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综述了全球CMP设备市场概况及适应0. 1$N.m工艺平坦化要求的CMP技术
现状，给出了向今300mm国片转移过程中CMP技术占用成本及CMP设备性能指标。
为了进一步提高生产效率和降低成本，制备器件村底的硅片现正在由中200二 圆片向中300mm圆片过渡，对这种衬底必须进行全局平坦化。多年的研究表明，需要对多层布线互连结构中绝缘体、导体、层间介质（ILD），镶嵌金属W， Al， Cu， Au、多晶硅、硅氧化物等进行平面化处理，化学机械抛光（CMP）则是唯一的全局平面化技术。 利用 Strasbaugh公司的抛光机在 EastFishkill T厂进行工艺的开发。1988年，IBM开始将CMP工艺用于4MDRAM器件的制造。到1990年，IBM公司便向Micron Technolog公司出瞥了采用CMP技术的4MDRAM工艺。此后不久，又与咖-torol。公司合作，共同进人为苹果计算机公司生产PC机器件的行列。从此各种逻辑电路和存储器便以不同的发展规模走向CMP。到1994年，随着0. 5wm器件的批量生产和0. 35 P，rn工艺的开发，CMP工艺便逐渐进人生产线，设备市场初步形
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