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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻技术

3D晶圆键合装备的工艺过程及研发现状

设备由MEMS领域应用转化到3D集成技术领域，表现出高对准精度特点。大多数对准、键合工艺都源于微机电系统（MEMS）制造技术，但应用于3D集成的对准精度...

2023-04-20 标签：集成电路晶圆光刻 3623 0

研究透视：当然之极Science-极紫外超透镜

超快光谱学和半导体光刻领域皆依赖于非常短的波长，往往在极紫外extreme ultraviolet，EUV波段。然而，大多数光学材料强烈地吸收该波长范围...

2023-04-12 标签：半导体光刻 EUV 798 0

EUV 光刻制造全流程设计解析

其全流程涉及了从 EUV 光源到反射镜系统，再到光掩模，再到对准系统，再到晶圆载物台，再到光刻胶化学成分，再到镀膜机和显影剂，再到计量学，再到单个晶圆。

2023-03-07 标签：芯片晶圆光刻 1316 0

IGBT芯片技术的发展

加工技术：IGBT芯片的加工技术包括晶圆制备、掺杂、光刻、腐蚀、沉积等方面。加工技术的发展可以提高芯片的制造精度和一致性。例如，采用新型的晶圆制备技术，...

2023-02-20 标签：晶圆光刻 igbt芯片 1838 0

十大步骤详解芯片光刻的流程

在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术可以追溯到190年以前，1822年法国人N...

2023-02-16 标签：芯片集成电路半导体 4865 0

一文解析IMEC 发布芯片缩放路线图

功率墙：将功率引入芯片并从芯片封装中提取热量变得越来越具有挑战性，因此我们必须开发改进的功率传输和冷却概念。

2023-02-07 标签：晶体管光刻半导体设备 569 0

光刻技术介绍几种常见的光刻方法

前烘就是在一定温度下，使胶膜里的溶剂缓慢地挥发出来，使胶膜干燥，并增加其粘附性和耐磨性。

2022-12-16 标签：mems 光刻 2285 0

摩尔定律究竟所言何物？摩尔定律的诞生史

摩尔定律究竟所言何物？它何以如此成功？它是否论证了不可阻挡的科技发展趋势？或者，它是否只是反映了工程学历史上的一段独特时期？正是在这段时间里，凭借硅晶的...

2022-12-02 标签：继电器逻辑电路摩尔定律 641 0

浅谈背面供电网络关键技术

BPR 是一种技术缩放助推器，可进一步缩放标准单元高度并减少 IR 压降。它是埋在晶体管下方的金属线结构——部分在硅衬底内，部分在浅沟槽隔离氧化物内。

2022-11-29 标签：晶体管光刻有源器件 1049 0

华为EUV光刻新专利可解决相干光无法匀光问题

该专利提供一种光刻装置，该光刻装置通过不断改变相干光形成的干涉图样，使得照明视场在曝光时间内的累积光强均匀化，从而达到匀光的目的，进而也就解决了相关技术...

2022-11-23 标签：华为光刻 EUV 1144 0

华为EUV光刻解决相干光无法匀光问题

该照明系统3包括视场复眼镜31(field flyeye mirror，FFM)、光阑复眼镜 32(diaphragm flyeye mirror，PF...

2022-11-21 标签：照明系统光刻极紫外光刻 766 0

半导体光刻的工艺过程（3）

涂布后，所得抗蚀剂膜将含有 20-40% 重量的溶剂。后应用烘烤过程，也称为软烘烤或预烘烤，包括在旋涂后通过去除多余的溶剂来干燥光刻胶。减少溶剂含量的主...

2022-08-29 标签：半导体工艺光刻 760 0

光刻工艺的8个基本步骤光刻机结构及工作原理

摩尔定律 Intel创始人之一摩尔1964年提出，大约每隔12个月： 1）。芯片能力增加一倍、芯片价格降低- -倍; 2）。广大用户的福音、行业人...

2022-08-29 标签：光刻光刻机 1.1万 0

半导体光刻的工艺过程（2）

尽管存在从流变学角度描述旋涂工艺的理论，但实际上光刻胶厚度和均匀性随工艺参数的变化必须通过实验来确定。光刻胶旋转速度曲线（图 1-3）是设置旋转速度以获...

2022-08-25 标签：半导体工艺光刻 1122 0

半导体光刻的工艺过程（1）

集成电路(IC)的制造需要在半导体(例如，硅)衬底上执行的各种物理和化学过程。通常，用于制造 IC 的各种工艺分为三类：薄膜沉积、图案化和半导体掺杂。导...

2022-08-25 标签：集成电路半导体工艺 1159 0

芯片制造的6个关键步骤

在智能手机等众多数码产品的更新迭代中，科技的改变悄然发生。苹果A15仿生芯片等尖端芯片正使得更多革新技术成为可能。这些芯片是如何被制造出来的，其中又有哪...

2022-08-08 标签：晶圆芯片制造光刻 2805 0

抗蚀剂涂层方法的详细说明

　　在基材上涂上光刻胶。这是一种具有很高的吞吐量和潜力同质性。旋涂的原理是典型地，几毫升光刻胶被分配到以1000转/分的速度旋转的基板(通常4000 r...

2022-07-26 标签：光刻硅片涂层 660 0

用于后端光刻的新型无掩模技术分析

从 2D 扩展到异构集成和 3D 封装对于提高半导体器件性能变得越来越重要。近年来，先进封装技术的复杂性和可变性都在增加，以支持更广泛的设备和应用。在本...

2022-07-26 标签：光刻 3D封装 1234 0

压印光刻技术是什么它是如何工作的

压印光刻是许多新兴应用的关键技术，例如微光学、增强现实、MEMS和光电传感器;但它是什么以及它是如何工作的?

2022-07-25 标签：传感器工艺光刻 1400 0

芯片制造的光刻支出如何随着各种节点缩小演变历程

单片设计每个晶圆有 30 个好的die，而小芯片 MCM 设计每个晶圆有 79 个好的die。假设所有有缺陷的die都必须扔进垃圾桶。如果没有芯片良率收...

2022-07-22 标签：cpu 晶圆光刻 1071 0

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