独特的物理性质，因此在许多领域具有广泛的应用，例如聚变能源、等离子体医学、材料加工等。下面安泰电子将介绍高压放大器在等离子体实验中的应用。
2023-11-27 17:40:00189 
一种使用等离子体激元的新型成像技术能够以增强的灵敏度观察纳米颗粒。休斯顿大学纳米生物光子学实验室的石伟川教授和他的同事正在研究纳米材料和设备在生物医学、能源和环境方面的应用。该小组利用等离子体
2023-11-27 06:35:23121 磁场辅助激光加工技术是利用磁场约束激光加工诱导的等离子体，致使等离子体沿磁场方向膨胀，其余方向受压缩，因而等离子体的密度会很低，大大削弱了屏蔽效果，使更多的激光能量能够穿透材料。
2023-11-23 15:03:11301 摘要本发明涉及芯片制造技术领域。硅基的cu/sio2混合结合样品和金刚石基础的cu/sio2混合结合样品的准备后，进行等离子体活性。经等离子体活性处理后，将cu/sio2混合结合试料浸泡在有机酸溶液中清洗后干燥。
2023-11-22 09:25:59285 
近日，深圳技术大学阮双琛教授和周沧涛教授团队在国际上首次提出基于超光速等离子体尾波场产生阿秒脉冲、亚周期相干光激波辐射的物理方案，并阐释了一种由电子集体作用主导的全新相干辐射产生机制。
2023-11-09 10:40:40307 
众所周知，倾斜光纤光栅可以激发众多的包层模式，并且对光纤表面周围环境敏感。当光纤包层模式与表面等离子共振相位匹配时，倾斜光纤光栅可以在金表面激发倏逝表面等离子体共振波。
2023-10-20 15:48:08330 
等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分，随着微电子技术的发展，等离子体清洗的优势越来越明显。文章介绍了等离子体清洗的特点和应用，讨论了它的清洗原理和优化设计方法。最后分析了等离子体清洗工艺的关键技术及解决方法。
2023-10-18 17:42:36447 
如此产生之离子、自由基被连续的冲撞和受电场作用力而加速，使之与材料表面碰撞，并破坏数微米范围以内的分子键，诱导削减一定厚度，生成凹凸表面，同时形成气体成分的官能团等表面的物理、化学变化，提高镀铜粘结力、除污等抄板作用。
2023-10-18 15:17:03175 焊线连接：工艺通过使用氩离子进行物理撞击，移除基材上的微量污染和氧化物。这种工艺对于解决焊线接合力不足是一种非常有效的途径。主要优点包括焊线接合力具有显著的增长。焊线过程中对于设备输出压力值的需求降低可以提高生产能力。
2023-10-16 10:24:22799 
结构体在FLASH的存放中，数据地址是连续的吗
2023-10-12 06:06:29
SEM/FIB（Scanning Electron Microscope/Focused Ion beam）双束系统中，FIB是将离子源（大多数FIB采用Ga源，也有Xe、He等离子源）产生的离子
2023-10-07 14:44:41393 
在半导体制造中，刻蚀工序是必不可少的环节。而刻蚀又可以分为干法刻蚀与湿法刻蚀，这两种技术各有优势，也各有一定的局限性，理解它们之间的差异是至关重要的。
2023-09-26 18:21:003304 
通常，我们需要将岩性模式转换为多个。一次蚀刻通道中的胶片类型
2023-09-26 11:20:00130 
基于电池供电的等离子打火机。制作新奇打印方式的等离子打印机！包含相关图文说明、代码、线路图
2023-09-22 07:54:27
为了提高等离子消融手术系统的频率输出,提出一种新型的全桥拓扑结构。应用LCR谐振原理,对传统的全桥逆变拓扑结构进行改进,当谐振电路工作在恰当的区域可以实现开关管的零电压的开通和近似零电压的关断,能
2023-09-20 07:38:22
纳米级[1] 。传统的平面化技术如基于淀积技术的选择淀积、溅射玻璃 SOG、低压 CVD、等离子体增强 CVD、偏压溅射和属于结构的溅射后回腐蚀、热回流、淀积 —腐蚀 —淀积等 , 这些技术在 IC
2023-09-19 07:23:03
背景 Adi Salomon 教授的实验室主要致力于了解纳米级分子与光的相互作用，并构建利用光传感分子的设备。该小组设计并制造了金属纳米结构，并利用它们通过与表面等离子体激元的相互作用来影响纳米级
2023-09-19 06:28:29223 
聚变等离子体运行迈出重要一步，是我国核聚变能开发进程中的又一重要里程碑。 随着中国环流三号装置中性束注入的投入，本套高压电源将为等离子体参数的提升做进一步贡献。PPEC（Programmable
2023-09-07 10:39:35
超透镜Superlenses是由等离子体激元材料和超材料制成的，并在亚衍射尺度上，实现特征成像。
2023-08-31 15:04:24744 
据报道，尹志尧在电话会议上表示，ccp（中国电容耦合等离子体）刻蚀设备市场的市场占有率有望从去年10月的24%增加到60%。一度成为领跑者的美国Lam Research的占有率急剧下降后，icp工具市场的占有率可能会从原来的位置上升到75%。
2023-08-28 11:21:00683 来自斯图加特大学(德国)的 Harald Gießen 教授的团队正在致力于将光子学和纳米技术用于新的应用和设备。研究人员正在研究通过控制等离子体效应来创建显示器的技术。等离激元学研究光与金属纳米
2023-08-23 06:33:33215 
等离子体显示器在对比度、视角和响应速度等方面的优势较为显著，适合用于娱乐和家庭影院等方面；而液晶显示器则在功耗、分辨率和便携性等方面有一定的优势，适合办公和移动设备等领域。选择时，可以根据使用需求和个人偏好来进行选择。
2023-08-10 14:38:36765 在微电子制造中，刻蚀技术是制作集成电路和其他微型电子器件的关键步骤之一。通过刻蚀技术，微电子行业能够在硅晶片上创建复杂的微观结构。本文旨在探讨刻蚀设备的市场规模以及行业内的竞争格局。
2023-08-02 10:01:08623 
深圳市中芯巨能电子有限公司，成立于2010年，是一家集电子元器件代理商、产品方案开发和技术服务为一体的高科技企业，致力为客户提供可靠元器件、成本控制及方案解决。公司代理分销国内外品牌逾三百家，主要
2023-07-31 15:55:24
的成熟程度也间接决定了产品的良率和吞吐量。 这每一道工序中，都有所需的对应设备，比如光刻所需的EUV、DUV光刻机，刻蚀所需的干法、湿法刻蚀机，以及化学、物理气相沉积所需的CVD、PVD设备等等。光刻机作为半导体制造的核心
2023-07-30 03:24:481555 
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-21 16:01:32
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-21 13:09:52
在常规离子注入中，三氟化硼常用于形成P型浅结的注入不是B,因为BF2+离子大且重。B10H14,B18H22和硼烷（C2B10&或CBH）是研究中的大分子。
2023-07-21 10:18:571397 
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-19 17:09:05
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 14:30:20
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 14:28:29
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 14:27:42
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 12:18:07
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 12:17:17
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 12:15:57
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统, 实现小规模试验中 2-4 英寸硅片等半导体衬底表面的清洁, 确保样品表面清洁无污染, 满足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制备.
2023-07-07 14:55:44439 
行业简介： 微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化
2023-07-03 18:22:50
随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm，铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻，我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压，但大多数铝蚀刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
近日，Nano Letters（《纳米快报》）在线发表武汉大学高等研究院梁乐课题组和约翰霍普金斯大学Ishan Barman课题组关于高效构建等离子增强NV色心的纳米器件研究进展，他们利用自下向上的DNA自组装方法开发了一种混合型独立式等离子体纳米金刚石
2023-06-26 17:04:52396 
环氧塑封是IC主要封装形式，环氧塑封器件开封方法有化学方法、机械方法和等离子体刻蚀法，化学方法是最广泛使用的方法，又分手动开封和机械开封两种。
2023-06-25 10:09:18443 环氧塑封是IC主要封装形式，环氧塑封器件开封方法有化学方法、机械方法和等离子体刻蚀法，化学方法是最广泛使用的方法，又分手动开封和机械开封两种。
2023-06-18 09:56:28314 上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大口径射频离子源 RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 实现 300mm 和 200mm 硅片蚀刻, 刻蚀
2023-06-15 14:58:47665 
交流电源板过载防护高电压气体放电管 气体放电管- GDT /气体等离子体避雷器 2R3600ML5 Gas Discharge
2023-06-14 17:30:02
使用负偏压的萃取电极将离子从离子源内的等离子体中抽出，并将其加速到大约50keV的能量。
2023-05-29 09:37:59381 
金属银镀PTFE涂层等离子处理是指在金属镀银进行PTFE涂层，并在PTFE涂层上进行等离子处理的一种表面处理技术。该技术可以使金属表面具有一定的耐腐蚀性、耐磨性和耐高温性，同时还可以提高金属表面的润滑性和粘附性。
2023-05-25 15:54:14513 
为了形成高密度等离子体，需要有激发混合气体的射频（RF）源，并直接使高密度等离子体到达硅片表面。在HDP-CVD反应腔中，主要是由电感耦合等离子体反应器（ICP）来产生并维持高密度的等离子体。当射频电流通过线圈（coil）时会产生一个交流磁场
2023-05-22 15:47:373153 
在天体物理学中，有许多天体都具有强大的磁场，例如恒星、行星和黑洞。这些天体周围通常有大量的等离子体，例如恒星风、行星际介质和吸积盘。
2023-05-17 09:24:16452 DPC（DirectPlatingCopper）薄膜工艺是一种利用磁控溅射技术制备铜薄膜的方法。该工艺是将目标材料为铜的铜靶放置在真空腔室中，通过磁控溅射技术使得铜靶表面产生等离子体，利用等离子体中的离子轰击靶表面，将其溅射成细小颗粒并沉积在基底上形成铜薄膜的过程。
2023-05-11 17:38:18843 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准射频等离子体源 RF2100ICP Plasma Source上海伯东代理美国 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元
2023-05-11 14:14:53
芯片等离子活化技术是一种物理处理技术，通过改变材料表面的化学性质、物理性质和机械性能，实现对材料的表面处理和改性。芯片等离子活化技术具有处理效率高、处理精度高、无需添加剂、处理后材料性能稳定和应用范围广泛等优势。
2023-05-06 10:44:50650 
通过金徕等离子体处理，可以提高金属表面的活性，改善金属表面的结合力、增强涂层附着力等性质，使得金属制品的质量和性能得到明显的改善和提升。此外，等离子体处理还可以改善金属表面的光洁度，使得金属表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23525 
图案化工艺包括曝光(Exposure)、显影(Develope)、刻蚀(Etching)和离子注入等流程。
2023-04-28 11:24:271073 
帮助科学家探索科学框架的设计。我们可以让AI去更大的设计空间搜索设计策略和控制优化策略。比如近期发表在Nature 上的工作，使用深度强化学习控制核聚变反应中的等离子体，第一次发现了全新的等离子体结构[3]。
2023-04-21 09:56:59406 等离子体均匀性和等离子体位置的控制在未来更加重要。对于成熟的技术节点，高的产量、低的成本是与现有生产系统竞争的关键因素。如果可以制造低成本的可靠的刻蚀系统，从长远来看，可以为客户节省大量费用，有可能
2023-04-21 09:20:221347 (6~10mm)、温度漂移等问题,无法满足发动机复杂机械内部非定常测量的需要。而在对新技术的探索中,等离子体技术由于其有着许多先天优势而引起了研究者们的关注，如其理论上有着高频率响应的特性、不受热惯性的限制、基于等离子体原理的探针结构尺寸小,可达毫米尺度。因此认为其具有十分优秀的发展潜力，有望突破高温高
2023-04-19 15:29:42260 
为满足集成电路中对纳米结构器件的尺寸及质量的高性能要求，有效地解决表面等离子体光刻技术中存在的near-field OPE问题，中国科学院大学集成电路学院教授韦亚一课题组通过对表面等离子体光刻特有的近场增强效应进行定量表征
2023-04-18 10:49:03473 压力主要控制刻蚀均匀性和刻蚀轮廓，同时也能影响刻蚀速率和选择性。改变压力会改变电子和离子的平均自由程(MFP),进而影响等离子体和刻蚀速率的均匀性。
2023-04-17 10:36:431922 全硅等离子体色散效应环形谐振器调制器具有诱人的发展前景。然而，其性能目前受限于调制深度和开关速度之间的权衡。
2023-04-12 09:12:121594 2023中国（青岛）国际太阳能光伏及储能展览会2023China(Qingdao) International Solar Photovoltaic and Photovoltaic Energy
2023-04-08 10:36:29
大家目前对于等离子光谱仪的普遍使用早已见怪不怪了，这种相对来说较为细致的设备是一定要尽早的实施维修保养的，否则很容易就没办法运用或者机械设备产生情况，下面大家一起来看看等离子光谱仪需要进行哪种
2023-04-07 07:37:42124 
导读： 屏(也叫面板)，是等离子电视最重要的部件，占整机成本的六、七成。屏的好坏，直接决定着平板电视的优劣。目前世界上只有韩国LG、三星和日本的松下等少数厂商具备等离子屏的生产能力，其中LG的A3生产线被公认为最先进的等离子生产线。很大程度上，等离子电视的选择就是等离子屏的选择。
2023-03-30 15:56:10452 尤为重要了。 1：工业除静电离子风嘴的原理 工业除静电离子风嘴是一种高科技产品，它通过高压电场作用于材料表面，使其电离从而达到除尘的目的。常见的等离子体有CFO、PLAM-SINK及VESD等几种。高压电击产生巨大能量，能够将不良电荷中
2023-03-29 09:35:52367 
2RM3600A6L2 气体放电管- GDT /气体等离子体避雷器3600Discharge 2-Electrode Arrester 5.5*6 直流击穿电压3600V气体
2023-03-27 17:04:09
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