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对于 7 纳米制程，三星和台积电两大晶圆代工龙头都早已入手布局，以便争夺 IC 设计业者们的订单。其中，日前传出三星原定在 2018 年破土动工的韩国华城 18 号生产线，动工时间已经被提前到了 2017 年的 11 月，以便在 2019 年能够进入 7 纳米制程的量产阶段。其中，18 号生产线将会架设 10 多台极紫外光（EUV）设备，以强化生产效能。
至于，台积电在 7 纳米制程的布局，根据台积电高层之前在法说会上的说法，表示目前已经有 12 个产品设计定案，这使得第一代 7 纳米制程将会在 2017 年底或 2018 年达成量产。至于，第二代的 7 纳米制程则会在 2019 年达成量产的目标，制程中也将导入EUV的技术。因此，在不论是三星，或者台积电都将在 7 纳米制程上都将引入 EUV 技术的情况下，而这种被视为延续摩尔定律的设备，正是被寄望能推动未来制程进步的重要关键。
我们关注从一个芯片制程到另一个制程的变化。这些技术清楚地知道进入7纳米制程的重要意义，它们自然而然假定从物理上看下一代芯片制程技术会碰到不可逾越的问题，从而使得摩尔定律终结。这样考虑是正确的，过去也的确出现了巨大的挑战，但芯片产业曾击退这些挑战；于是，许多人错误地相信产业会再次击退挑战。我的看法是，可能会成功，也可能不会，但物理并非唯一的挑战。
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