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标签 > 光刻胶
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
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而央视采访的华天科技技术人员表示,像她以往在这个行业从事了十几年,从来没遇到过这么紧张的情况,尤其在光刻胶这一块,以往都是供应商找上门,可现在的情况是厂...
3 月 23 日消息,据南京海关工作人员介绍,今年 1-2 月仅江苏昆山口岸进口的集成电路就超过了 100 亿元,在数量基本和去年持平的情况下,进口的金...
近期,专注于电子材料市场研究的TECHCET发布最新统计和预测数据:2021年,半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11%,达到19亿美元。
3月1日,晶瑞股份公告披露,公司于2021年3月1日召开了第二届董事会第三十五次会议,审议通过了《关于变更公司名称的议案》,尚需提交股东大会审议通过。
据马鞍山发布,安徽马鞍山慈湖高新区举办通信通讯产业重点项目集中签约仪式。其中,签约的部分项目包括:苏州世名光刻胶纳米材料产业园项目,由世名科技投资,从事...
威海举行了2021年项目集中签约仪式,包括光刻胶、中宏芯片等项目
山东威海南海新区管委会消息显示,1月23日,南海新区举行了2021年项目集中签约仪式,11个项目集中签约,总投资额超40亿元。 据悉,此次签约的项目包括...
此次交易分为首次增资、转股权以及追加投资权三个部分。具体来看,东阳凯阳出资3000万元人民币向徐州博康增资,增资完成后将持有徐州博康1.186%股权;东...
南大光电首款国产ArF光刻胶通过认证 可用于45nm工艺光刻需求
导 读 日前,南大光电公告称,由旗下控股子公司宁波南大光电材料自主研发的 ArF 光刻胶产品成功通过客户使用认证,线制程工艺可以满足 45nm-90...
今日南大光电发布公告称,其控股子公司 “宁波南大光电”自主研发的 ArF(193nm)光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。报告显示,“本次认证选择客户...
光刻胶是微纳加工过程中非常关键的材料。有专家表示,中国要制造芯片,光有光刻机还不够,还得打破国外对“光刻胶”的垄断。
打破国外对“光刻胶”的垄断,“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现
光刻胶是微纳加工过程中非常关键的材料。有专家表示,中国要制造芯片,光有光刻机还不够,还得打破国外对光刻胶的垄断。 日前,西湖大学仇旻研究团队在《纳米快报...
泛林集团旗下GAMMA®系列干式光刻胶剥离系统推出最新一代产品
泛林集团旗下GAMMA系列干式光刻胶剥离系统推出最新一代产品,将该系列GxT系统晶圆加工能力从300mm拓展至200mm。作为专供特种技术市场的产品,G...
据日经报道,日本信越化学将斥资300亿日元(约2.85亿美元),把光刻胶的产能提高20%,以扩充对半导体关键材料的供应。 根据报道,信越化学将会在日本和...
多年来,光刻胶的研发都被列入我国高新技术计划、重大科技项目。今年9月28日,国家发展改革委、科技部、工业和信息化部以及财政部联合印发的《关于扩大战略性新...
文|Lee 集微网消息,近期,晶瑞股份因购买ASML光刻机设备受到了资本市场的热捧,也收到了深交所下发的关注函。深交所重点关注了晶瑞股份本次购买光刻机设...
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