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光刻胶

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光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

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光刻胶资讯

光刻胶为何要谋求国产替代

南大光电最新消息显示，国产193nm（ArF）光刻胶研发成功，这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体；徐州博康宣布，该公司已开发...

2022-08-31 标签：半导体晶圆光刻胶 1570 0

光刻的基础内容

负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯，一种天然的橡胶；溶剂是二甲苯；感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂，产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不溶于显...

2022-06-22 标签：光刻技术光刻胶 1528 0

博闻广见之半导体行业中的光刻胶

光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成份组成的、对光敏感的混合液体。利用光化学反应，经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基...

2022-12-06 标签：光刻胶 1463 0

日本与韩国半导体进行正面冲突全球半导体产业链迎变局

日本经济产业省7月1日宣布，日本将限制对韩国出口3种半导体及OLED材料。自7月4日起，包括“氟聚酰亚胺”、“光刻胶”和“高纯度氟化氢”3种材料将限制向...

2019-07-02 标签：OLED 光刻胶 1452 0

世人皆言光刻胶难，它到底难在哪里

来源：果壳硬科技 1、光刻胶究竟是怎样一个行业？光刻胶，又称“光致抗蚀剂”，是光刻成像的承载介质，可利用光化学反应将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信...

2022-01-20 标签：半导体光刻胶 1438 0

韩国光刻胶供应过度依赖进口，目前供应不足导致库存量告急

日前，据韩媒ETnews报道，韩国的光刻胶供应出现了短缺状况，导致库存量降低到了通常标准的3个月供应库存以下。韩国的光刻胶一向都主要靠日本厂商进口供给...

2022-04-19 标签：光刻胶 1434 0

又一批半导体项目上马！

来源：全球半导体观察编辑：感知芯视界近日，半导体行业又一批项目迎来最新进展，范围涉及车规级模块、功率器件、半导体设备零部件、半导体材料等。瑞能车规...

2023-07-31 标签：芯片半导体光刻胶 1415 0

使用全湿法去除Cu BEOL中的光刻胶和BARC

这项研究首先集中于去除直接沉积在硅衬底上的193纳米厚的光刻胶和BARC层，使用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和椭圆偏振光谱(SE)来评估去除效率，在第...

2022-05-30 标签：半导体光刻胶 1402 0

光刻前GaAs表面处理提高光刻胶附着力

摘要几个旨在补救的实验结果在喷湿化学品时，光刻胶粘附失效报道了InGaP/GaAs NPN hbt的刻蚀。几个确定了影响黏附和黏附的因素采用实验设计...

2022-03-07 标签：半导体光刻胶 1346 0

昇印光电完成超亿元融资，开发原理级创新技术：嵌入式纳米印刷

当谈到该创新工艺时，不可避免地要与传统的光刻工艺体系进行对比。光刻工艺体系是一种减法工艺：首先要在衬底表面沉积一层材料，例如铜；然后在材料层表面涂布一层...

2023-07-29 标签：嵌入式纳米光刻胶 1287 0

超构器件的前沿研究与技术发展现状

超构光学为平面光学器件的发展提供了新的思路与方向。超构器件由亚波长人工纳米结构组成，能在二维平面上实现对入射光的振幅、相位和偏振的操纵。研究人员已经发展...

2023-08-11 标签：激光器仿真器 SEM 1255 0

日韩半导体“冰释前嫌”，光刻胶供应链进入新牌局

芯片产业产能过剩：韩国统计厅发布的数据显示，1月韩国芯片制造商的芯片库存与销售比达到265.7%，创下26年来的最高值。如果上游材料持续被日本卡脖子，韩...

2023-03-23 标签：芯片芯片材料供应链 1249 0

华北光电技术研究所研究不同像元间距红外探测器的铟柱生长

由于大面阵探测器的制造难度很大，减小像元间距是实现大面阵、超大面阵探测器的主要方法。

2023-08-07 标签：探测器 SEM 红外探测器 1248 0

鼎龙（仙桃）半导体材料产业园投产

据鼎龙控股集团消息，鼎龙（仙桃）半导体材料产业园区占地218亩，建筑面积11.5万平方米，项目总投资约10亿元人民币。经过15个月的建设，同时进入千吨级...

2023-11-17 标签：OLED 半导体材料光刻胶 1242 0

南大光电：预计今年底建成一条光刻胶生产线

南大光电(300346)7月17日在互动平台透露，公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司宁波南大光电材料有限公司，全力推进ArF光刻胶开发和产业化项目...

2019-07-17 标签：光刻胶南大光电 1231 0

光刻胶分类与市场结构

光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三...

2024-01-03 标签：光源 EUV 光刻胶 1217 0

光刻胶后烘技术

后烘是指（post exposure bake-PEB）是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影，也就是说还未闭合，PEB也可以在高于光...

2024-07-09 标签：光刻胶 1209 0

光刻胶龙头拟北交所上市！

据披露，国信证券与瑞红苏州于2023年9月签订了辅导协议，国信证券担任瑞红苏州向不特定合格投资者公开发行股票并在北交所上市辅导工作的辅导机构。

2023-10-09 标签：半导体显示面板光刻胶 1206 0

高端光刻胶通过认证已经用于50nm工艺

此前该公司指出，公司已建成年产5吨ArF干式光刻胶生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶生产线及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线，具备ArF光刻胶及配...

2023-04-11 标签：处理器逻辑芯片光刻胶 1185 0

光刻胶层的去除方法丨结果与讨论

摘要湿化学和高速固体 CO2 气溶胶预处理的组合用于从图案化的硅结构中去除离子注入的抗蚀剂。顶部抗蚀剂表面通过重离子注入（1x1016 As atom...

2022-02-28 标签：半导体光刻胶 1148 0

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