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标签 > 光刻胶
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
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20日,西陇科学(株)发布公告称,该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶,占公司营业收入的比例,是目前用于上述用...
来源:集微网、芯榜,谢谢 编辑:感知芯视界 6月25日消息,据日媒报道,日本半导体设备制造商 JSR 昨日表示,该公司正在考虑一项由国家支持的日本产业革...
2023-06-26 标签:光刻胶 636 0
对于未来发展,JSR强调通过并购获取新技术及扩大规模是实现成功的关键。作为全球最大的光刻胶生产商之一,JSR在半导体晶圆电路形成领域占据了27%的市场份...
南大光电:有两款ArF光刻胶进入批量验证阶段,部分原材料外购解决
南大光电的激烈的市场竞争,公司充分发挥协同效应,以高品质、优质的服务,利用低成本优势巩固量占有率的同时,提高产品质量,通过加快建设全球ic客户的渗透和海...
Hidehito Takahashi指出,行业应进行整合以保持国际竞争力。 “半导体材料领域正是日本能在全球赛场上屡次取得胜利的关键领域之一。而现在这种...
通常,光刻胶只是用作构建图形步骤中的临时掩膜。因此,光刻工艺的最后一步通常是需要去除光刻胶,我们称之为去胶或者除胶。并且对去胶过程的要求是:迅速去胶且没...
2024-07-08 标签:光刻胶 592 0
万润股份2023年实现净利润7.21亿元-7.93亿元,同比预增0-10%
针对业绩增长原因,该公司表示,今年以来,虽然受到MP抗原检测产品下游需求疲软的不利因素制约,但其加强了国内国际两个市场的拓展力度,不断升级和改良工艺流程...
一份PPT带你看懂光刻胶分类、工艺、成分以及光刻胶市场和痛点
共读好书 前烘对正胶显影的影响 前烘对负胶胶显影的影响 需要这个原报告的朋友可转发这篇文章获取百份资料,内含光刻胶多份精品报告【赠2024电子资料百份】...
掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色,它们的功能和作用各有侧重,但共同促进了芯片的精确制造。 掩膜版,也称为光罩、光掩膜或光刻掩膜版,...
评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能,这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1. 灵敏度 灵敏度(sensitivity)是衡量曝光速...
2024-07-10 标签:光刻胶 555 0
图形反转胶是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正胶使用又可以作为负胶使用。相比而言,负胶工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负胶工艺。 应用领域 在反转...
2024-07-09 标签:光刻胶 537 0
关于光刻胶及其他芯片制造材料的未来销售预期,渡边义人表示,“2023财年,公司半导体材料销售额已突破1000亿日元(约合6.4亿美元),我们期待在203...
据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
随着半导体制造工艺节点不断发展至100纳米甚至更小的10纳米级别,如何制作出尺寸精度高、表面特征优秀、线边缘粗糙度低的光刻图形已逐渐成为整个行业面临的挑战。
存储时间 正胶和图形反转胶在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸...
2024-07-11 标签:光刻胶 477 0
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