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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻技术

接触孔工艺的制造流程

接触孔工艺是指在 ILD 介质层上形成很多细小的垂直通孔，它是器件与第一层金属层的连接通道。通孔的填充材料是金属钨（W），接触孔材料不能用Cu，因为 C...

2024-11-15 标签：晶圆工艺光刻 339 0

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有源区工艺的制造过程

有源区工艺是指通过刻蚀去掉非有源区的区域的硅衬底，而保留器件的有源区。

2024-10-31 标签：晶圆工艺光刻 257 0

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金属层2工艺是什么

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Line Edge Roughness (LER) 线边缘粗糙度

来源：C Lighting 线边缘粗糙度(LER) 线边缘粗糙度（LER）指的是栅极图案边缘的随机变化，即印刷图案边缘的粗糙度。当最小特征尺寸减小到几十...

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晶圆制造工艺流程及一些常用名词解释

共读好书晶圆制造工艺流程 1、表面清洗 2、初次氧化 3、 CVD(Chemical Vapor deposition) 法沉积一层 Si3N4 ...

2024-07-30 标签：光刻蚀刻晶圆制造 1525 0

激光指向稳定在光刻系统应用中的关键作用及其优化方案

光刻是半导体制造工艺中的核心之一，极紫外光刻技术作为新一代光刻技术也处于快速发展阶段。其基本原理是利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐...

2024-06-27 标签：芯片半导体激光 411 0

电子束技术的原理与应用概览

电子束技术在半导体制造行业一直是重要的应用技术。本文就电子束技术作一个简单的图文介绍。

2024-04-30 标签：光刻电子束半导体制造 1528 0

玻璃通孔技术研究进展

聚焦放电主要包括两个步骤：1) 将玻璃放在两个电极之间，通过控制放电对玻璃局部区域进行放电熔融；2)通过焦耳热使玻璃内部产生高应力，引起内部高压和介电击穿。

2024-04-26 标签：等离子光刻显微镜 1092 0

芯片制造的21个步骤

中央处理器（CPU）是一块超大规模的集成电路，是一台计算机的运算核心和控制核心。它的功能主要是解释计算机指令以及处理计算机软件中的数据，这也是迄今为数不...

2024-04-16 标签：处理器 cpu 芯片制造 638 0

一文解析DARM工艺流程

DRAM（动态随机存取存储器）的工艺流程包括多个关键步骤。

2024-04-05 标签：电容晶圆存储单元 5255 0

芯片制造工艺为什么用黄光?

光刻是集成电路（IC或芯片）生产中的重要工艺之一。简单地说，就是利用光掩模和光刻胶在基板上复制电路图案的过程。

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刻蚀机是干什么用的刻蚀机和光刻机的区别

刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似，先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜，再将掩膜与待加工物料模组装好，将样品置于刻蚀室内，通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将...

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浅谈不同阶段光刻机工作方式

在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数...

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了解衍射的来源和含义

本文从来源和含义以及计算光刻方面讲了衍射的来源。

2024-01-19 标签：衍射光源光刻 1330 0

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掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一类不可或缺的晶圆制造材料，在芯片封装（构筑芯片的外壳和与外部的连接)、平板显示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏...

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全面解析***结构及工作原理

光刻与光刻机 ➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。 ➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。光刻机结...

2023-12-19 标签：控制系统 IC设计测量系统 705 0

匀胶速度影响光刻胶的哪些性质？

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