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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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日本限制芯片制造设备出口 中方回应 美国拉上了一些盟友,比如日本,来一起无理打压我们的半导体发展,日本计划限制23种半导体制造设备的出口;对此外交部发言...
掩膜版(Photomask)又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是微电子制造过程中的图形转移工具或母版,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。
在SEMICON West上另一个热点是光刻技术能否达到15nm的经济制造?半导体业是有希望未来采用EUV技术。
目前,我国硅抛光片行业需求量约6亿平方英寸,国内产量5.19亿平方英寸,部分产品还需要从国外进口满足国内市场需求,近几年我国集成电路行业平稳发展,给硅抛...
据介绍,目前苏大维格正在重点扩大微纳米光学技术/产品。国家文件和证明书中的防伪材料、电子纸张和反射式液晶电光材料、ar/mr和ar-hud衍射材料、透明...
多层PCB内层的光刻工艺包括几个阶段,接下来详细为大家介绍多层PCB内层的光刻工艺每个阶段都需要做什么。 PART.1 在第一阶段,内层穿过化学制剂生产...
电子发烧友网报道(文/周凯扬)在上游的半导体制造产业中,除了光刻机等设备外,光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的关键因素。就拿掩膜版来说,这个承...
我们所知道的第一个半导体路线图可能是摩尔观察到的,以他为名字的“摩尔定律”预计,芯片的计算能力随着时间的增长呈指数增长。
IRDS路线图中More Moore部分预测了传统逻辑和存储芯片的改进。这部分升级是由大数据、物联网、云计算和性能改进的一般需求驱动的。据预测,高性能逻...
好消息!国产EDA龙头,华大九天支持5nm先进工艺,已开始商业化!
自主、可控、创新、突破 1 前言 大家好,我是硬件花园! 2月13日,华大九天宣布,公司部分数字工具支持5nm,并且已经实现商业化! 在接受机构调研时,...
文|James 集微网消息,10月27日,据上交所发布科创板上市委2020年第93次审议会议结果显示,合肥芯碁微电子装备股份有限公司(以下简称芯碁微装)...
据本文介绍,锡液滴发生器是激光等离子型极紫外线(lpp-euv)光刻光源中最重要的核心部件之一。锡液滴目标具有高反复频率,小直径和稳定性好的特性。这篇论...
BOE(京东方)开发的量子点直接光刻(DP-QLED)工艺,仅需要涂膜、曝光、显影三步即实现了一种量子点的图案化;相对于其它光刻图案化工艺,步骤减少,无...
半导体产业最上游是IC设计公司与硅晶圆制造公司,IC设公司计依客户的需求设计出电路图,硅晶圆制造公司则以多晶硅为原料制造出硅晶圆。中游的IC制造公司主要...
麻省理工学院 (MIT)的研究人员表示,已经开发出一种技术,可望提升在芯片上写入图案的高速电子束光刻解析度,甚至可达9nm,远小于原先所预期的尺寸
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