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标签 > 光刻技术
随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术;使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
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光刻技术涉及操纵光线将特征精确蚀刻到表面上,通常用于制造计算机芯片和透镜等光学器件。但是制造过程中的微小偏差往往导致这些器件达不到设计者的预期。
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