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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻资讯

应对先进工艺碳排放挑战，Imec开发晶圆厂可持续发展评估模型

随着技术的发展，与ic制造相关的排放量也增加了，特别是光刻和蚀刻能耗较大，例如n3工程中光刻工序产生的二氧化碳排放量约占45%。imec的工程师们半导体...

2023-09-13 标签：半导体技术光刻蚀刻 565 0

上海光机所成立科研五部，聚焦强激光系统、精密光刻系统等重大需求

邵建达说：科研单位大部门制改革是上海机械适应新时代新要求的必然选择。他提出了三个要求：第一，各级人民检察院要以国家需要和人民法院党组会议精神抢占客户科技...

2023-09-13 标签：激光技术光刻高功率 1275 0

EUV光刻光源核心部件研究获新进展

据本文介绍，锡液滴发生器是激光等离子型极紫外线（lpp-euv）光刻光源中最重要的核心部件之一。锡液滴目标具有高反复频率，小直径和稳定性好的特性。这篇论...

2023-09-05 标签：发生器紫外线光刻 1983 0

艾森股份：半导体封装材料龙头企业冲刺科创板

据上海证券交易所上市审查委员会公告，艾森股票将于8月14日在科创股票市场上市。艾森股份有限公司从事电子化学品的研究，开发，生产和销售。电子电镀、光刻2个...

2023-08-08 标签：电镀光刻半导体制造 726 0

ASML产品路线图曝光，EUV***出货已超200台

euv光刻系统从2014年第一季度到2019年第四季度，nxe:3400c在客户端使用30 mj/cm2的电力，达到了约140芯片/小时的生产效率。nx...

2023-07-31 标签：光刻 EUV ASML 1212 0

集成电路与集成电路产业，积体电路与积体电路座业

集成电路自发明以来，经过20世纪 60年代和70 年代的发展，逐步形成了集成电路产业。1965年，仙童公司的戈登 •摩尔（Cordon E. Moore...

2023-07-10 标签：集成电路光刻积体电路 979 0

半导体设备，日本不行了？

但由于2022年新冠特殊需求结束以及半导体衰退，2023年半导体市场将减少约10%至5151亿美元，设备市场也将减少约15%至91.2美元亿。据说到20...

2023-06-25 标签：半导体制造设备光刻 843 0

光刻中承上启下的半导体掩膜版

电子发烧友网报道（文/周凯扬）在上游的半导体制造产业中，除了光刻机等设备外，光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的关键因素。就拿掩膜版来说，这个承...

2023-06-22 标签：光刻掩膜版 2824 0

基于选择性紫外光刻的光纤微图案化

由聚合物、金属和半导体组成的复合纤维材料将光纤技术的应用范围进一步扩大到传感器、电子学生物医学和智能纺织品等领域。复合纤维材料能够在单个灯丝内集成多种功...

2023-01-11 标签：光纤光刻 757 0

10.8.5 光刻-电镀-注塑技术（LIGA）∈《集成电路产业全书》

点击上方蓝字关注我们Lithographie-Galvanoformung-Abformung（LIGA）审稿人：北京大学王玮审稿人：北京大学张兴蔡一茂...

2022-05-24 标签：集成电路光刻 380 0

泛林集团邀您共享CSTIC 2023技术盛会

中国年度半导体技术盛会——中国国际半导体技术大会(CSTIC)将于2023年6月26-27日在上海国际会议中心举办。近百位世界领先的行业及学术专家汇聚一...

2023-06-19 标签：集成电路半导体光刻 1409 0

知识分享---光刻模块标准步骤

通常，光刻是作为特性良好的模块的一部分执行的，其中包括晶圆表面制备、光刻胶沉积、掩模和晶圆的对准、曝光、显影和适当的抗蚀剂调节。光刻工艺步骤需要按顺序进...

2023-06-02 标签：模块晶圆光刻 958 0

无需FMM，京东方研发出光刻AMQLED

BOE（京东方）开发的量子点直接光刻（DP-QLED）工艺，仅需要涂膜、曝光、显影三步即实现了一种量子点的图案化；相对于其它光刻图案化工艺，步骤减少，无...

2023-06-01 标签：光刻量子点 1972 0

EUV光刻的无名英雄

晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小...

2023-04-27 标签：晶圆厂光刻 EUV 1021 0

在毫米级晶圆上，绘制纳米级图案

三星电子晶圆代工事业部在国际互连技术大会（IITC, International Interconnect Technology Conference）...

2023-04-25 标签：晶圆光刻 EUV 600 0

好消息！国产EDA龙头，华大九天支持5nm先进工艺，已开始商业化！

自主、可控、创新、突破 1 前言大家好，我是硬件花园！ 2月13日，华大九天宣布，公司部分数字工具支持5nm，并且已经实现商业化！在接受机构调研时，...

2023-04-20 标签：芯片集成电路 eda 2240 0

Nvidia声称在芯片生产速度方面有所突破

台积电与半导体设备供应商ASML计划采用Nvidia的 "cuLitho "软件库来简化芯片生产的一个关键部分。

2023-04-07 标签：芯片半导体 NVIDIA 1489 0

音圈电机模组在主流光刻掩模台系统中的应用

光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。很多人都对光刻机...

2023-04-06 标签：光刻音圈电机 913 0

日本限制芯片制造设备出口中方回应

日本限制芯片制造设备出口中方回应美国拉上了一些盟友，比如日本，来一起无理打压我们的半导体发展，日本计划限制23种半导体制造设备的出口；对此外交部发言...

2023-03-31 标签：芯片芯片制造光刻 3253 0

攻克光子芯片制程中光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺陕西先进光子器件工程创新平台全面启用

陕西光电子先导院先进光子器件工程创新平台3月30日在西安全面启用。该平台具备光子芯片制程中的光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺，将为光子产业项目提供产品研发...

2023-03-30 标签：芯片半导体光刻 702 0

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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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DA转换器一般指数模转换器。它是把数字量转变成模拟的器件。D/A转换器基本上由4个部分组成，即权电阻网络、运算放大器、基准电源和模拟开关。模数转换器中一般都要用到数模转换器，模数转换器即A/D转换器，简称ADC，它是把连续的模拟信号转变为离散的数字信号的器件。
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TTP223是触摸键检测IC，提供1个触摸键。触摸检测IC是为了用可变面积的键取代传统的按钮键而设计的。低功耗和宽工作电压是触摸键的DC和AC特点。111
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