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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻资讯

知识分享---光刻模块标准步骤

通常，光刻是作为特性良好的模块的一部分执行的，其中包括晶圆表面制备、光刻胶沉积、掩模和晶圆的对准、曝光、显影和适当的抗蚀剂调节。光刻工艺步骤需要按顺序进...

2023-06-02 标签：模块晶圆光刻 678 0

半导体设备，日本不行了？

但由于2022年新冠特殊需求结束以及半导体衰退，2023年半导体市场将减少约10%至5151亿美元，设备市场也将减少约15%至91.2美元亿。据说到20...

2023-06-25 标签：半导体制造设备光刻 666 0

芯片制造发展是否存在新路径

从技术发展的角度看，芯片线宽越来越小，各种光学效应、系统误差和工艺条件偏差等变得越来越精细。计算光刻可以通过算法建模、仿真计算、数据分析和结果优化等手段...

2023-10-10 标签：晶圆芯片制造光刻 605 0

八亿时空：光刻胶树脂量产产能不断提升预计明年将会贡献一定营收

该公司目前集中开发krf光刻树脂及其衍生物，分为负离子聚合的狭窄分布树脂和包括三重聚合物在内的自由基聚合的广泛分布树脂。现在下游客户对这两个地区都有需求...

2023-11-09 标签：树脂光刻电子材料 597 0

俄罗斯开发出可替代***的芯片制造设备

这个复合体由两种设施组成。第一个装置是为“无掩模纳米光刻”设计的，可以在没有口罩的情况下将图像投射到基板上。第二种设备位于第一种设备制造的基板图案上，利...

2023-10-10 标签：传感器光刻人工智能 595 0

生命科学、医药健康和电子科技三大业务协同创新

材料来源：化合物半导体本刊记者日前，旗下拥有生命科学、医药健康和电子科技三大业务板块的科技公司默克重磅亮相第五届中国国际进口博览会（进博会），并宣布...

2022-11-10 标签：晶圆光刻 575 0

攻克光子芯片制程中光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺陕西先进光子器件工程创新平台全面启用

陕西光电子先导院先进光子器件工程创新平台3月30日在西安全面启用。该平台具备光子芯片制程中的光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺，将为光子产业项目提供产品研发...

2023-03-30 标签：芯片半导体光刻 558 0

洁净室光刻工艺石墨烯生物传感器的制作

我们华林科纳研究了用于电解门制造的洁净室工艺用于生物传感的晶片尺度石墨烯场效应晶体管。我们的制造该工艺克服了两个主要问题:去除石墨烯图案化后的表面残留...

2022-03-07 标签：传感器工艺光刻 546 0

艾森股份：半导体封装材料龙头企业冲刺科创板

据上海证券交易所上市审查委员会公告，艾森股票将于8月14日在科创股票市场上市。艾森股份有限公司从事电子化学品的研究，开发，生产和销售。电子电镀、光刻2个...

2023-08-08 标签：电镀光刻半导体制造 538 0

基于选择性紫外光刻的光纤微图案化

由聚合物、金属和半导体组成的复合纤维材料将光纤技术的应用范围进一步扩大到传感器、电子学生物医学和智能纺织品等领域。复合纤维材料能够在单个灯丝内集成多种功...

2023-01-11 标签：光纤光刻 538 0

中国芯片制造厂商无惧封禁！订单一路飙升

随着美国对中国半导体行业实施更严格的限制措施，中国的芯片制造厂商成为了不可忽视的受益者。根据外媒报道，中国顶尖的芯片代工厂为了加速自主科技发展，已经开始...

2023-10-23 标签：芯片芯片制造光刻 505 0

光刻中接触孔和沟槽的双重构图策略

摘要一种光刻图案化方法包括在基板上形成第一抗蚀剂图案，第一抗蚀剂图案在基板上包括多个开口；在基板上以及在第一抗蚀剂图案的多个开口内形成第二抗蚀剂图案，...

2022-03-01 标签：半导体光刻 492 0

汽车行业能否跨越半导体“傻瓜的围墙”？

在本文中，首先论述半导体业界中存在着怎样的“傻瓜的围墙”。接下来，由于半导体行业内到处都有壁垒，所以行业内外之间存在着巨大的差异。然后进一步说明汽车与半...

2022-11-07 标签：半导体光刻 473 0

在毫米级晶圆上，绘制纳米级图案

三星电子晶圆代工事业部在国际互连技术大会（IITC, International Interconnect Technology Conference）...

2023-04-25 标签：晶圆光刻 EUV 457 0

关于湿蚀刻中蚀刻剂扩散到深紫外光刻胶中的研究报告

引言在许多集成电路制造步骤中，化学蚀刻仍然优于等离子体蚀刻。事实上，它能够实现更好的表面光滑度控制，这是获得足够的载流子迁移率至关重要的。在这些步骤中...

2022-01-18 标签：光刻光刻胶 455 0

基于富硫聚合物的高灵敏红外偏振器

与常规红外材料不同，富硫聚合物可溶解在有机溶剂中，这意味着其可应用于基于溶液的旋涂方法。此外，富硫聚合物拥有的粘滞弹性和动态共价二硫键使其可被热纳米压印...

2023-01-05 标签：红外光刻偏振 423 0

关于非晶半导体中的光刻工艺的研究报告

引言在光刻过程中，光敏材料根据其上的辐照量改变其在某些蚀刻剂中的溶解度。在高分辨率光刻材料的薄层中形成的浮雕图案可以作为集成光学或集成电子器件的组件使...

2022-01-19 标签：半导体光刻 422 0

应对先进工艺碳排放挑战，Imec开发晶圆厂可持续发展评估模型

随着技术的发展，与ic制造相关的排放量也增加了，特别是光刻和蚀刻能耗较大，例如n3工程中光刻工序产生的二氧化碳排放量约占45%。imec的工程师们半导体...

2023-09-13 标签：半导体技术光刻蚀刻 386 0

龙图光罩科创板IPO获批，募投项目技术和经济可行性是关键

龙图光罩拥有130nm及以上节点的半导体掩模版制备顶尖技术，覆盖 CAM、光刻、检测全流程。在功率半导体掩模版领域，其工艺节点已能充分满足全球主流制程的需求。

2023-12-18 标签：半导体光刻功率半导体 382 0

IBM、美光、应用材料、东京电子宣布合作建设 High-NA EUV 研发中心

12 月 12 日消息，今天早些时候，纽约州长凯西・霍楚尔（Kathy Hochul ）宣布与 IBM、美光、应用材料、东京电子（东京威力科创）等半导体...

2023-12-14 标签：IBM 光刻美光 367 0

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德州仪器（TI）MSP430系列超低功耗微控制器包含多种器件，它们特有面向多种应用的不同外设集。这种架构与5种低功耗模式相组合，专为在便携式测量应用中延长电池使用寿命而优化。该器件具有一个强大的16位 RISCCPU，16位寄存器和有助于获得最大编码效率的常数发生器。
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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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