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UV技术的开发和应用:UV洗净改质的测定方法
UV有固體表面改質和洗淨的優秀
能力。使用UV/O3的光表面處理技
術是現今半導體、液晶顯示器和
光電元件提高製品
良率不可欠缺的新技術。
• 以下列舉有關UV洗淨、
改質機構的評價和測定方法：
用接触角来测定洗净度的效果比较
處理條件接觸角(度)
無處理的玻璃板26
洗劑→自來水→二氧化氫系溶劑39
洗劑→自來水→純水17
洗劑→自來水→IPA 13
O3水＜10
洗劑→自來水→電漿5
洗劑→自來水→UV/O3 4
• 能達成4度的值是因為有機化合物的油膜經
254mm波長UV照射破壞成為單分子狀態時的結果。
實用性而言是以濕式洗淨將污垢除到20度以下
，然後再加上光洗淨製程，其效果是最佳的。
UV光量照度法
• 1.紫外線能量計（測量UV機照度/光量用）
• TYPE可分為測量照度值(mW / cm2 ）
積算光量（ UVmJ / cm2）
照度/積算光量二合一
一般UV照射量在600mJ以上時水滴接觸角即
可達到約9度(需經前製程處理,如水洗)
UV積算光量( mJ / cm2 ) =
UV照度( mW / cm2 ) × 照射時間( S秒)
UV有固體表面改質和洗淨的優秀
能力。使用UV/O3的光表面處理技
術是現今半導體、液晶顯示器和
光電元件提高製品
良率不可欠缺的新技術。
• 以下列舉有關UV洗淨、
改質機構的評價和測定方法：
用接触角来测定洗净度的效果比较
處理條件接觸角(度)
無處理的玻璃板26
洗劑→自來水→二氧化氫系溶劑39
洗劑→自來水→純水17
洗劑→自來水→IPA 13
O3水＜10
洗劑→自來水→電漿5
洗劑→自來水→UV/O3 4
• 能達成4度的值是因為有機化合物的油膜經
254mm波長UV照射破壞成為單分子狀態時的結果。
實用性而言是以濕式洗淨將污垢除到20度以下
，然後再加上光洗淨製程，其效果是最佳的。
UV光量照度法
• 1.紫外線能量計（測量UV機照度/光量用）
• TYPE可分為測量照度值(mW / cm2 ）
積算光量（ UVmJ / cm2）
照度/積算光量二合一
一般UV照射量在600mJ以上時水滴接觸角即
可達到約9度(需經前製程處理,如水洗)
UV積算光量( mJ / cm2 ) =
UV照度( mW / cm2 ) × 照射時間( S秒)
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