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电子发烧友网>汽车电子>意法半导体与 Soitec 就碳化硅衬底制造技术达成合作

意法半导体与 Soitec 就碳化硅衬底制造技术达成合作

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2024-05-07 10:16:491123

X-Fab与Soitec携手推进碳化硅功率器件生产

近日,纯晶圆代工厂X-Fab与Soitec宣布将开展深度合作,共同推动碳化硅(SiC)功率器件的生产。此次合作将依托X-Fab位于德克萨斯州拉伯克的工厂,利用Soitec的SmartSiC技术生产碳化硅功率器件。
2024-05-30 11:39:201196

半导体50亿欧元建厂!

来源:国芯网,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 6月2日消息,半导体宣布将在意大利卡塔尼亚建设世界首个全流程垂直集成的碳化硅工厂。 在该园区中,半导体将整合碳化硅产业链从衬底开发到外延生长
2024-06-04 09:34:281497

半导体与吉利汽车深化碳化硅器件合作

近日,汽车电子领域的佼佼者半导体(简称ST)与全球知名汽车及新能源汽车制造商吉利汽车集团宣布了一项重要合作。双方已签署碳化硅(SiC)器件的长期供应协议,标志着双方在原有合作基础上,对碳化硅器件的联合研发与应用将迈入新的阶段。
2024-06-04 14:30:471236

半导体(ST)在意大利打造世界首个一站式碳化硅产业园

。 ❖ 卡塔尼亚碳化硅产业园将实现ST的碳化硅制造全面垂直整合计划,在一个园区内完成从芯片研发到制造、从晶圆衬底到模块的碳化硅功率器件全部生产,赋能汽车和工业客户的电气化进程和高能效转型。 半导体(简称ST)宣布将在意大利卡塔
2024-06-06 09:15:261623

半导体与吉利汽车签署长期碳化硅供应协议

近日,半导体行业的佼佼者半导体(STMicroelectronics)与领先的汽车制造商吉利汽车集团宣布签署了一份长期碳化硅(SiC)供应协议。此举不仅巩固了双方在SiC器件领域的现有合作,更标志着双方合作关系的进一步深化。
2024-06-06 09:40:44994

半导体将在意大利新建8英寸SiC工厂

全球半导体行业的领军企业半导体(简称ST)近日宣布,将在意大利卡塔尼亚建立一座全新的综合性大型制造基地,专注于8英寸碳化硅(SiC)功率器件和模块的制造、封装、测试等全流程生产。这一重要举措不仅体现了半导体碳化硅技术领域的深厚实力,也标志着公司向全面垂直整合碳化硅产业链迈出了坚实的一步。
2024-06-07 18:07:053036

重庆三安8英寸碳化硅衬底厂已投产

近日,重庆三安8英寸碳化硅(SiC)衬底厂正式投产,标志着这一高科技项目比预期提前两个月进入生产阶段,为中国电动汽车产业供应链注入了强劲动力。该项目由全球领先的半导体制造半导体
2024-09-04 18:07:241531

半导体第四代碳化硅功率技术问世

半导体(简称ST)推出第四代STPOWER碳化硅(SiC)MOSFET技术。第四代技术有望在能效、功率密度和稳健性三个方面成为新的市场标杆。在满足汽车和工业市场需求的同时,半导体还针对
2024-10-12 11:30:592195

半导体与雷诺集团签署碳化硅长期供货协议

‍‍‍‍‍‍‍‍半导体与雷诺集团签署长期供货协议,保证安培碳化硅功率模块的供应安全。
2024-12-05 10:41:211095

半导体STGAP3S系列电隔离栅极驱动器概述

半导体的STGAP3S系列碳化硅(SiC)和 IGBT功率开关栅极驱动器集成了半导体最新的稳健的电隔离技术、优化的去饱和保护功能和灵活的米勒钳位架构。
2025-01-09 14:48:331280

碳化硅衬底的环吸方案相比其他吸附方案,对于测量碳化硅衬底 BOW/WARP 的影响

半导体领域,随着碳化硅(SiC)材料因其卓越的电学性能、高热导率等优势逐渐崭露头角,成为新一代功率器件、射频器件等制造的热门衬底选择,对碳化硅衬底质量的精准把控愈发关键。其中,碳化硅衬底的 BOW
2025-01-13 14:36:13394

不同的碳化硅衬底的吸附方案,对测量碳化硅衬底 BOW/WARP 的影响

在当今蓬勃发展的半导体产业中,碳化硅(SiC)衬底作为关键基础材料,正引领着高性能芯片制造迈向新的台阶。对于碳化硅衬底而言,其 BOW(弯曲度)和 WARP(翘曲度)参数犹如精密天平上的砝码,细微
2025-01-14 10:23:10400

碳化硅衬底的生产过程

碳化硅(SiC)作为一种宽禁带半导体材料,因其出色的物理和化学特性,如高硬度、高熔点、高热导率和化学稳定性,在半导体产业中得到了广泛的应用。SiC衬底制造高性能SiC器件的关键材料,其生产过程复杂
2025-02-03 14:21:001983

碳化硅衬底的特氟龙夹具相比其他吸附方案,对于测量碳化硅衬底 BOW/WARP 的影响

一、引言 随着碳化硅半导体等领域的广泛应用,对其衬底质量的检测愈发关键。BOW(翘曲度)和 WARP(弯曲度)是衡量碳化硅衬底质量的重要参数,准确测量这些参数对于保证器件性能至关重要。而不同的吸附
2025-01-23 10:30:54286

碳化硅半导体中的作用

碳化硅(SiC)在半导体中扮演着至关重要的角色,其独特的物理和化学特性使其成为制作高性能半导体器件的理想材料。以下是碳化硅半导体中的主要作用及优势: 一、碳化硅的物理特性 碳化硅具有高禁带宽度、高
2025-01-23 17:09:352673

三安光电与半导体重庆8英寸碳化硅项目通线

三安光电和半导体于2023年6月共同宣布在重庆成立8英寸碳化硅晶圆合资制造厂(安半导体有限公司,简称安),全面落成后预计总投资约为230亿元人民币(约32亿美元)。该合资厂预计将在2025年四季度投产,届时将成为国内首条8英寸车规级碳化硅功率芯片规模化量产线。
2025-02-27 18:12:341593

合资工厂通线启示:国产自主品牌碳化硅功率半导体的自强之路

近日,三安光电与半导体在重庆合资设立的安半导体碳化硅晶圆工厂正式通线,预计2025年四季度批量生产,形成了合资碳化硅功率器件的鲶鱼效应,结合过去二十年合资汽车和自主品牌的此消彼长发展历程,不难看出国产碳化硅功率半导体必须走自立自强与突围之路:从合资依赖到自主创新的路径分析。
2025-03-01 16:11:141016

半导体与重庆邮电大学达成战略合作

日前,服务多重电子应用领域、全球排名前列的半导体公司半导体(ST)与重庆邮电大学在重庆安半导体碳化硅晶圆厂通线仪式后的“碳化硅产业发展论坛”上正式签署产学研战略合作协议。
2025-03-21 09:39:241358

碳化硅晶圆特性及切割要点

01衬底碳化硅衬底是第三代半导体材料中氮化镓、碳化硅应用的基石。碳化硅衬底碳化硅粉末为主要原材料,经过晶体生长、晶锭加工、切割、研磨、抛光、清洗等制造过程后形成的单片材料。按照电学性能
2025-07-15 15:00:19962

【新启航】如何解决碳化硅衬底 TTV 厚度测量中的各向异性干扰问题

摘要 本文针对碳化硅衬底 TTV 厚度测量中各向异性带来的干扰问题展开研究,深入分析干扰产生的机理,提出多种解决策略,旨在提高碳化硅衬底 TTV 厚度测量的准确性与可靠性,为碳化硅半导体制造工艺提供
2025-08-08 11:38:30659

激光干涉碳化硅衬底 TTV 厚度测量中的精度提升策略

提供理论与技术支持。 引言 随着碳化硅半导体产业的蓬勃发展,对碳化硅衬底质量要求日益严苛,晶圆总厚度变化(TTV)作为关键质量指标,其精确测量至关重要。激光干涉
2025-08-12 13:20:16779

碳化硅衬底 TTV 厚度测量数据异常的快速诊断与处理流程

,为半导体制造工艺的稳定运行提供支持。 引言 在碳化硅半导体制造过程中,TTV 厚度测量数据是评估衬底质量的关键依据。然而,受测量设备性能波动、环境变化、样品特性
2025-08-14 13:29:381028

【新启航】国产 VS 进口碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪的性价比分析

本文通过对比国产与进口碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪在性能、价格、维护成本等方面的差异,深入分析两者的性价比,旨在为半导体制造企业及科研机构选购测量设备提供科学依据,助力优化资源配置。 引言 在
2025-08-15 11:55:31707

【新启航】探针式碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪的操作规范与技巧

摘要 本文围绕探针式碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪,系统阐述其操作规范与实用技巧,通过规范测量流程、分享操作要点,旨在提高测量准确性与效率,为半导体制造过程中碳化硅衬底 TTV 测量提供标准化操作
2025-08-20 12:01:02552

探针式碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪的操作规范与技巧

本文围绕探针式碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪,系统阐述其操作规范与实用技巧,通过规范测量流程、分享操作要点,旨在提高测量准确性与效率,为半导体制造过程中碳化硅衬底 TTV 测量提供标准化操作指导
2025-08-23 16:22:401083

碳化硅衬底 TTV 厚度测量技术的最新发展趋势与未来展望

摘要 本文聚焦碳化硅衬底晶圆总厚度变化(TTV)厚度测量技术,剖析其在精度提升、设备小型化及智能化测量等方面的最新发展趋势,并对未来在新兴应用领域的拓展及推动半导体产业发展的前景进行展望,为行业技术
2025-09-01 11:58:10840

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