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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻资讯

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻计算光刻技术提速40倍

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻计算光刻技术提速40倍 NVIDIA cuLitho的计算光刻库可以将计算光刻技术提速40倍。这...

2023-03-23 标签：NVIDIA 芯片设计 eda 7881 0

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2023-03-22 标签：NVIDIA 光刻 gtc 1659 0

紫光褪去，***未来会是怎样？

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虹科技术 | UV-LED用于大基板紫外曝光系统

高功率UV-LED正在替代传统汞灯，成为光刻机的曝光光源，可用于大基板的紫外曝光系统

2023-02-22 标签：半导体光刻紫外 1028 0

台积电NIL等下一代光刻专利遥遥领先于三星热

尽管 EUV 正朝着全面商业化的方向发展，并受到半导体行业的广泛关注，但半导体生产商对 NIL（纳米压印）和 DSA（引导自组装）等替代技术的研究和开发...

2023-02-07 标签：三星电子晶圆光刻 906 0

晶圆上绘制电路光刻工艺的基本步骤

光刻胶经曝光后，其化学性质会发生改变。更准确地说，经曝光后，光刻胶在显影液中的溶解度发生了变化：曝光后溶解度上升的物质称作正性（Positive）光刻胶...

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掩膜版行业基本概述

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2023-01-09 标签：半导体制造业光刻 3213 0

基于富硫聚合物的高灵敏红外偏振器

与常规红外材料不同，富硫聚合物可溶解在有机溶剂中，这意味着其可应用于基于溶液的旋涂方法。此外，富硫聚合物拥有的粘滞弹性和动态共价二硫键使其可被热纳米压印...

2023-01-05 标签：红外光刻偏振 562 0

使用 3D 纳米打印

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基于选择性紫外光刻的光纤微图案化

科学家利用选择性紫外光刻实现复合纤维材料的光纤微图案化

2022-12-22 标签：光纤光刻 412 0

芯片晶圆代工和封测工艺流程

晶圆清洗是指通过将晶圆沉浸在不同的清洗药剂内或通过喷头将调配好的清洗液药剂喷射于晶圆表面进行清洗，再通过超纯水进行二次清洗，以去除晶圆表面的杂质颗粒和残...

2022-12-07 标签：晶圆代工光刻封测 7594 0

厦门云天Fine Pitch光刻工艺突破2um L/S

来源：云天半导体厦门云天半导体继九月初812吋 “晶圆级封装与无源器件生产线”正式通线后，经过团队的不懈努力， 8英寸晶圆Fine Pitch光刻工艺...

2022-11-30 标签：光刻 1571 0

宇微光学成功研发计算光刻EDA软件

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生命科学、医药健康和电子科技三大业务协同创新

材料来源：化合物半导体本刊记者日前，旗下拥有生命科学、医药健康和电子科技三大业务板块的科技公司默克重磅亮相第五届中国国际进口博览会（进博会），并宣布...

2022-11-10 标签：晶圆光刻 698 0

俄罗斯政府预计2030年开发出28纳米制程技术

，俄罗斯政府推出了一项国家计划，到2030年开发出自己的28纳米制程技术，并尽可能利用外国芯片进行逆向工程取得技术，同时也要培养本土人才从事国产芯片的生产工作。

2022-11-08 标签：光刻 7nm 943 0

汽车行业能否跨越半导体“傻瓜的围墙”？

在本文中，首先论述半导体业界中存在着怎样的“傻瓜的围墙”。接下来，由于半导体行业内到处都有壁垒，所以行业内外之间存在着巨大的差异。然后进一步说明汽车与半...

2022-11-07 标签：半导体光刻 605 0

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据知悉阿姆斯特丹大学（UVA）已同意将其专利混合立体光刻（SLA）技术授权给数字光处理（DLP）3D打印机制造商atum3D。这种混合SLA工艺由UVA...

2022-10-11 标签：dsp 光刻光固化 1130 0

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2022-09-27 标签：光刻 EUV 4373 0

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现代社会已经习惯了视觉信息的溢出，大多数用户界面的中心都有显示器。引进新技术和降低制造成本的步伐令人印象深刻，似乎并没有放缓。最突出的例子是OLED显...

2022-08-02 标签：显示器 OLED 光刻 1326 0

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