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标签 > 光刻
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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在正性光刻过程中,掩膜版(Photomask)作为图形转移的关键工具,其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对掩膜版的主要要求: 图案准...
图像转移,也称为光刻技术(或简称光刻),在PCB的电路图形方面发挥关键作用。它能实现复杂和精确的连接,以支持在更小的区域实现更多连接。随着对更高密度...
光刻掩膜(也称为光罩)和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用,但它们的功能和应用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微纳加工技术中常用的光刻工艺所使用的...
想必大家都有所了解,光刻机对芯片制造的重要性,而光掩膜版又称光罩,光掩膜等; 光掩膜版是由制造商通过光刻制版工艺将电路图刻制于基板上制作而成,主要作用体...
2024-10-09 标签:光刻 306 0
光刻掩膜版的制作是一个复杂且精密的过程,涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 设计与准备 在开始制作光刻掩膜版之前,首先需要...
光刻掩模是光的一种掩蔽模片,其作用有类似于照相的通过它,可以使它“底下“的光剂部分成光,难溶于有机药品,一部分不感光,易溶于有机药品,以而制得选择扩散所...
微流控光刻掩膜的制作过程涉及多个步骤,包括设计、制版、曝光、显影、刻蚀等,最终形成具有特定图形结构的掩膜版。 首先,设计阶段是制作掩膜版...
VCSEL激光在蚀刻和光刻中应用广泛,提高精度和效率。银月光科技提供多波长VCSEL激光器,定制化服务,助力工业生产高效高质量。未来,更多种类VCSEL...
来源:Silicon Semiconductor SkyWater位于明尼苏达的工厂旨在拥有世界上最先进的200毫米光刻技术。 SkyWater T...
友思特应用 硅片上的光影贴合:UV-LED曝光系统在晶圆边缘曝光中的高效应用
晶圆边缘曝光是帮助减少晶圆涂布过程中多余的光刻胶对电子器件影响的重要步骤。友思特 ALE/1 和 ALE/3 UV-LED 高性能点光源,作为唯一可用...
一份PPT带你看懂光刻胶分类、工艺、成分以及光刻胶市场和痛点
共读好书 前烘对正胶显影的影响 前烘对负胶胶显影的影响 需要这个原报告的朋友可转发这篇文章获取百份资料,内含光刻胶多份精品报告【赠2024电子资料百份】...
来源:半导体行业观察,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 随着英特尔、三星、台积电以及日本即将落成的先进晶圆代工厂 Rapidus尽管各家公司都各自准备将...
精密光子制造中为什么要使用飞秒激光?飞秒激光器发射持续时间低于一皮秒的超短光脉冲,达到飞秒级(1fs=10-15s)。飞秒激光的特点是脉冲宽度极短,峰值...
阿斯麦(ASML)与比利时微电子(IMEC)联合打造的High-NA EUV光刻实验室正式启用
近日,全球领先的半导体制造设备供应商阿斯麦(ASML)与比利时微电子研究中心(IMEC)共同宣布,位于荷兰费尔德霍芬的High-NAEUV光刻实验室正式...
新思科技x Multibeam推出业界首款可量产电子束光刻系统 无需掩膜
基于掩膜的传统光刻技术,其成本正呈指数级攀升。而无掩膜的电子束光刻技术提供了补充性选项,可以帮助芯片制造商更快地将产品推向市场。电子束光刻技术采用电...
英特尔推进面向未来节点的技术创新,在2025年后巩固制程领先性
英特尔正在按计划实现其“四年五个制程节点”的目标,目前,Intel 7,采用EUV(极紫外光刻)技术的Intel 4和Intel 3均已实现大规模量产。...
SK海力士联手TEMC开发氖气回收技术,年度节省400亿韩元
SK海力士联合 TEMC 研发出一套氖气回收装置,用以收集及分类处理光刻工艺环境中的氖气,然后交予 TEMC 进行纯化处理,最后回流至 SK 海力士使用。
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