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标签 > 光刻技术
随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术;使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
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早报:三星有望获得苹果M1芯片部分代工订单 因台积电5nm工艺产能紧张
但外媒最新的报道显示,5nm工艺已大规模量产的台积电,目前的产能无法满足再为苹果大规模代工M1芯片,苹果可能会将部分M1芯片的代工订单,交由台积电的竞争...
韩国EUV光刻技术方面取得极大进展 专利申请是国外的两倍以上
IT之家 11 月 16 日消息 据韩国媒体 BusinessKorea 上周报道,韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。但并没有提到是哪...
可能很多网友看到这里有点蒙圈,这绕来绕去的到底是玩的什么文字游戏。这里先进行一个小科普,EUV和DUV到底有啥区别呢?EUV也就是“极深紫外线”的意思,...
芯闻精选:松下将改组为控股公司制,下设车载电池等8家业务公司
松下控股下设车载电池、电子零部件、汽车零部件等 8 家业务公司。外媒表示,这样能够明确责任和权限,加快公司决策。松下还公布了新的人事任命,常务执行董事楠...
微工程研究所的研究人员采用了新型纳米结构化技术,称为热扫描探针光刻(thermal scanning probe lithography,t-SPL)技...
该行业正在不断刷新纳米芯片的记录,这无疑将为我们带来更多的未来计算可能性。为此,来自世界各地的研究人员正在不断努力。
正式获得美国设备厂商的供应许可后,中芯国际的运营前景将进一步明朗
去年中芯国际被美国列入了实体清单,购买美国厂商的半导体设备及技术受到限制。今天业界消息称中芯国际已经获得了美国的许可,14nm及28nm等工艺可以恢复供应。
黄仁勋称,英伟达经过与台积电、ASML、Synopsys(新思科技)三大半导体巨头的多年合作,终于推出了这一技术,大大降低芯片代工厂在这一工序上所消耗的...
特别是,韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年,韩国本土提出的专利申请数量为40件,超过了国外企业的10件。这是韩国提交的...
负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯,一种天然的橡胶;溶剂是二甲苯;感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂,产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不溶于显...
最近,基于超分辨率荧光显微技术这一诺贝尔奖级成果,科学家报道了一种应用于光刻胶的双光束激光光刻技术。这里使用一道甜甜圈形状的环形光束,来抑制写入光束所触...
但imec先进成像、工艺和材料高级副总裁斯蒂芬·希尔(Steven Scheer)在接受采访时非常理性地指出,要经济高效地引入High NA EUV光刻...
在过去的十年中,包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发,以确保技术处于领先地位。最近,代工公司(意指三星)开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术...
总体上,三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时,口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回单一模式。具有多个图案的193nm浸入需...
现代工艺技术将晶圆厂设备要求推向极限,需要实现突破其物理极限的高分辨率,这正是计算光刻技术发挥作用的地方。计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术,它结合...
Molecular Imprints将为半导体大批量制造提供先进光刻设备
奈米图案成形系统与解决方案的市场与技术厂商Molecular Imprints, Inc. (MII) 宣佈,该公司已经获得一份包含多个压印範本的採购订...
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