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标签 > 光刻胶
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
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我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并...
一份PPT带你看懂光刻胶分类、工艺、成分以及光刻胶市场和痛点
共读好书 前烘对正胶显影的影响 前烘对负胶胶显影的影响 需要这个原报告的朋友可转发这篇文章获取百份资料,内含光刻胶多份精品报告【赠2024电子资料百份】...
SK海力士将在1c DRAM生产中采用新型Inpria MOR光刻胶
据 TheElec报道,SK Hynix 已决定在其第 6 带(即 1c 工艺,约为 10nm)DRAM 生产过程中采用 Inpria 下一代金属氧化物...
关于光刻胶及其他芯片制造材料的未来销售预期,渡边义人表示,“2023财年,公司半导体材料销售额已突破1000亿日元(约合6.4亿美元),我们期待在203...
本次荣获“首批新材料”称号的蓝色显示光刻胶,历经公司多年密集研发,同行业相较其关键参数处于领先地位,多项性能优于国际同类产品,目前畅销于多个行业知名品牌。
三星拟应用金属氧化物抗蚀剂(MOR)于DRAM EUV光刻工艺
据悉,MOR作为被广泛看好的下一代光刻胶(PR)解决方案,有望替代现今先进芯片光刻工艺中的化学放大胶(CAR)。然而,CAR在提升PR分辨率、增强抗蚀能...
在被超60亿美元收购后,日本光刻胶巨头JSR积极寻求扩大规模,以适应全球芯片制造行业的快速发展。
光刻胶的性能:光刻胶的性能对套刻精度有显著影响。它决定了图形的套刻分辨率和边缘清晰度,光刻胶的收缩和厚度不均匀性都可能导致实际图案尺寸与设计尺寸之间的偏差。
对于未来发展,JSR强调通过并购获取新技术及扩大规模是实现成功的关键。作为全球最大的光刻胶生产商之一,JSR在半导体晶圆电路形成领域占据了27%的市场份...
康达新材投资2.89亿元建设半导体光刻胶关键材料光引发剂技术项目
康达新材表示,为了贯彻其“新材料+电子科技”战略,优化旗下彩晶光电产品构成,填补内地资源空缺,推进国产化进程,解决半导体光刻胶核心材料受限问题,打破国际...
随着半导体制造工艺节点不断发展至100纳米甚至更小的10纳米级别,如何制作出尺寸精度高、表面特征优秀、线边缘粗糙度低的光刻图形已逐渐成为整个行业面临的挑战。
据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
万润股份2023年实现净利润7.21亿元-7.93亿元,同比预增0-10%
针对业绩增长原因,该公司表示,今年以来,虽然受到MP抗原检测产品下游需求疲软的不利因素制约,但其加强了国内国际两个市场的拓展力度,不断升级和改良工艺流程...
Hidehito Takahashi指出,行业应进行整合以保持国际竞争力。 “半导体材料领域正是日本能在全球赛场上屡次取得胜利的关键领域之一。而现在这种...
所谓的“光刻胶”,即是在紫外线、电子束等辐射下,其溶解度会产生变化的耐腐蚀薄膜材料。作为光刻工艺中的关键要素,广泛应用于晶圆和分立器件的精细图案制作中。...
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