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标签 > 光刻
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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尽管 EUV 正朝着全面商业化的方向发展,并受到半导体行业的广泛关注,但半导体生产商对 NIL(纳米压印)和 DSA(引导自组装)等替代技术的研究和开发...
光刻胶经曝光后,其化学性质会发生改变。更准确地说,经曝光后,光刻胶在显影液中的溶解度发生了变化:曝光后溶解度上升的物质称作正性(Positive)光刻胶...
掩膜版(Photomask)又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是微电子制造过程中的图形转移工具或母版,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。
与常规红外材料不同,富硫聚合物可溶解在有机溶剂中,这意味着其可应用于基于溶液的旋涂方法。此外,富硫聚合物拥有的粘滞弹性和动态共价二硫键使其可被热纳米压印...
晶圆清洗是指通过将晶圆沉浸在不同的清洗药剂内或通过喷头将调配好的清洗液药剂喷射于晶圆表面进行清洗,再通过超纯水进行二次清洗,以去除晶圆表面的杂质颗粒和残...
来源:云天半导体 厦门云天半导体继九月初812吋 “晶圆级封装与无源器件生产线”正式通线后,经过团队的不懈努力, 8英寸晶圆Fine Pitch光刻工艺...
2022-11-30 标签:光刻 1433 0
刘世元介绍,光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺,通过光刻成像系统,将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小,硅片上的曝光图形会产生畸变。
材料来源:化合物半导体 本刊记者 日前,旗下拥有生命科学、医药健康和电子科技三大业务板块的科技公司默克重磅亮相第五届中国国际进口博览会(进博会),并宣布...
,俄罗斯政府推出了一项国家计划,到2030年开发出自己的28纳米制程技术,并尽可能利用外国芯片进行逆向工程取得技术,同时也要培养本土人才从事国产芯片的生产工作。
在本文中,首先论述半导体业界中存在着怎样的“傻瓜的围墙”。接下来,由于半导体行业内到处都有壁垒,所以行业内外之间存在着巨大的差异。然后进一步说明汽车与半...
不使用EUV突破1nm极限?美国推出全新光刻系统,分辨率0.768nm!
电子发烧友网报道(文/梁浩斌)最近,一家名为Zyvex Labs的美国公司宣布推出亚纳米分辨率的光刻系统Zyvex Litho 1,据称分辨率可以达到0...
我们所知道的第一个半导体路线图可能是摩尔观察到的,以他为名字的“摩尔定律”预计,芯片的计算能力随着时间的增长呈指数增长。
IRDS路线图中More Moore部分预测了传统逻辑和存储芯片的改进。这部分升级是由大数据、物联网、云计算和性能改进的一般需求驱动的。据预测,高性能逻...
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