资料介绍
在半导体和LED的制造中,需要研磨以使晶片的厚度变薄,以及抛光以使表面成为镜面。在半导体器件的制造中,半导体制造 工艺包括:(1)从晶体生长开始切割和抛光硅等,并将其加工成晶片形状的工艺(晶片制造工艺);(2)在晶片上形成IC的 工艺(前一工艺);以及(3)切割、组装、检查和安装芯片的工艺(后一工艺)。在晶片制造过程中,通过双面研磨、单面 研磨、蚀刻等对从晶锭切片的晶片进行厚度调节,以消除加工表面的变形,然后将晶片加工成镜面。此外,存在用于使在前一 工艺中制造的具有图案的晶片的厚度均匀且薄的后研磨工艺。在背面研磨之后,在切割过程中进行芯片化,并且在后处理中进 行安装。研磨工艺和切割工艺是前一工艺和后一工艺之间的中间工艺,是提高附加值的中间工艺,如晶片减薄,应力消除,以 MEMS(微机电系统)晶片制造为代表的深挖蚀刻,减薄和重新布线。
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