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标签 > 光刻机
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工艺制程走入10nm以下后,台积电的优势开始显现出来。在7nm节点,台积电优先确保产能,以DUV(深紫外光刻)打头阵,结果进度领先三星的7nm EUV,...
ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限
一、2021年的交付量将是2019年的两倍左右 据国外媒体报道,在推出两代极紫外光刻机之后,阿斯麦公司又已在研发下一代极紫外光刻机,计划2022年年初开...
在芯片设计、制造的诸多环节中,光刻机等核心设备发挥了至关重要的作用。殊不知,在众多核心设备中,EDA工具才是真正的重中之重。
近期据外媒消息美国政府正考虑将中芯国际列入实体清单中,导致它的股价大跌。 此条爆炸性的新闻如成现实,未来意味着美国半导体设备制造商,如应用材料、科林、科...
最后在晶圆检验设备方面,美商KLA Tencor市占最高超过5成,Applied Materials与Hitachi High-Technology是主...
全球缺芯已经成为了普遍现象,各大芯片制造企业和供应商都面临“卡脖子”
所以当务之急是加紧提升芯片产能,逐步缓解市场所需。而这个时候,国产科技巨头中芯国际开始发力了。作为大陆规模最大的芯片制造商,中芯国际承担起了提升产能的责...
7纳米、5纳米先进工艺能突破吗?高端光刻机装备可以“中国造”吗?卡脖子技术体现在哪些方面?未来几年“中国芯”最有可能在哪些方向突破?
温彼得此番言论是出于营收考虑?还是真的担心全球半导体产业供应链中断?我们根据几项数据事实来深入分析一下。
电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程中的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片(7nm及以下)芯片量产的关键...
6月17日,A股芯片股全线大涨,多只股票涨停或封板,科创50指数涨幅也一度扩大至5%。芯片股成了当天资本市场的主角。 同时,从去年开始,社会各路资本流入...
据报道,中科院入局起作用,经过团队科研人员的日夜奋战,中国芯再次“突围”,终于研发出来了可以直接省略光刻机的8英寸石墨烯单晶圆。据悉,这是作为碳基芯片的...
4月7日消息,在 5nm 工艺即将大规模量产的情况下,3nm 工艺就成了台积电和三星这两大芯片代工商关注的焦点。三星电子旗下的三星晶圆代工,此前设定的目...
光刻机既是决定制程工艺的关键节点,也是国内芯片设备最为薄弱的环节
根据所用光源改进和工艺创新,光刻机经历了 5 代产品发展,每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。在技术节点的更新上,光刻机经历了两次重...
9月28日晚间,晶瑞股份发布公告称,将开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目。为此,晶瑞股份拟通过Singtest Technology PTE. LTD...
上海新阳表示,公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付,对加快193nmArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响,有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争...
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