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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻资讯

EUV光刻的无名英雄

晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小...

2023-04-27 标签：晶圆厂光刻 EUV 825 0

在毫米级晶圆上，绘制纳米级图案

三星电子晶圆代工事业部在国际互连技术大会（IITC, International Interconnect Technology Conference）...

2023-04-25 标签：晶圆光刻 EUV 454 0

好消息！国产EDA龙头，华大九天支持5nm先进工艺，已开始商业化！

自主、可控、创新、突破 1 前言大家好，我是硬件花园！ 2月13日，华大九天宣布，公司部分数字工具支持5nm，并且已经实现商业化！在接受机构调研时，...

2023-04-20 标签：芯片集成电路 eda 1906 0

Nvidia声称在芯片生产速度方面有所突破

台积电与半导体设备供应商ASML计划采用Nvidia的 "cuLitho "软件库来简化芯片生产的一个关键部分。

2023-04-07 标签：芯片半导体 NVIDIA 1374 0

音圈电机模组在主流光刻掩模台系统中的应用

光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。很多人都对光刻机...

2023-04-06 标签：光刻音圈电机 763 0

日本限制芯片制造设备出口中方回应

日本限制芯片制造设备出口中方回应美国拉上了一些盟友，比如日本，来一起无理打压我们的半导体发展，日本计划限制23种半导体制造设备的出口；对此外交部发言...

2023-03-31 标签：芯片芯片制造光刻 3140 0

攻克光子芯片制程中光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺陕西先进光子器件工程创新平台全面启用

陕西光电子先导院先进光子器件工程创新平台3月30日在西安全面启用。该平台具备光子芯片制程中的光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺，将为光子产业项目提供产品研发...

2023-03-30 标签：芯片半导体光刻 555 0

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻计算光刻技术提速40倍

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻计算光刻技术提速40倍 NVIDIA cuLitho的计算光刻库可以将计算光刻技术提速40倍。这...

2023-03-23 标签：NVIDIA 芯片设计 eda 7636 0

GTC 2023主题直播：NVIDIA推出计算光刻库——cuLitho

　晶圆的定位精度达到四分之一纳米，并且每秒对准2万次以消除任何振动的影响。光刻之前的步骤同样令人不可思议。

2023-03-22 标签：NVIDIA 光刻 gtc 1474 0

紫光褪去，***未来会是怎样？

今天安玛芯城小编跟大家一起探讨关于国产芯片的一些知识，2009年，紫光集团的资产仅为13亿美元。在六年内，资产迅速膨胀到1000亿。早在2019年，这一...

2023-03-17 标签：芯片光刻紫光集团 1171 0

虹科技术 | UV-LED用于大基板紫外曝光系统

高功率UV-LED正在替代传统汞灯，成为光刻机的曝光光源，可用于大基板的紫外曝光系统

2023-02-22 标签：半导体光刻紫外 825 0

台积电NIL等下一代光刻专利遥遥领先于三星热

尽管 EUV 正朝着全面商业化的方向发展，并受到半导体行业的广泛关注，但半导体生产商对 NIL（纳米压印）和 DSA（引导自组装）等替代技术的研究和开发...

2023-02-07 标签：三星电子晶圆光刻 748 0

晶圆上绘制电路光刻工艺的基本步骤

光刻胶经曝光后，其化学性质会发生改变。更准确地说，经曝光后，光刻胶在显影液中的溶解度发生了变化：曝光后溶解度上升的物质称作正性（Positive）光刻胶...

2023-01-31 标签：集成电路晶圆光刻 1463 0

掩膜版行业基本概述

掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。

2023-01-09 标签：半导体制造业光刻 2796 0

基于富硫聚合物的高灵敏红外偏振器

与常规红外材料不同，富硫聚合物可溶解在有机溶剂中，这意味着其可应用于基于溶液的旋涂方法。此外，富硫聚合物拥有的粘滞弹性和动态共价二硫键使其可被热纳米压印...

2023-01-05 标签：红外光刻偏振 423 0

使用 3D 纳米打印

2022-12-28 标签：3D 光刻光刻胶 711 0

基于选择性紫外光刻的光纤微图案化

科学家利用选择性紫外光刻实现复合纤维材料的光纤微图案化

2022-12-22 标签：光纤光刻 269 0

芯片晶圆代工和封测工艺流程

晶圆清洗是指通过将晶圆沉浸在不同的清洗药剂内或通过喷头将调配好的清洗液药剂喷射于晶圆表面进行清洗，再通过超纯水进行二次清洗，以去除晶圆表面的杂质颗粒和残...

2022-12-07 标签：晶圆代工光刻封测 6552 0

厦门云天Fine Pitch光刻工艺突破2um L/S

来源：云天半导体厦门云天半导体继九月初812吋 “晶圆级封装与无源器件生产线”正式通线后，经过团队的不懈努力， 8英寸晶圆Fine Pitch光刻工艺...

2022-11-30 标签：光刻 1098 0

宇微光学成功研发计算光刻EDA软件

刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。

2022-11-28 标签：eda 光刻产业链 822 0

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德州仪器（TI）MSP430系列超低功耗微控制器包含多种器件，它们特有面向多种应用的不同外设集。这种架构与5种低功耗模式相组合，专为在便携式测量应用中延长电池使用寿命而优化。该器件具有一个强大的16位 RISCCPU，16位寄存器和有助于获得最大编码效率的常数发生器。
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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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