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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻资讯

友思特分享完美聚光：用于光刻曝光的UV-LED光引擎

LED替代汞灯在紫外光源中的使用已成为大势所趋。友思特先进的 UV-LED-EXP 系统可作为OEM集成、汞灯光刻设备改造或直接定制光路设计和曝光设备，...

2024-06-26 标签：光刻光引擎 UV-LED 151 0

一份PPT带你看懂光刻胶分类、工艺、成分以及光刻胶市场和痛点

共读好书前烘对正胶显影的影响前烘对负胶胶显影的影响需要这个原报告的朋友可转发这篇文章获取百份资料，内含光刻胶多份精品报告【赠2024电子资料百份】...

2024-06-23 标签：半导体光刻光刻胶 139 0

替代EUV光刻，新方案公布！

来源：半导体行业观察，谢谢编辑：感知芯视界 Link 随着英特尔、三星、台积电以及日本即将落成的先进晶圆代工厂 Rapidus尽管各家公司都各自准备将...

2024-06-17 标签：光刻 EUV 178 0

飞秒激光在精密光子学制造中的应用

精密光子制造中为什么要使用飞秒激光?飞秒激光器发射持续时间低于一皮秒的超短光脉冲，达到飞秒级(1fs=10-15s)。飞秒激光的特点是脉冲宽度极短，峰值...

2024-06-17 标签：激光光刻光谱 64 0

阿斯麦(ASML)与比利时微电子(IMEC)联合打造的High-NA EUV光刻实验室正式启用

近日，全球领先的半导体制造设备供应商阿斯麦(ASML)与比利时微电子研究中心(IMEC)共同宣布，位于荷兰费尔德霍芬的High-NAEUV光刻实验室正式...

2024-06-06 标签：光刻 IMEC ASML 178 0

新思科技x Multibeam推出业界首款可量产电子束光刻系统无需掩膜

基于掩膜的传统光刻技术，其成本正呈指数级攀升。而无掩膜的电子束光刻技术提供了补充性选项，可以帮助芯片制造商更快地将产品推向市场。电子束光刻技术采用电...

2024-05-22 标签：光刻新思科技电子束 1373 0

英特尔推进面向未来节点的技术创新，在2025年后巩固制程领先性

英特尔正在按计划实现其“四年五个制程节点”的目标，目前，Intel 7，采用EUV（极紫外光刻）技术的Intel 4和Intel 3均已实现大规模量产。...

2024-05-16 标签：英特尔光刻 EUV 174 0

SK海力士联手TEMC开发氖气回收技术，年度节省400亿韩元

SK海力士联合 TEMC 研发出一套氖气回收装置，用以收集及分类处理光刻工艺环境中的氖气，然后交予 TEMC 进行纯化处理，最后回流至 SK 海力士使用。

2024-04-02 标签：半导体光刻 SK海力士 224 0

美光计划部署纳米印刷技术，降低DRAM芯片生产成本

3 月 5 日消息，美光科技公司计划率先支持佳能的纳米印刷技术，从而进一步降低生产 DRAM 存储芯片的单层成本。美光公司近日举办了一场演讲，介绍在将...

2024-03-06 标签：光刻美光 DRAM芯片 153 0

全球主要半导体设备厂商介绍

半导体作为全球最重要的一个产业，每年为全球经济贡献数千亿美元产值。在整个产业链上，除我们耳熟能详的英特尔、AMD、高通、台积电等生产商外，还包括了众多著...

2024-01-18 标签：高通 amd 英特尔 758 0

德累斯顿工厂的电子束光刻系统

来源：半导体芯科技编译投资半导体设备行业新的生产设备 Jenoptik公司计划投资数亿欧元，为目前在德累斯顿建设的高科技工厂建造最先进的系统。新型电子...

2024-01-15 标签：光刻电子束 356 0

隆基27.09%刷新硅太阳能电池效率世界纪录

针对HBC太阳电池图形化技术高成本的瓶颈，隆基绿能持续自主创新研发，放弃了高成本的光刻工艺，采用全激光图形化技术实现了27.09%的转换效率。

2023-12-20 标签：太阳能电池光刻隆基 260 0

龙图光罩科创板IPO获批，募投项目技术和经济可行性是关键

龙图光罩拥有130nm及以上节点的半导体掩模版制备顶尖技术，覆盖 CAM、光刻、检测全流程。在功率半导体掩模版领域，其工艺节点已能充分满足全球主流制程的需求。

2023-12-18 标签：半导体光刻功率半导体 375 0

IBM、美光、应用材料、东京电子宣布合作建设 High-NA EUV 研发中心

12 月 12 日消息，今天早些时候，纽约州长凯西・霍楚尔（Kathy Hochul ）宣布与 IBM、美光、应用材料、东京电子（东京威力科创）等半导体...

2023-12-14 标签：IBM 光刻美光 365 0

SLM在三维直接光刻中的多点加工

现代激光加工，以超快激光加工为主，即使用高强度的超快激光进行材料加工。具有峰值功率高、热熔区域小、加工速度快和重复精度高的特点。滨松LCOS-SLM则...

2023-12-13 标签：激光光刻 SLM 274 0

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺

2023-11-23 标签：DRAM 光刻 EUV 772 0

覆盖双大气窗口的定向热辐射最新研究

该定向热辐射器件具有四大特点：（a）超宽带特性：器件在整个中波红外（3-5 μm）和长波红外大气窗口（8-14 μm）都表现出定向热辐射特性。

2023-11-19 标签：光刻热辐射长波红外 893 0

常见的晶圆吸附技术

机械真空吸附通过真空泵创建负压环境，真空泵用于从吸附区域抽气，从而降低压力，在晶圆与吸附盘之间产生真空区域。通常需要密封圈来确保吸附区域的密封，防止外界...

2023-11-12 标签：半导体晶圆光刻 894 0

八亿时空：光刻胶树脂量产产能不断提升预计明年将会贡献一定营收

该公司目前集中开发krf光刻树脂及其衍生物，分为负离子聚合的狭窄分布树脂和包括三重聚合物在内的自由基聚合的广泛分布树脂。现在下游客户对这两个地区都有需求...

2023-11-09 标签：树脂光刻电子材料 593 0

半导体关键材料光刻胶市场格局发展现状

生产光刻胶的原料包括光引发剂（光增感剂、光致产酸剂帮助其更好发挥作用）、树脂、溶剂和其他添加剂等，我国由于资金和技术的差距，如感光剂、树脂等被外企垄断，...

2023-11-01 标签：芯片光刻光刻胶 212 0

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AMS1117系列稳压器有可调版与多种固定电压版，设计用于提供1A输出电流且工作压差可低至1V。在最大输出电流时，AMS1117器件的最小压差保证不超过1.3V，并随负载电流的减小而逐渐降低。
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德州仪器（TI）MSP430系列超低功耗微控制器包含多种器件，它们特有面向多种应用的不同外设集。这种架构与5种低功耗模式相组合，专为在便携式测量应用中延长电池使用寿命而优化。该器件具有一个强大的16位 RISCCPU，16位寄存器和有助于获得最大编码效率的常数发生器。
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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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DA转换器一般指数模转换器。它是把数字量转变成模拟的器件。D/A转换器基本上由4个部分组成，即权电阻网络、运算放大器、基准电源和模拟开关。模数转换器中一般都要用到数模转换器，模数转换器即A/D转换器，简称ADC，它是把连续的模拟信号转变为离散的数字信号的器件。
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TTP223是触摸键检测IC，提供1个触摸键。触摸检测IC是为了用可变面积的键取代传统的按钮键而设计的。低功耗和宽工作电压是触摸键的DC和AC特点。111
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