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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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Line Edge Roughness (LER) 线边缘粗糙度
来源:C Lighting 线边缘粗糙度(LER) 线边缘粗糙度(LER)指的是栅极图案边缘的随机变化,即印刷图案边缘的粗糙度。当最小特征尺寸减小到几十...
在正性光刻过程中,掩膜版(Photomask)作为图形转移的关键工具,其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对掩膜版的主要要求: 图案准...
图像转移,也称为光刻技术(或简称光刻),在PCB的电路图形方面发挥关键作用。它能实现复杂和精确的连接,以支持在更小的区域实现更多连接。随着对更高密度...
光刻掩膜(也称为光罩)和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用,但它们的功能和应用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微纳加工技术中常用的光刻工艺所使用的...
想必大家都有所了解,光刻机对芯片制造的重要性,而光掩膜版又称光罩,光掩膜等; 光掩膜版是由制造商通过光刻制版工艺将电路图刻制于基板上制作而成,主要作用体...
2024-10-09 标签:光刻 306 0
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光刻掩模是光的一种掩蔽模片,其作用有类似于照相的通过它,可以使它“底下“的光剂部分成光,难溶于有机药品,一部分不感光,易溶于有机药品,以而制得选择扩散所...
微流控光刻掩膜的制作过程涉及多个步骤,包括设计、制版、曝光、显影、刻蚀等,最终形成具有特定图形结构的掩膜版。 首先,设计阶段是制作掩膜版...
VCSEL激光在蚀刻和光刻中应用广泛,提高精度和效率。银月光科技提供多波长VCSEL激光器,定制化服务,助力工业生产高效高质量。未来,更多种类VCSEL...
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