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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻技术

金属Cr详解

在光刻过程中，铬被用作掩膜版的关键材料。铬在紫外光下表现出高光学密度，可以有效阻挡光线。在石英基板上通过PVD等方法均匀地沉积一层薄的铬，在其上涂覆一层...

2023-11-20 标签：半导体光刻金属 1748 0

ASML携全景光刻解决方案亮相进博会

第六届进博会于近日在上海国家会展中心正式收官，ASML2023进博之旅也圆满落幕! 今年，ASML继续以“光刻未来，携手同行”为主题，携全景光刻解决方案...

2023-11-11 标签：半导体晶圆光刻 758 0

光刻可制造性检查如何检测掩模版质量

随着工艺节点不断变小，掩模版制造难度日益增加，耗费的资金成本从数十万到上亿，呈指数级增长，同时生产掩模版的时间成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保...

2023-11-02 标签：探测器晶圆光刻 520 0

浅谈芯片制程工序中片内&片间均匀性的定义和计算

均匀性是衡量工艺在晶圆上一致性的一个关键指标。比如薄膜沉积工序中薄膜的厚度；刻蚀工序中被刻蚀材料的宽度，角度等等，都可以考虑其均匀性。

2023-11-01 标签：晶圆光刻半导体工艺 1534 0

什么是EUV光刻？EUV与DUV光刻的区别

EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。

2023-10-30 标签：芯片设计光刻 EUV 1477 0

半导体制造领域光刻胶的作用和意义

光刻是半导体加工中最重要的工艺之一，决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%，占其总成本的30%。光刻胶是光刻环节关键耗材，其质量和性能与电...

2023-10-26 标签：芯片 pcb 芯片制造 583 0

光学光刻技术有哪些分类光刻技术的原理

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限...

2023-10-24 标签：芯片集成电路芯片制造 449 0

Bumping工艺流程工作原理光刻工艺原理和流程

Bumping工艺是一种先进的封装工艺，而Sputter是Bumping工艺的第一道工序，其重要程度可想而知。Sputter的膜厚直接影响Bumping...

2023-10-23 标签：超声波光刻封装工艺 933 0

光刻区为什么选黄光灯？为什么不使用红光或绿光？

黄光的波长远离UV范围，因此不会引起光刻胶的意外曝光。黄光灯通常不含有紫外线，从而保护光敏材料免受不必要的曝光。

2023-10-11 标签：紫外线光刻光刻胶 1365 0

聊聊芯片设计、流片那些事

晶圆厂每年都会有固定的几次MPW机会，叫Shuttle （班车），到点即发车，是不是非常形象不同公司拼Wafer，得有个规则，MPW按SEAT来锁定面积...

2023-10-10 标签：MPW 芯片设计光刻 1060 0

半导体制造之光刻原理、工艺流程

光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成，是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化...

2023-10-09 标签：电路图光刻光刻机 2578 0

芯片架构计算任务改变对计算架构的需求

渐进式改进与性能的巨大飞跃相结合，虽然这些改进将计算和分析能力提升到全新水平，但也需要全新的权衡考虑。这些变革的核心在于高度定制的芯片架构，芯片是在最先...

2023-09-27 标签：传感器芯片内存 980 0

极紫外 (EUVL) 光刻设备技术应用分析

欧洲极紫外光刻（EUVL）技术利用波长为13.5纳米的光子来制造集成电路。产生这种光的主要来源是使用强大激光器产生的热锡等离子体。激光参数被调整以产生大...

2023-09-25 标签：滤波器激光器光刻 470 0

DUV与EUV***的芯片加工流程详解

SSMB就产生了和FEL类似的“微聚束”，但是关键还加上了“稳态”。FEL不是稳态，电子团在波荡器里自由互相作用，最后发出强光完事。SSMB是让电子束在...

2023-09-22 标签：芯片芯片制造光刻 2184 0

集成电路为什么越做越小集成电路电阻怎么识别

集成电路越做越小是多个因素共同作用的结果，包括技术进步、成本和效率考虑、功耗和散热需求，以及新应用的推动，为电子设备的发展提供了更多的可能性和机遇。

2023-09-05 标签：集成电路电阻电容 1425 0

光伏电池测试标准有哪些光伏电池的分类有哪些

光伏电池可以根据不同的材料和工艺进行分类。以下是一些常见的光伏电池分类：　　1. 硅晶体太阳能电池：硅晶体太阳能电池是最常见和广泛应用的光伏电池类型...

2023-08-28 标签：太阳能电池光伏电池光伏 2579 0

考虑光刻中厚掩模效应的边界层模型

短波长透明光学元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波长，而晶片上所需的最小特征继续向更深的亚波长尺度收缩。这对用入射场代替掩模开口上的场的基尔霍夫边界条件...

2023-08-25 标签：光刻掩模 366 0

研究人员制造出直径近30厘米的光学超表面

再见镜头，你好超表面。所谓的超表面可以帮助使光学系统在未来变得更薄，同时增加其功能。到目前为止，传统的制造工艺通常只能实现小的超表面，通常小于一平方毫...

2023-08-07 标签：光刻电子束 525 0

光刻技术的发展如何弯道超车或者换道超车

三十年来，半导体掩模技术基本保持不变，掩模的制作是在可变成形机上进行的，这些机器将可变元件限制在 45 度角。随着功能缩小并变得更加复杂，电子束和多束掩...

2023-08-01 标签：光刻 EUV 光刻胶 358 0

cmp是什么意思 cmp工艺原理

CMP 主要负责对晶圆表面实现平坦化。晶圆制造前道加工环节主要包括7个相互独立的工艺流程：光刻、刻蚀、薄膜生长、扩散、离子注入、化学机械抛光、金属化 C...

2023-07-18 标签：光刻 CMP 晶圆制造 7050 1

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德州仪器（TI）MSP430系列超低功耗微控制器包含多种器件，它们特有面向多种应用的不同外设集。这种架构与5种低功耗模式相组合，专为在便携式测量应用中延长电池使用寿命而优化。该器件具有一个强大的16位 RISCCPU，16位寄存器和有助于获得最大编码效率的常数发生器。
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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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