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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻资讯

生命科学、医药健康和电子科技三大业务协同创新

材料来源：化合物半导体本刊记者日前，旗下拥有生命科学、医药健康和电子科技三大业务板块的科技公司默克重磅亮相第五届中国国际进口博览会（进博会），并宣布...

2022-11-10 标签：晶圆光刻 574 0

俄罗斯政府预计2030年开发出28纳米制程技术

，俄罗斯政府推出了一项国家计划，到2030年开发出自己的28纳米制程技术，并尽可能利用外国芯片进行逆向工程取得技术，同时也要培养本土人才从事国产芯片的生产工作。

2022-11-08 标签：光刻 7nm 839 0

汽车行业能否跨越半导体“傻瓜的围墙”？

在本文中，首先论述半导体业界中存在着怎样的“傻瓜的围墙”。接下来，由于半导体行业内到处都有壁垒，所以行业内外之间存在着巨大的差异。然后进一步说明汽车与半...

2022-11-07 标签：半导体光刻 473 0

重磅：DLP-SLA混合光固化3D打印技术将商业化

据知悉阿姆斯特丹大学（UVA）已同意将其专利混合立体光刻（SLA）技术授权给数字光处理（DLP）3D打印机制造商atum3D。这种混合SLA工艺由UVA...

2022-10-11 标签：dsp 光刻光固化 961 0

不使用EUV突破1nm极限？美国推出全新光刻系统，分辨率0.768nm！

电子发烧友网报道（文/梁浩斌）最近，一家名为Zyvex Labs的美国公司宣布推出亚纳米分辨率的光刻系统Zyvex Litho 1，据称分辨率可以达到0...

2022-09-27 标签：光刻 EUV 3820 0

用于高分辨率OLED显示器的光刻（下）

在设备级别，我们华林科纳制造了像素间距为10μm（F IGURE 4）的OLED阵列，相当于2500 ppi。在这种情况下，一个重要的参数是对准精度，它...

2022-08-02 标签：显示器 OLED 光刻 1206 0

用于高分辨率OLED显示器的光刻（上）

现代社会已经习惯了视觉信息的溢出，大多数用户界面的中心都有显示器。引进新技术和降低制造成本的步伐令人印象深刻，似乎并没有放缓。最突出的例子是OLED显...

2022-08-02 标签：显示器 OLED 光刻 1086 0

光刻工艺中使用的曝光技术

根据所使用的辐射，有不同类型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、电子束光刻、x射线光刻、光刻和离子束光刻。在光学光刻技术中，有部分不透明和部分不透明的图...

2022-07-27 标签：光刻曝光 3562 0

光刻路线图中的光刻部分介绍

我们所知道的第一个半导体路线图可能是摩尔观察到的，以他为名字的“摩尔定律”预计，芯片的计算能力随着时间的增长呈指数增长。

2022-07-11 标签：芯片半导体 3D 2031 0

有关芯片光刻路线图的一些知识

IRDS路线图中More Moore部分预测了传统逻辑和存储芯片的改进。这部分升级是由大数据、物联网、云计算和性能改进的一般需求驱动的。据预测，高性能逻...

2022-06-30 标签：芯片 DRAM 光刻 1936 0

帕克推出新型半导体工具Park NX-Hybrid WLI

2022年5月20日，美国总统拜登在韩国总统尹锡悦陪同下视察了三星半导体工厂扩建的最新产线，三星半导体的工作人员向总统们介绍了其产品的部署进展时，介绍了...

2022-06-24 标签：半导体光刻 929 0

光刻胶剥离工艺的基本原理

虽然通过蚀刻的结构化是通过(例如抗蚀剂)掩模对衬底的全表面涂层进行部分腐蚀来完成的，但是在剥离过程中，材料仅沉积在不受抗蚀剂掩模保护的位置。本文章描述了...

2022-05-12 标签：工艺光刻蚀刻 2290 0

采用双层抗蚀剂法去除负光刻胶

本文提出了一种新型的双层光阻剂方法来减少负光阻剂浮渣。选择正光刻胶作为底层抗蚀剂，选择负光刻胶作为顶层抗蚀胶。研究了底层抗蚀剂的粘度和厚度对浮渣平均数量...

2022-03-24 标签：工艺参数光刻 823 0

使用湿化学物质去除光刻胶和残留物

在未来几代器件中，去除光刻胶和残留物变得非常关键。在前端线后离子注入（源极/漏极、扩展），使用PR来阻断部分电路导致PR基本上硬化并且难以去除。在后端线...

2022-03-24 标签：电路光刻器件 932 0

通过臭氧微气泡进行半导体晶圆的光刻胶去除实验

半导体的清洗在制造工序中也是非常重要的。特别是光刻胶的去除是最困难的，一般使用硫酸和过氧化氢混合的溶液(SPM)等。但是，这些废液的处理是极其困难的，与...

2022-03-24 标签：半导体制造光刻 859 0

英特尔欲助力欧洲半导体生产制造份额提升至20%

电子发烧友网报道（文/周凯扬）不久之前，英特尔宣布在欧洲开展野心勃勃的扩张计划，未来十年内在欧洲投资800多亿欧元，欲助力欧洲的半导体生产制造份额从如今...

2022-03-22 标签：半导体封装光刻 995 0

晶片清洗、阻挡层形成和光刻胶应用

什么是光刻？光刻是将掩模上的几何形状转移到硅片表面的过程。光刻工艺中涉及的步骤是晶圆清洗；阻挡层的形成；光刻胶应用；软烤；掩模对准；曝光和显影；和硬烤。

2022-03-15 标签：工艺光刻晶片 914 0

光刻技术是什么,有哪些作用

光刻是在掩模中转移几何形状图案的过程，是覆盖在表面的一层薄薄的辐射敏感材料(称为抗辐射剂) ，也是一种半导体晶片。图5.1简要说明了光刻用于集成电路制...

2022-03-09 标签：晶圆工艺光刻 5244 0

光通讯胶水中的掩膜保护UV胶水

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜(也称作“掩模”)，其作用是在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮...

2022-03-07 标签：芯片半导体光刻 783 0

洁净室光刻工艺石墨烯生物传感器的制作

我们华林科纳研究了用于电解门制造的洁净室工艺用于生物传感的晶片尺度石墨烯场效应晶体管。我们的制造该工艺克服了两个主要问题:去除石墨烯图案化后的表面残留...

2022-03-07 标签：传感器工艺光刻 545 0

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德州仪器（TI）MSP430系列超低功耗微控制器包含多种器件，它们特有面向多种应用的不同外设集。这种架构与5种低功耗模式相组合，专为在便携式测量应用中延长电池使用寿命而优化。该器件具有一个强大的16位 RISCCPU，16位寄存器和有助于获得最大编码效率的常数发生器。
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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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