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标签 > 光刻胶

光刻胶

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光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

文章:297 浏览:30146 帖子:4

光刻胶技术

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2023-11-13 标签:半导体材料光刻胶 1456 0

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2024-04-17 标签:CMPTSV光刻胶 1393 0

浅谈DRAM制造工艺及微缩挑战

薄沉积的使用可以使抗蚀剂硬化,厚沉积的使用可以缩小临界尺寸(Critical Dimensions:CD)。

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光学模型是基于霍普金斯(Hopkins)光学成像理论,预先计算出透射相交系数(TCCs),从而描述光刻机的光学成像。光学模型中,经过优化的光源,通过光刻...

2023-12-11 标签:晶圆光刻机器学习 1337 0

碳化硅功率半导体工艺流程

首先,以高纯硅粉和高纯碳粉为原料生长SiC,通过物理气相传输(PVT)制备单晶 第二,使用多线切割设备切割SiC,晶体切成薄片,厚度不超过1毫米 ...

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半导体的清洗在制造工序中也是非常重要的。特别是光刻胶的去除是最困难的,一般使用硫酸和过氧化氢混合的溶液(SPM)等。但是,这些废液的处理是极其困难的,与...

2022-04-19 标签:半导体晶圆光刻胶 1250 0

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高数值孔径 EUV 系统的好处

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