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标签 > 光刻胶

光刻胶

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光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

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日本公布光刻胶出口限制产品清单!韩国加码10万亿韩元发展半导体材料

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2019-07-04 标签:半导体材料光刻胶 3231 0

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上海新阳再次转换战场 选择研发3D NAND用的KrF 光刻胶

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2018年,南大光电和上海新阳先后宣布,投入ArF光刻胶产品的开发与产业化,立志打破集成电路制造最为关键的基础材料之一——高档光刻胶材料几乎完全依赖于进...

2019-05-21 标签:半导体光刻胶 7286 0

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