美国第42届西部半导体展全景:英特尔、赛灵思竞风流(图赏)

春波绿影 发表于 2012-07-17 15:32 | 分类标签:美国西部半导体展应用材料赛灵思

  电子发烧友网讯:上个星期,第四十二届美国西部半导体展在旧金山莫斯康展览中心举行,参加展会的人数超过29000个,这是一个为生产设备和材料供应商提供的贸易战,每年举办一届。与此同时,展示太阳能设备的国际太阳能科技展览会也和这个半导体展一样在这个地方举行了很多届。

  据每年举办这个展览会的晶圆设备供应商贸易团体SEMI统计数据显示,今年的与会人数相对于去年的30985有明显的下降。他们同时强调,其中的14%的参展者是来自海外。

  这次展会提供了1307个展位,相对于2011年的1273个有了小幅度的提高。据统计有来自21个国家690个公司的人员参加了这次展览会,其中还有51个从未从参加过展览的与会者。

  今年的大会同样对从包装和收益管理到光刻等所有领域进行了一个精选的技术简报,这一点也在英特尔工程院士Shekhar Borkar、赛灵思首席技术官Ivo Bolsens 和应用材料公司的能源和环境解决方案业务部门的总经理Mark Pinto的专题演讲中屡屡提到。

  尽管Intel和ASML因为公布Intel投资光刻工具供应商来支持450nm光刻和极端紫外线系统的研发而引起了轩然大波,但还有其他重要的发展动态值得我们关注的。

英特尔工程院士Shekhar Borkar,是芯片制造巨人extreme—scale技术的负责人

  英特尔工程院士Shekhar Borkar,是芯片制造巨人extreme—scale技术的负责人,在7.10的开幕大会上进行了专题演讲。Borkar声称exascale运算将会在十年内实现,并宣称除非基本的电源消耗障碍被克服,否则射不能达到期望的标准。

  从观众席角度拍的Borkar演讲的全景图

从观众席角度拍的Borkar演讲的全景图

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