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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻技术

光刻中使用的掩模对准器曝光模式

本Inseto知识库文档介绍了光刻中使用的掩模对准器曝光模式。

2022-07-21 标签：曝光模式光刻晶片 1860 0

半导体光刻的基础知识

光刻是在基板表面形成复杂设计或结构的过程。光刻技术已经作为一种制造技术使用了数百年。它最初是为印刷机开发的，现在已经成功了作为一种被称为光刻的微细制造技...

2022-07-21 标签：半导体制造技术光刻 1601 0

用于3D封装的穿硅通过最后光刻的覆盖性能（下）

本研究通过检查 TSV 光刻后的 DSA 光学计量可重复性，然后将该光学配准数据与最终的电气配准数据进行比较，来仔细检查图像放置性能。

2022-07-19 标签：封装光刻 TSV 619 0

用于3D封装的穿硅通过最后光刻的覆盖性能（上）

华林科纳对包括背照式图像传感器、中介层和 3D 存储器在内的消费产品相关设备的需求正在推动使用硅通孔 (TSV) [1] 的先进封装。 TSV 处理的各...

2022-07-19 标签：封装光刻 TSV 642 0

一文详解湿法蚀刻和光刻工艺

本次在补救InGaP/GaAs NPN HBT的喷雾湿法化学腐蚀过程中光刻胶粘附失效的几个实验的结果。确定了可能影响粘附力的几个因素，并使用实验设计(D...

2022-07-13 标签：光刻蚀刻晶片 2586 0

GaAs的湿法蚀刻和光刻工艺

本文主要阐述我们华林科纳在补救InGaP/GaAs NPN HBT的喷雾湿法化学腐蚀过程中光刻胶粘附失效的几个实验的结果。确定了可能影响粘附力的几个因素...

2022-07-12 标签：光刻蚀刻晶片 1601 0

CLL技术应用于新材料和系统的制造和研究

化学提升光刻(CLL)是一种减法软光刻技术，它使用聚二甲基硅氧烷(PDMS)标记来绘制功能分子的自组装单层，应用范围从生物分子图案到晶体管制造。在此我们...

2022-06-28 标签：半导体光刻蚀刻 641 0

如何加快5nm芯片良率，EUV光刻或是关键要素

先进 5nm 器件或先进封装的良率提升需要识别和去除从光刻到封装材料的关键缺陷，因此智能和快速的晶圆级检测必不可少。

2022-05-07 标签：光刻 EUV 2832 0

详解无臭氧抗蚀剂剥离工艺

近年来，光掩模抗蚀剂剥离和清洁技术的发展主要是由于行业需要通过从这些过程中消除硫酸和氢氧化铵来防止表面雾霾的形成。因此，传统的 SPM (H2SO4 +...

2022-03-30 标签：工艺参数光刻 619 0

纳米压印光刻技术的详细介绍

在过去的几年中，纳米压印光刻引起了越来越多的兴趣。事实上，似乎有越来越多的潜在纳米压印应用和基本纳米压印光刻概念的变化。不同的纳米压印变体对于特定的最终...

2022-03-30 标签：半导体纳米光刻 6967 0

光刻技术发展现状及未来趋势分析

最近的电子器件大多是由微细的电路元件构成的，为了制造这些元件，微细加工已成为必须的技术。以前，为了这个目的使用了照相蚀刻技术（光刻法）。但是，半导体集成...

2022-03-28 标签：工艺光刻蚀刻 6845 0

Silvaco TCAD工艺技术参数及其说明

•OPTOLITH模块可对成像(imaging)，光刻胶曝光(exposure)，光刻胶烘烤（bake）和光刻胶显影（development）等工艺进行精确定义

2022-03-15 标签：仿真光刻 4367 0

SPM光刻工艺的研究报告

在这篇文章中，我们华林科纳演示了在钛薄膜上形成纳米尺度阳极氧化物的设备，以及在接触或半接触模式下使用NTMDT公司的求解器PROTM AFM对其进行表征。

2022-02-08 标签：电极光刻光刻机 1486 0

微气泡对光刻胶层的影响

关键词：氧气、微气泡、光刻胶、高剂量离子注入、气水界面介绍微气泡是一种很有前途的环保光刻胶去除方法的候选方法。已经证明，臭氧微气泡可以去除...

2022-01-10 标签：半导体光刻晶片 1505 0

掩模工艺中硬烘培的操作方法及显影检验

硬烘培温度的上限以光刻胶流动点而定。光刻胶有像塑料的性质，当加热时会变软并可流动。当光刻胶流动时，图案尺寸便会改变。当在显微镜下观察光刻胶流动时，将会明...

2020-02-29 标签：晶圆光刻 1903 0

Mattson利用欧洲的IMEC为低k/铜工艺开发光刻胶去除技术

Mattson Technology Inc.表示，它正与欧洲IMEC合作位于比利时鲁汶的微电子研发中心共同开发新的光刻胶和残留物去除工艺。

2019-08-13 标签：光刻 PCB打样华强PCB 8195 0

回顾半导体技术趋势及其对光刻的影响分析与应用

应用厚的光刻胶，并使用阶梯式掩模形成图案（A thick photoresist is applied and patterned with the s...

2019-08-28 标签：半导体嵌入式存储器 4207 0

助力高级光刻技术：存储和运输EUV掩模面临的挑战

随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限，极紫外（EUV）光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中。对于 7 纳米及更小的高级节点，EUV 光刻...

2019-07-03 标签：半导体光刻 EUV 1842 0

芯片制作环节光刻的详细流程详解

在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术

2019-04-20 标签：芯片晶体管光刻 1.0万 0

干货！光刻技术的原理和EUV光刻技术前景

光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。

2019-03-02 标签：光刻 EUV 1.1万 0

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