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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻资讯

光刻技术是什么,有哪些作用

光刻是在掩模中转移几何形状图案的过程，是覆盖在表面的一层薄薄的辐射敏感材料(称为抗辐射剂) ，也是一种半导体晶片。图5.1简要说明了光刻用于集成电路制...

2022-03-09 标签：晶圆工艺光刻 5252 0

台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破

今年4月开始，台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产，苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或...

2018-10-17 标签：芯片台积电光刻 4789 0

全球首台！苏大维格光刻设备投入运行；台积电上半年专利申请数量375件夺冠…

7月28日，中国台湾地区有关单位公布统计指出，受到疫情影响，今年上半年中国台湾地区专利申请件数为33,954件，与去年同期相比下降4%；发明专利申请人中...

2020-07-30 标签：台积电光刻 4724 0

南大光电高黏附性的ArF光刻胶树脂专利揭秘

在国际半导体领域，我国虽已成为半导体生产大国，但整个半导体产业链仍比较落后。特别是由于国内光刻胶厂布局较晚，半导体光刻胶技术相较于海外先进技术差距较大，...

2020-03-06 标签：光刻 4273 0

关于光刻的原理、光刻设备等知识点集合

最近光博会上看到一本关于光刻的小册子，里面有一点内容，分享给大家。关于光刻的原理、光刻设备、光刻胶的种类和选择等。开篇光刻的原理表面处理：一般的...

2021-10-13 标签：探测器光刻光刻胶 4163 0

2021年，半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11％

按照应用领域分类，光刻胶主要包括印制电路板（PCB）光刻胶专用化学品（光引发剂和树脂）、液晶显示器（LCD）光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂和其他用...

2021-05-17 标签：芯片半导体光刻 4163 0

开启新时代，台积电将打造“系统超级芯片”

世界领先半导体厂商台积电首席技术官兼研发副总裁孙元成透露了未来台积电主导“系统超级芯片”市场的详细计划。

2013-05-16 标签：CMOS 台积电 3D 4129 0

突发！ASML对手，宣布破产！

荷兰的芯片机制造是世界有名的，其中的ASML就是世界领先的佼佼者，但是，上周有消息传出，其荷兰的竞争对手、代

2019-01-05 标签：芯片电子光刻 4075 0

SK海力士的M16工厂将用上最先进的EUV光刻工艺

今年10月份SK Hynix才刚刚建成最新的M15晶圆厂，这是2015年全球最大的存储芯片工厂M14落成时SK Hynix宣布的46万亿韩元投资计划中的...

2018-12-22 标签：光刻 SK海力士 4003 0

关于芯片光刻的性能分析和介绍

为避免对被处理表面的任何损伤，应当使用低温下温和的化学方法。超声波的应用也可以增强剥离效能。因为有腐蚀问题、一些已知的剥离液不能作用与铝等金属表面；在此...

2019-09-05 标签：芯片集成电路光刻 3955 0

不使用EUV突破1nm极限？美国推出全新光刻系统，分辨率0.768nm！

电子发烧友网报道（文/梁浩斌）最近，一家名为Zyvex Labs的美国公司宣布推出亚纳米分辨率的光刻系统Zyvex Litho 1，据称分辨率可以达到0...

2022-09-27 标签：光刻 EUV 3825 0

光刻成为摩尔定律的前沿制造工艺成主要瓶颈

十多年来，半导体制造行业一方面一直在期待EUV能够拯救摩尔定律，但另一方面又担心该技术永远都不会出现。不过最终，它还是来了，而且不久便将投入使用。

2020-01-26 标签：摩尔定律光刻 EUV 3664 0

偷偷赚着大把钞票的ASML

ASML脱胎于飞利浦、成立于1984年，其唯一产品类型就是集成电路制造环节中最核心的设备——光刻机。光刻机设备通过光源将掩模上的电路图曝光至涂满光刻胶的...

2018-03-06 标签：光刻光刻技术 ASML 3650 0

光刻工艺中使用的曝光技术

根据所使用的辐射，有不同类型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、电子束光刻、x射线光刻、光刻和离子束光刻。在光学光刻技术中，有部分不透明和部分不透明的图...

2022-07-27 标签：光刻曝光 3571 0

台积电 | 首次加入EUV极紫外光刻技术 7nm+工艺芯片已量产

台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡。

2019-05-28 标签：台积电光刻 EUV 3482 0

EUV光刻工艺终于商业化新一代EUV光刻工艺正在筹备

随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多...

2018-10-30 标签：光刻 EUV 3463 0

日美大户横行,阿斯麦光刻市场的崛起之路

阿斯麦的地位有多重要？可以这么说，如果它停产，全球半导体芯片生产将会停摆。

2019-06-03 标签：光刻 ASML 3335 0

美国泛林宣布与ASML、IMEC合作开发出新的EUV光刻技术成本大幅降低

2月28日，美国泛林公司宣布与ASML阿斯麦、IMEC比利时微电子中心合作开发了新的EUV光刻技术，不仅提高了EUV光刻的良率、分辨率及产能，还将光刻胶...

2020-02-29 标签：光刻 IMEC EUV 3311 0

中国终于打破日本在光刻胶的垄断地位

昨夜晚间，宁波南大光电发表公告称，公司自主研发的 ArF 光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。

2020-12-18 标签：光刻光刻胶 3218 0

我国成功研制出世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备

我国成功研制出世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备，可加工22纳米芯片。

2018-12-01 标签：光刻光刻机 3156 0

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AMS1117系列稳压器有可调版与多种固定电压版，设计用于提供1A输出电流且工作压差可低至1V。在最大输出电流时，AMS1117器件的最小压差保证不超过1.3V，并随负载电流的减小而逐渐降低。
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德州仪器（TI）MSP430系列超低功耗微控制器包含多种器件，它们特有面向多种应用的不同外设集。这种架构与5种低功耗模式相组合，专为在便携式测量应用中延长电池使用寿命而优化。该器件具有一个强大的16位 RISCCPU，16位寄存器和有助于获得最大编码效率的常数发生器。
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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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DA转换器一般指数模转换器。它是把数字量转变成模拟的器件。D/A转换器基本上由4个部分组成，即权电阻网络、运算放大器、基准电源和模拟开关。模数转换器中一般都要用到数模转换器，模数转换器即A/D转换器，简称ADC，它是把连续的模拟信号转变为离散的数字信号的器件。
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TTP223是触摸键检测IC，提供1个触摸键。触摸检测IC是为了用可变面积的键取代传统的按钮键而设计的。低功耗和宽工作电压是触摸键的DC和AC特点。111
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