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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻资讯

Pixelligent新型纳米晶材料可扩展光刻技术

据Pixelligent Technologies LLC表示，该公司开发出一种据称可提高现有光刻设备分辨率的纳米晶（nanocrystalline）材...

2009-06-07 标签：材料纳米光刻 1527 0

光刻胶剥离工艺—《华林科纳-半导体工艺》

摘要新的全湿剥离工艺在去除高度注入的光刻胶时不需要干等离子体灰化工艺，同时保持低缺陷水平和至少相当于记录工艺的高产量性能。灰化步骤的消除减少了不希望的...

2022-03-01 标签：半导体光刻 1487 0

GTC 2023主题直播：NVIDIA推出计算光刻库——cuLitho

　晶圆的定位精度达到四分之一纳米，并且每秒对准2万次以消除任何振动的影响。光刻之前的步骤同样令人不可思议。

2023-03-22 标签：NVIDIA 光刻 gtc 1480 0

晶圆上绘制电路光刻工艺的基本步骤

光刻胶经曝光后，其化学性质会发生改变。更准确地说，经曝光后，光刻胶在显影液中的溶解度发生了变化：曝光后溶解度上升的物质称作正性（Positive）光刻胶...

2023-01-31 标签：集成电路晶圆光刻 1475 0

ASML表示设备订单依然强劲需求前景暂没有变化

由于担心新型冠状病毒疫情带来的不确定性，三星和台积电的半导体设备供应商ASML宣布撤回2020年第二季度的业绩预期。不过，这家生产极紫外线（EUV）光刻...

2020-04-16 标签：光刻 ASML 1404 0

新思科技x Multibeam推出业界首款可量产电子束光刻系统无需掩膜

基于掩膜的传统光刻技术，其成本正呈指数级攀升。而无掩膜的电子束光刻技术提供了补充性选项，可以帮助芯片制造商更快地将产品推向市场。电子束光刻技术采用电...

2024-05-22 标签：光刻新思科技电子束 1397 0

Nvidia声称在芯片生产速度方面有所突破

台积电与半导体设备供应商ASML计划采用Nvidia的 "cuLitho "软件库来简化芯片生产的一个关键部分。

2023-04-07 标签：芯片半导体 NVIDIA 1375 0

用于高分辨率OLED显示器的光刻（下）

在设备级别，我们华林科纳制造了像素间距为10μm（F IGURE 4）的OLED阵列，相当于2500 ppi。在这种情况下，一个重要的参数是对准精度，它...

2022-08-02 标签：显示器 OLED 光刻 1211 0

紫光褪去，***未来会是怎样？

今天安玛芯城小编跟大家一起探讨关于国产芯片的一些知识，2009年，紫光集团的资产仅为13亿美元。在六年内，资产迅速膨胀到1000亿。早在2019年，这一...

2023-03-17 标签：芯片光刻紫光集团 1173 0

厦门云天Fine Pitch光刻工艺突破2um L/S

来源：云天半导体厦门云天半导体继九月初812吋 “晶圆级封装与无源器件生产线”正式通线后，经过团队的不懈努力， 8英寸晶圆Fine Pitch光刻工艺...

2022-11-30 标签：光刻 1101 0

用于高分辨率OLED显示器的光刻（上）

现代社会已经习惯了视觉信息的溢出，大多数用户界面的中心都有显示器。引进新技术和降低制造成本的步伐令人印象深刻，似乎并没有放缓。最突出的例子是OLED显...

2022-08-02 标签：显示器 OLED 光刻 1088 0

京瓷成功研发出利用光刻加工技术的AT切割水晶振动子

京瓷株式会社的全资子公司——京瓷金石株式会社（以下简称“京瓷金石”）是专门从事水晶元器件开发生产的公司。该公司运用光刻加工技术成功研发出AT切割水晶振动...

2012-04-12 标签：光刻京瓷水晶振动子 1064 0

EV集团推出针对大容量封装应用的自动掩模对准系统

微机电系统(MEMS)、纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备领先供应商EV集团(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT，旨针对大容量先进封装...

2017-03-11 标签：封装光刻 evg 1051 0

泛林集团邀您共享CSTIC 2023技术盛会

中国年度半导体技术盛会——中国国际半导体技术大会(CSTIC)将于2023年6月26-27日在上海国际会议中心举办。近百位世界领先的行业及学术专家汇聚一...

2023-06-19 标签：集成电路半导体光刻 1045 0

英特尔欲助力欧洲半导体生产制造份额提升至20%

电子发烧友网报道（文/周凯扬）不久之前，英特尔宣布在欧洲开展野心勃勃的扩张计划，未来十年内在欧洲投资800多亿欧元，欲助力欧洲的半导体生产制造份额从如今...

2022-03-22 标签：半导体封装光刻 996 0

ASML产品路线图曝光，EUV***出货已超200台

euv光刻系统从2014年第一季度到2019年第四季度，nxe:3400c在客户端使用30 mj/cm2的电力，达到了约140芯片/小时的生产效率。nx...

2023-07-31 标签：光刻 EUV ASML 966 0

重磅：DLP-SLA混合光固化3D打印技术将商业化

据知悉阿姆斯特丹大学（UVA）已同意将其专利混合立体光刻（SLA）技术授权给数字光处理（DLP）3D打印机制造商atum3D。这种混合SLA工艺由UVA...

2022-10-11 标签：dsp 光刻光固化 965 0

使用湿化学物质去除光刻胶和残留物

在未来几代器件中，去除光刻胶和残留物变得非常关键。在前端线后离子注入（源极/漏极、扩展），使用PR来阻断部分电路导致PR基本上硬化并且难以去除。在后端线...

2022-03-24 标签：电路光刻器件 936 0

帕克推出新型半导体工具Park NX-Hybrid WLI

2022年5月20日，美国总统拜登在韩国总统尹锡悦陪同下视察了三星半导体工厂扩建的最新产线，三星半导体的工作人员向总统们介绍了其产品的部署进展时，介绍了...

2022-06-24 标签：半导体光刻 931 0

常见的晶圆吸附技术

机械真空吸附通过真空泵创建负压环境，真空泵用于从吸附区域抽气，从而降低压力，在晶圆与吸附盘之间产生真空区域。通常需要密封圈来确保吸附区域的密封，防止外界...

2023-11-12 标签：半导体晶圆光刻 928 0

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德州仪器（TI）MSP430系列超低功耗微控制器包含多种器件，它们特有面向多种应用的不同外设集。这种架构与5种低功耗模式相组合，专为在便携式测量应用中延长电池使用寿命而优化。该器件具有一个强大的16位 RISCCPU，16位寄存器和有助于获得最大编码效率的常数发生器。
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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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DA转换器一般指数模转换器。它是把数字量转变成模拟的器件。D/A转换器基本上由4个部分组成，即权电阻网络、运算放大器、基准电源和模拟开关。模数转换器中一般都要用到数模转换器，模数转换器即A/D转换器，简称ADC，它是把连续的模拟信号转变为离散的数字信号的器件。
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