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标签 > 光刻
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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微机电系统(MEMS)、纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备领先供应商EV集团(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT,旨针对大容量先进封装...
世界领先半导体厂商台积电首席技术官兼研发副总裁孙元成透露了未来台积电主导“系统超级芯片”市场的详细计划。
京瓷株式会社的全资子公司——京瓷金石株式会社(以下简称“京瓷金石”)是专门从事水晶元器件开发生产的公司。该公司运用光刻加工技术成功研发出AT切割水晶振动...
麻省理工学院 (MIT)的研究人员表示,已经开发出一种技术,可望提升在芯片上写入图案的高速电子束光刻解析度,甚至可达9nm,远小于原先所预期的尺寸
在SEMICON West上另一个热点是光刻技术能否达到15nm的经济制造?半导体业是有希望未来采用EUV技术。
分析:450mm,EUV,TSV都将延迟 现在不用再期待了,根据IC insights公司的数据,看起来两个两个正在显现的重要的IC制造技术都将延迟,...
2010-01-26 标签:光刻 779 0
据Pixelligent Technologies LLC表示,该公司开发出一种据称可提高现有光刻设备分辨率的纳米晶(nanocrystalline)材...
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