光刻

用于微系统的先进光刻胶技术

对用于微加工微系统(MST)产品的高纵横比光致抗蚀剂的发展的日益增长的兴趣导致了许多商业上可获得的光致抗蚀剂产品的可用性。本文详细描述了三种抗蚀剂的应用...

2022-03-04 标签：芯片半导体光刻 715 0

光刻胶剥离工艺—《华林科纳-半导体工艺》

摘要 新的全湿剥离工艺在去除高度注入的光刻胶时不需要干等离子体灰化工艺，同时保持低缺陷水平和至少相当于记录工艺的高产量性能。灰化步骤的消除减少了不希望的...

2022-03-01 标签：半导体光刻 1485 0

光刻中接触孔和沟槽的双重构图策略

摘要 一种光刻图案化方法包括在基板上形成第一抗蚀剂图案，第一抗蚀剂图案在基板上包括多个开口；在基板上以及在第一抗蚀剂图案的多个开口内形成第二抗蚀剂图案，...

2022-03-01 标签：半导体光刻 491 0

超临界二氧化碳处理技术在光刻技术中的应用

作为半导体器件和MEMS微加工技术基础的光刻技术中，显影和清洗等湿法工艺是必不可少的。在本稿中，介绍了能够定量评价超临界CO2处理对微细光刻胶图案―基板...

2022-02-25 标签：半导体mems光刻 839 0

关于非晶半导体中的光刻工艺的研究报告

引言 在光刻过程中，光敏材料根据其上的辐照量改变其在某些蚀刻剂中的溶解度。在高分辨率光刻材料的薄层中形成的浮雕图案可以作为集成光学或集成电子器件的组件使...

2022-01-19 标签：半导体光刻 422 0

关于湿蚀刻中蚀刻剂扩散到深紫外光刻胶中的研究报告

引言 在许多集成电路制造步骤中，化学蚀刻仍然优于等离子体蚀刻。事实上，它能够实现更好的表面光滑度控制，这是获得足够的载流子迁移率至关重要的。在这些步骤中...

2022-01-18 标签：光刻光刻胶 453 0

关于光刻的原理、光刻设备等知识点集合

最近光博会上看到一本关于光刻的小册子，里面有一点内容，分享给大家。 关于光刻的原理、光刻设备、光刻胶的种类和选择等。 开篇 光刻的原理 表面处理：一般的...

2021-10-13 标签：探测器光刻光刻胶 4152 0

2021年，半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11％

按照应用领域分类，光刻胶主要包括印制电路板（PCB）光刻胶专用化学品（光引发剂和树脂）、液晶显示器（LCD）光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂和其他用...

2021-05-17 标签：芯片半导体光刻 4153 0

关于光刻技术浅述

经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，我为什么会这样说呢？

2021-03-30 标签：光刻光刻机电子线路图 2794 0

几种典型的光刻机对准方式及精度

  光刻对准技术由最初的明场和暗场对准发展到后来的干涉全息或外差干涉全息对准、混合匹配、由粗略到精细对准技术等。对准精度也由原来的微米级提高到纳米级，极...

2021-01-12 标签：半导体光刻 2.9万 0

什么是纳米压印光刻技术

1995年，华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授首次提出纳米压印概念，从此揭开了纳米压印制造技术的研究序幕。纳米压印技术是当今最具前景的纳米制...

2021-01-03 标签：纳米光刻 2.4万 0