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标签 > 光刻胶
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
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作为芯片产业链上的重要一环——光刻胶,是由树脂,感光剂,溶剂,光引发剂等组成的混合液态感光材料。
2023-03-15 标签:光刻胶 2855 0
强力新材:募集资金将主要用于环保型光引发剂和UV-LED高性能树脂
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泛林集团旗下GAMMA®系列干式光刻胶剥离系统推出最新一代产品
泛林集团旗下GAMMA系列干式光刻胶剥离系统推出最新一代产品,将该系列GxT系统晶圆加工能力从300mm拓展至200mm。作为专供特种技术市场的产品,G...
SK海力士将在1c DRAM生产中采用新型Inpria MOR光刻胶
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日本经济新闻报道,富士胶片将在截至2024年3月的三年内,向其半导体材料业务投资700亿日元(6.37亿美元),以应对5G和人工智能全球芯片需求激增的需...
集成电路是最重要的半导体产品,硅片是集成 电路最重要的基础材料,处于集成电路产业链前 端,在集成电路芯片制造材料中占比达30%以上, 90% 以上的集成...
三星拟应用金属氧化物抗蚀剂(MOR)于DRAM EUV光刻工艺
据悉,MOR作为被广泛看好的下一代光刻胶(PR)解决方案,有望替代现今先进芯片光刻工艺中的化学放大胶(CAR)。然而,CAR在提升PR分辨率、增强抗蚀能...
Accura BE作为国产首台12英寸晶边刻蚀设备,其技术性能已达到业界主流水平。” Accura BE通过软件系统调度优化和特有传输平台的结合,可以提...
湖州国资消息,宁波微芯新材料科技有限公司的半导体材料生产基地项目总投资3.5亿元人民币,用地35亩,年产1000吨的电子级光刻胶原材料(光刻胶树脂、高等...
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