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光刻胶

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光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

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光刻胶技术

详解光刻胶技术并阐述光刻胶产业现状和国内发展趋势

光刻胶是电子领域微细图形加工关键材料之一，是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下...

2019-02-19 标签：芯片光刻胶 4.0万 0

光刻胶材料的制备和基本要素

光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X 射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。主要应用领域包括：半导体领域的集成电路和...

2019-02-11 标签：euv 光刻胶 2.6万 1

光刻胶的原理和正负光刻胶的主要组分是什么

光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂...

2022-10-21 标签：半导体光刻胶 2.0万 2

浸没式光刻原理浅析

到2002年底浸入式技术迅速成为光刻技术中的新宠，而此前业界并没有认为浸入式技术有如此大的功效。

2019-08-08 标签：EUV 光刻胶 1.9万 0

***谁发明出来的 ***有多难制造

光刻机的制造是一项复杂而精密的工艺，需要高度专业化的技术和设备。它涉及到许多关键的工艺步骤和组件，如光学系统、曝光光源、掩模制作等。

2023-07-04 标签：集成电路光学系统光刻机 1.4万 0

极紫外（EUV）光刻新挑战光刻胶只是其一

光刻胶是用来制作图案的光敏聚合物，它是造成随机性效应的罪魁祸首之一。根据定义，随机效应描述了具有光量子随机变化的事件。它们是不可预测的，没有稳定的模式。

2018-03-27 标签：euv 光刻胶 1.1万 0

一文看懂：光刻胶的创新应用与国产替代机会

引言光刻胶又称“光致抗蚀剂”或“光阻剂”，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微纳制造技术的关键性材料。光刻胶是光刻工艺最重要的...

2022-04-25 标签：电子元器件半导体光刻胶 1.0万 0

一文解析对准光刻蚀刻光刻的基本知识（SALELE）

通过逐步的说明，本系列说明并向您展示了确保在当今最先进的节点中确保布局保真度所需的自对准模式创建的复杂性。第1部分介绍了SADP和SAQP。在本期的最后...

2021-04-11 标签：PTD 光刻胶 1.0万 0

蚀刻后残留物和光刻胶的去除方法

在未来几代器件中，光刻胶(PR)和残留物的去除变得非常关键。在前端制程(FEOL)离子注入后(源极/漏极、扩展、haIos、深阱)，使用PR封闭部分电路...

2022-07-04 标签：蚀刻晶片光刻胶 8904 0

制造集成电路的版图基本知识

在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。

2023-06-25 标签：集成电路 CMOS MOSFET 7989 0

芯片的制作为什么要用半导体？Wafer晶圆半导体制造工艺

所谓“半导体”，是一种导电性能介于“导体”和“绝缘体”之间的物质总称。导体能导电，比如铁铜银等金属，绝缘体不导电，比如橡胶。芯片的制作为什么要用半导体？

2023-05-15 标签：晶圆半导体制造光刻胶 7866 0

SPM光刻胶剥离和清洗工艺详解

硫酸(H2SO4)和过氧化氢(H2O2)混合物(SPM)用于各种湿法清洗工艺步骤。表2.1显示了SPM的一些常见清洁和表面处理顺序:

2022-07-11 标签：清洗光刻胶 SPM 7800 0

重点阐述湿法刻蚀

光刻工艺后，在硅片或晶圆上形成了光刻胶的图形，下一步就是刻蚀。

2023-06-08 标签：集成电路逻辑电路晶圆 6033 0

极紫外（EUV）光刻新挑战，除了光刻胶还有啥？

随机变化需要新方法、新工具，以及不同公司之间的合作。极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已...

2018-03-31 标签：光刻胶 6001 0

干法刻蚀工艺介绍硅的深沟槽干法刻蚀工艺方法

第一种是间歇式刻蚀方法(BOSCH)，即多次交替循环刻蚀和淀积工艺，刻蚀工艺使用的是SF6气体，淀积工艺使用的是C4F8气体

2023-07-14 标签：TCP SSP 电感耦合 5535 0

关于PCB通孔及尺寸要求

合包与分包（pack and unpack，PAU）工艺被用于制备通孔阵列。与其他双重曝光工艺不同，PAU工艺并不直接提供额外的图形分辨率。

2022-10-24 标签：pcb 光刻胶 5526 0

全面解读光刻胶工艺制造流程

光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，...

2023-05-11 标签：集成电路三极管印刷电路板 5433 0

光刻技术的详细工序

清洗硅片（Wafer Clean）清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少针孔和其它缺陷，提高光刻胶黏附性基本步骤：化学清洗——漂洗——烘干。

2023-04-25 标签：硅片光刻机光刻胶 5349 0

光刻胶和光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。

2024-03-04 标签：半导体材料半导体器件光刻机 4453 0

光伏刻蚀工艺流程光刻蚀刻加工原理是什么

光刻蚀（Photolithography）是一种在微电子和光电子制造中常用的加工技术，用于制造微细结构和芯片元件。它的基本原理是利用光的化学和物理作用，...

2023-08-24 标签：太阳能电池光刻胶刻蚀 4239 0

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