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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻资讯

晶片清洗、阻挡层形成和光刻胶应用

什么是光刻？光刻是将掩模上的几何形状转移到硅片表面的过程。光刻工艺中涉及的步骤是晶圆清洗；阻挡层的形成；光刻胶应用；软烤；掩模对准；曝光和显影；和硬烤。

2022-03-15 标签：工艺光刻晶片 916 0

覆盖双大气窗口的定向热辐射最新研究

该定向热辐射器件具有四大特点：（a）超宽带特性：器件在整个中波红外（3-5 μm）和长波红外大气窗口（8-14 μm）都表现出定向热辐射特性。

2023-11-19 标签：光刻热辐射长波红外 902 0

俄罗斯要自研***？

圣彼得堡彼得大帝理工大学（SPbPU）的专家表示，他们已经成功开发了两套用于生产微电子纳米结构的装置，这将有助于解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题。这...

2023-10-11 标签：传感器光刻蚀刻 896 0

通过臭氧微气泡进行半导体晶圆的光刻胶去除实验

半导体的清洗在制造工序中也是非常重要的。特别是光刻胶的去除是最困难的，一般使用硫酸和过氧化氢混合的溶液(SPM)等。但是，这些废液的处理是极其困难的，与...

2022-03-24 标签：半导体制造光刻 862 0

上海光机所成立科研五部，聚焦强激光系统、精密光刻系统等重大需求

邵建达说：科研单位大部门制改革是上海机械适应新时代新要求的必然选择。他提出了三个要求：第一，各级人民检察院要以国家需要和人民法院党组会议精神抢占客户科技...

2023-09-13 标签：激光技术光刻高功率 853 0

超临界二氧化碳处理技术在光刻技术中的应用

作为半导体器件和MEMS微加工技术基础的光刻技术中，显影和清洗等湿法工艺是必不可少的。在本稿中，介绍了能够定量评价超临界CO2处理对微细光刻胶图案―基板...

2022-02-25 标签：半导体 mems 光刻 841 0

俄罗斯政府预计2030年开发出28纳米制程技术

，俄罗斯政府推出了一项国家计划，到2030年开发出自己的28纳米制程技术，并尽可能利用外国芯片进行逆向工程取得技术，同时也要培养本土人才从事国产芯片的生产工作。

2022-11-08 标签：光刻 7nm 840 0

虹科技术 | UV-LED用于大基板紫外曝光系统

高功率UV-LED正在替代传统汞灯，成为光刻机的曝光光源，可用于大基板的紫外曝光系统

2023-02-22 标签：半导体光刻紫外 832 0

EUV光刻的无名英雄

晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小...

2023-04-27 标签：晶圆厂光刻 EUV 830 0

宇微光学成功研发计算光刻EDA软件

刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。

2022-11-28 标签：eda 光刻产业链 824 0

采用双层抗蚀剂法去除负光刻胶

本文提出了一种新型的双层光阻剂方法来减少负光阻剂浮渣。选择正光刻胶作为底层抗蚀剂，选择负光刻胶作为顶层抗蚀胶。研究了底层抗蚀剂的粘度和厚度对浮渣平均数量...

2022-03-24 标签：工艺参数光刻 823 0

光通讯胶水中的掩膜保护UV胶水

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜(也称作“掩模”)，其作用是在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮...

2022-03-07 标签：芯片半导体光刻 787 0

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺

2023-11-23 标签：DRAM 光刻 EUV 777 0

全球主要半导体设备厂商介绍

半导体作为全球最重要的一个产业，每年为全球经济贡献数千亿美元产值。在整个产业链上，除我们耳熟能详的英特尔、AMD、高通、台积电等生产商外，还包括了众多著...

2024-01-18 标签：高通 amd 英特尔 770 0

音圈电机模组在主流光刻掩模台系统中的应用

光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。很多人都对光刻机...

2023-04-06 标签：光刻音圈电机 765 0

台积电NIL等下一代光刻专利遥遥领先于三星热

尽管 EUV 正朝着全面商业化的方向发展，并受到半导体行业的广泛关注，但半导体生产商对 NIL（纳米压印）和 DSA（引导自组装）等替代技术的研究和开发...

2023-02-07 标签：三星电子晶圆光刻 750 0

分析：450mm，EUV，TSV都将延迟

分析：450mm，EUV，TSV都将延迟现在不用再期待了，根据IC insights公司的数据，看起来两个两个正在显现的重要的IC制造技术都将延迟，...

2010-01-26 标签：光刻 731 0

用于微系统的先进光刻胶技术

对用于微加工微系统(MST)产品的高纵横比光致抗蚀剂的发展的日益增长的兴趣导致了许多商业上可获得的光致抗蚀剂产品的可用性。本文详细描述了三种抗蚀剂的应用...

2022-03-04 标签：芯片半导体光刻 716 0

使用 3D 纳米打印

2022-12-28 标签：3D 光刻光刻胶 713 0

集成电路与集成电路产业，积体电路与积体电路座业

集成电路自发明以来，经过20世纪 60年代和70 年代的发展，逐步形成了集成电路产业。1965年，仙童公司的戈登 •摩尔（Cordon E. Moore...

2023-07-10 标签：集成电路光刻积体电路 690 0

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德州仪器（TI）MSP430系列超低功耗微控制器包含多种器件，它们特有面向多种应用的不同外设集。这种架构与5种低功耗模式相组合，专为在便携式测量应用中延长电池使用寿命而优化。该器件具有一个强大的16位 RISCCPU，16位寄存器和有助于获得最大编码效率的常数发生器。
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