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标签 > 光刻胶
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
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光刻胶是电子领域微细图形加工关键材料之一,是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下...
光刻胶的组成:树脂(resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质(如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂...
光刻机的制造是一项复杂而精密的工艺,需要高度专业化的技术和设备。它涉及到许多关键的工艺步骤和组件,如光学系统、曝光光源、掩模制作等。
国内光刻胶领头企业:北京科华微电子材料有限公司获得1.7亿元投资
近日,沃衍资本携手江苏盛世投资、紫荆资本、深圳市投控通产新材料创业投资企业、四川润资、北京高盟新材料等投资机构完成了对国内光刻胶领头企业—北京科华微电子...
近日,上海新阳发布公告称,公司自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶产品已经通过客户认证,并成功取得第一笔订单,取得不错进展。 光刻胶用于半导体光...
2021-07-03 标签:光刻胶 2.5万 0
在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。目前,上游高端电子化学品(LCD用光刻胶)几乎全部依...
2018-06-25 标签:光刻胶 2.3万 0
光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一,是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成,是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化...
从晶圆到芯片,有哪些工艺流程?晶圆制造工艺流程步骤如下: 1.表面清洗 2.初次氧化 3.CVD 4.涂敷光刻胶 5.用干法氧化法将氮化硅去除 6.去除...
这是一种老式的旋转涂胶机,将芯片上涂上光刻胶然后将芯片放到上边,可以通过机器的旋转的力度将光刻胶均匀分布到芯片表面,光刻胶只有均匀涂抹在芯片表面,才能保...
来源:浙商证券研究院 光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他...
光刻胶是光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶。
(综合自潇湘晨报 西安网 财联社)日前,总投资13亿元的上海博康项目正式签约落户高陵,标志着该区引进国家战略新兴产业、推动高质量发展取得新突破。记者了解...
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