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光刻胶

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光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

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光刻胶技术

一文解析半导体设计电路的“光刻工艺”

利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。

2024-03-06 标签：集成电路光刻机光刻胶 885 0

光刻胶和光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。

2024-03-04 标签：半导体材料半导体器件光刻机 4709 0

如何在芯片中减少光刻胶的使用量

光刻胶不能太厚或太薄，需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景，较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。

2024-03-04 标签：晶圆光刻胶 646 0

7.5 μm像元间距红外探测器三维电极的制备与应用案例

随着各类小型化自动武器装备在战场上被高频使用，并获得了大量战果，此类装备的国防需求不断增长。

2024-02-28 标签：红外探测器光刻胶 470 0

如何在刻蚀铝之后保护铝不被腐蚀？

需要铝金属的地方太多了，在DRAM和flash等存储器产品中，铝连线由于成本低廉和加工简便仍被广泛使用。这些存储器设备通常不像高性能逻辑芯片那样对电阻和...

2023-12-25 标签：存储器等离子体半导体封装 944 0

什么是PSPI？PSPI相较于非光敏性PI的优势？

PSPI（光敏性聚酰亚胺）是一种十分重要的半导体材料，也是一种十分被卡脖子的材料。

2023-12-18 标签：半导体 PCB板晶圆 2676 0

晶圆级封装(WLP)的各项材料及其作用

本篇文章将探讨用于晶圆级封装(WLP)的各项材料，从光刻胶中的树脂，到晶圆承载系统(WSS)中的粘合剂，这些材料均在晶圆级封装中发挥着重要作用。

2023-12-15 标签：半导体封装封装工艺光刻胶 2337 0

匀胶速度影响光刻胶的哪些性质？

匀胶是光刻中比较重要的一步，而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数，那么我们在匀胶时，是如何确定匀胶速度呢？它影响光刻胶的哪些性质？

2023-12-15 标签：晶圆光刻光刻胶 2019 0

光刻各环节对应的不同模型种类

光学模型是基于霍普金斯（Hopkins）光学成像理论，预先计算出透射相交系数（TCCs），从而描述光刻机的光学成像。光学模型中，经过优化的光源，通过光刻...

2023-12-11 标签：晶圆光刻机器学习 1518 0

光刻胶国内市场及国产化率详解

KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻的光刻胶。248nmKrF光刻技术已广泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200...

2023-11-29 标签：集成电路 pcb 光刻技术 699 0

半导体前端工艺（第四篇）：刻蚀——有选择性地刻蚀材料，以创建所需图形

2023-11-27 标签：半导体 DRAM 晶圆 807 0

光刻胶黏度如何测量？光刻胶需要稀释吗？

光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶算高...

2023-11-13 标签：半导体材料光刻胶 1550 0

半导体制造领域光刻胶的作用和意义

光刻是半导体加工中最重要的工艺之一，决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%，占其总成本的30%。光刻胶是光刻环节关键耗材，其质量和性能与电...

2023-10-26 标签：芯片 pcb 芯片制造 875 0

如何减少太阳能电池入射光在电池器件中的反射

为了制备蜂窝状纹理的绒面结构，研究人员利用了热辅助紫外辊纳米压印光刻技术（TUV-Roller-NIL），基于TUV-Roller-NIL制造蜂窝纹理的...

2023-10-25 标签：太阳能电池光谱光刻技术 783 0

光刻区为什么选黄光灯？为什么不使用红光或绿光？

黄光的波长远离UV范围，因此不会引起光刻胶的意外曝光。黄光灯通常不含有紫外线，从而保护光敏材料免受不必要的曝光。

2023-10-11 标签：紫外线光刻光刻胶 2580 0

半导体制造之光刻原理、工艺流程

光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成，是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化...

2023-10-09 标签：电路图光刻光刻机 3487 0

EUV光刻胶开发面临哪些挑战？

EUV光刻胶材料是光敏物质，当受到EUV光子照射时会发生化学变化。这些材料在解决半导体制造中的各种挑战方面发挥着关键作用，包括提高灵敏度、控制分辨率、减...

2023-09-11 标签：显示器 car 半导体制造 800 0

常见的晶圆显影方式

晶圆显影过程是光刻工序中必不可少的步骤，显影过程已经经历了几十年的创新和进步。那么常见的显影方式有几种？显影液的种类有哪些？显影的机理是什么？显影主要的...

2023-09-11 标签：芯片晶圆光刻胶 1637 0

湿法去胶液的种类有哪些？去胶液都有哪些种类？去胶原理是什么？

光刻技术通过光刻胶将图案成功转移到硅片上，但是在相关制程结束后就需要完全除去光刻胶，那么这个时候去胶液就发挥了作用，那么去胶液都有哪些种类？去胶原理是什么？

2023-09-06 标签：晶圆光刻机光刻技术 3621 0

碳化硅功率半导体工艺流程

首先，以高纯硅粉和高纯碳粉为原料生长SiC，通过物理气相传输（PVT）制备单晶第二，使用多线切割设备切割SiC，晶体切成薄片，厚度不超过1毫米 ...

2023-09-06 标签：功率半导体光刻胶碳化硅 1346 0

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