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光刻胶

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光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

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光刻胶资讯

光刻胶技术创新引领共性难题解决新方向

随着半导体制造工艺节点不断发展至100纳米甚至更小的10纳米级别，如何制作出尺寸精度高、表面特征优秀、线边缘粗糙度低的光刻图形已逐渐成为整个行业面临的挑战。

2024-04-02 标签：半导体制造 EUV 光刻胶 614 0

关于湿蚀刻中蚀刻剂扩散到深紫外光刻胶中的研究报告

引言在许多集成电路制造步骤中，化学蚀刻仍然优于等离子体蚀刻。事实上，它能够实现更好的表面光滑度控制，这是获得足够的载流子迁移率至关重要的。在这些步骤中...

2022-01-18 标签：光刻光刻胶 585 0

鼎龙股份投资300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目，增资扩股

据了解，潜江新材料主营业务含电子专用材料研发、销售、制造，及工程和技术研究发展、新材料技术研发等多个领域。本次增资后，鼎龙股份对潜江新材料的持股比例减至...

2023-12-26 标签：新材料光刻胶半导体芯片 528 0

具有独特底部轮廓的剥离光刻胶的开发

金属图案的剥离方法已广泛应用于各种电子器件的制造过程中，如半导体封装、MEMS和LED的制造。与传统的金属刻蚀方法不同的是，采用剥离法的优点是节省成本和...

2023-10-25 标签：半导体蚀刻光刻胶 498 0

下一代EUV***长啥样？

EUV 曝光用光源的输出功率一直在稳步增加，传统型号为 250W 至 300W，最新型号 3600D 的功率增加到 350W。在研究层面，已经做到了60...

2023-06-19 标签：光刻机 EUV 光刻胶 489 0

9.5.9 KrF和ArF深紫外光刻胶∈《集成电路产业全书》

DUVPhotoresistforKrFandArF撰稿人：北京科华微电子材料有限公司陈昕http://www.kempur.com审稿人：复旦大学邓海...

2022-02-14 标签：光刻胶 488 0

艾森半导体在2021世界半导体大会上再次荣获“IC独角兽”

2021-06-16 标签：光刻胶艾森半导体 485 0

欣奕华成为安徽省首家新材料自主供应企业

　本次荣获“首批新材料”称号的蓝色显示光刻胶，历经公司多年密集研发，同行业相较其关键参数处于领先地位，多项性能优于国际同类产品，目前畅销于多个行业知名品牌。

2024-05-20 标签：产业链新材料光刻胶 479 0

半导体关键材料光刻胶市场格局发展现状

生产光刻胶的原料包括光引发剂（光增感剂、光致产酸剂帮助其更好发挥作用）、树脂、溶剂和其他添加剂等，我国由于资金和技术的差距，如感光剂、树脂等被外企垄断，...

2023-11-01 标签：芯片光刻光刻胶 478 0

64亿美元！日光刻胶龙头被高溢价私有化背后闪现政府身影

总体而言，材料堪称是半导体制造的基石，其贯穿了半导体整个生产流程。根据SEMI数据显示，2015-2021年全球半导体材料市场年均增速为6.8%，201...

2023-06-27 标签：芯片物联网光刻胶 475 0

如何成功的旋涂微流控SU-8光刻胶？

在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中，需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀...

2024-08-26 标签：微流控光刻胶 475 0

干法刻蚀侧壁弯曲的原因及解决方法

本文介绍了干法刻蚀侧壁弯曲的原因及解决方法。什么是侧壁弯曲？如上图，是典型的干法刻蚀时，侧壁弯曲的样子，侧壁为凹形或凸形结构。而正常的侧壁几乎是垂直...

2024-12-03 标签：光刻胶刻蚀 474 0

9.5.7 光刻胶∈《集成电路产业全书》

Photoresist撰稿人：北京科华微电子材料有限公司陈昕审稿人：复旦大学邓海9.5光掩模和光刻胶材料第9章集成电路专用材料《集成电路产业全书》下册‍...

2022-02-14 标签：集成电路光刻胶 454 0

如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶？

在微流控PDMS芯片加工的过程中，需要使用烘胶台或者烤胶设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要...

2024-08-27 标签：微流控光刻胶 438 0

如何成功进行微流控SU-8光刻胶的紫外曝光？

为了成功紫外曝光并且根据所需要的分辨率，光刻胶掩模必须尽可能的靠近SU-8光刻胶放置，不要有任何干扰。如要这样做，可检查如下几件事。首先，光掩模和晶圆...

2024-08-23 标签：微流控光刻胶掩膜 433 0

光刻胶产业天价离婚案！分割市值高达140亿元

来源：每日经济新闻，记者：程雅编辑：张海妮，谢谢编辑：感知芯视界 5月24日晚，国产光刻胶大厂彤程新材发布公告称，于近日收到实控人Zhang Nin...

2023-05-29 标签：光刻胶 395 0

光刻胶成为半导体产业的关键材料

光刻胶是半导体制造等领域的一种重要材料，在整个电子元器件加工产业有着举足轻重的地位。它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成。其中，感光树脂决定了光刻...

2024-12-19 标签：半导体光刻胶 394 0

干法刻蚀时侧壁为什么会弯曲

离子轰击的不均匀性干法刻蚀通常是物理作用和化学作用相结合的过程，其中离子轰击是重要的物理刻蚀手段。在刻蚀过程中，离子的入射角和能量分布可能不均匀. 如...

2024-12-17 标签：光刻胶刻蚀 389 0

9.5.14 光刻胶配套试剂∈《集成电路产业全书》

Ancillaries撰稿人：北京科华微电子材料有限公司陈昕http://www.kempur.com审稿人：复旦大学邓海https://www.fud...

2022-02-20 标签：光刻胶 374 0

三星减少NAND生产光刻胶使用量

近日，据相关报道，三星电子在3D NAND闪存生产领域取得了重要技术突破，成功大幅减少了光刻工艺中光刻胶的使用量。据悉，三星已经制定了未来NAND闪存...

2024-11-27 标签：半导体 NAND 光刻胶 364 0

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