光刻

接触孔工艺的制造流程

接触孔工艺是指在 ILD 介质层上形成很多细小的垂直通孔，它是器件与第一层金属层的连接通道。通孔的填充材料是金属钨（W），接触孔材料不能用Cu，因为 C...

2024-11-15 标签：晶圆工艺光刻 58 0

栅氧化层工艺的制造流程

与亚微米工艺类似，栅氧化层工艺是通过热氧化形成高质量的栅氧化层，它的热稳定性和界面态都非常好。

2024-11-05 标签：晶圆工艺光刻 148 0

有源区工艺的制造过程

有源区工艺是指通过刻蚀去掉非有源区的区域的硅衬底，而保留器件的有源区。

2024-10-31 标签：晶圆工艺光刻 174 0

顶层金属工艺是指什么

顶层金属工艺是指形成最后一层金属互连线，顶层金属互连线的目的是实现把第二层金属连接起来。顶层金属需要作为电源走线，连接很长的距离，需要比较低的电阻，需要...

2024-10-29 标签：晶圆工艺光刻 155 0

金属层2工艺是什么

金属层2（M2）工艺与金属层1工艺类似。金属层2工艺是指形成第二层金属互连线，金属互连线的目的是实现把第一层金属或者第三层金属连接起来。

2024-10-24 标签：晶圆工艺光刻 137 0

Line Edge Roughness (LER) 线边缘粗糙度

来源：C Lighting 线边缘粗糙度(LER) 线边缘粗糙度（LER）指的是栅极图案边缘的随机变化，即印刷图案边缘的粗糙度。当最小特征尺寸减小到几十...

2024-08-23 标签：MOSFET半导体光刻 2159 0

晶圆制造工艺流程及一些常用名词解释

共读好书 晶圆制造工艺流程 1、 表面清洗 2、 初次氧化 3、 CVD(Chemical Vapor deposition) 法沉积一层 Si3N4 ...

2024-07-30 标签：光刻蚀刻晶圆制造 1287 0

激光指向稳定在光刻系统应用中的关键作用及其优化方案

光刻是半导体制造工艺中的核心之一，极紫外光刻技术作为新一代光刻技术也处于快速发展阶段。其基本原理是利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐...

2024-06-27 标签：芯片半导体激光 354 0

电子束技术的原理与应用概览

电子束技术在半导体制造行业一直是重要的应用技术。本文就电子束技术作一个简单的图文介绍。

2024-04-30 标签：光刻电子束半导体制造 1293 0

玻璃通孔技术研究进展

聚焦放电主要包括两个步骤：1) 将玻璃放在两个电极之间，通过控制放电对玻璃局部区域进行放电熔融；2)通过焦耳热使玻璃内部产生高应力，引起内部高压和介电击穿。

2024-04-26 标签：等离子光刻显微镜 948 0

一文解析DARM工艺流程

DRAM（动态随机存取存储器）的工艺流程包括多个关键步骤。

2024-04-05 标签：电容晶圆存储单元 4489 0

芯片制造工艺为什么用黄光?

光刻是集成电路（IC或芯片）生产中的重要工艺之一。简单地说，就是利用光掩模和光刻胶在基板上复制电路图案的过程。

2024-03-18 标签：集成电路芯片制造光刻 2168 0

刻蚀机是干什么用的 刻蚀机和光刻机的区别

刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似，先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜，再将掩膜与待加工物料模组装好，将样品置于刻蚀室内，通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将...

2024-03-11 标签：芯片制造光刻光刻机 8683 0

浅谈不同阶段光刻机工作方式

在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数...

2024-03-08 标签：芯片制造光刻光刻机 1138 0

了解衍射的来源和含义

本文从来源和含义以及计算光刻方面讲了衍射的来源。

2024-01-19 标签：衍射光源光刻 1195 0

解析光刻芯片掩模的核心作用与设计

掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一类不可或缺的晶圆制造材料，在芯片封装（构筑芯片的外壳和与外部的连接)、平板显示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏...

2024-01-18 标签：印刷电路板芯片制造光刻 1072 0

光刻掩膜版保护膜常见的类型有哪些？

掩膜版保护膜，mask pellicle，是一种透明的薄膜，在生产中覆盖在掩膜版的表面。顾名思义，主要对掩膜版起物理与化学保护作用。

2024-01-04 标签：光刻EUV芯片制程 1071 0

全面解析***结构及工作原理

光刻与光刻机 ➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。 ➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。 光刻机结...

2023-12-19 标签：控制系统IC设计测量系统 644 0

匀胶速度影响光刻胶的哪些性质？

匀胶是光刻中比较重要的一步，而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数，那么我们在匀胶时，是如何确定匀胶速度呢？它影响光刻胶的哪些性质？

2023-12-15 标签：晶圆光刻光刻胶 1776 0