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标签 > 刻蚀
刻蚀,英文为Etch,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻 [1] 相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。所谓刻蚀,实际上狭义理解就是光刻腐蚀,先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理,然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。
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射频馈电(Microstrip Feed): 这是最常见的微带天线馈电方式之一。射频信号通过微带线传输到天线的辐射部分,通常是通过微带线和辐射贴片之间的...
通常正片工艺是以碱性蚀刻工艺为基础的。底片上面,所需的路径或铜表面是黑色的,而不需要的部分是完全透明的。同样,在路线工艺曝光后,完全透明的部分被暴露在紫...
对于电子设备来说,它藏在内部,又非常重要,相当于汽车的发动机、人的心脏,所以叫“芯”。从形态来看,它是一片一片的,所以叫“片”。合起来,就是“芯片”。
但是里面也有几个关键的工艺参数需要控制的。同样Etch GaAs也可以用ICP干法刻蚀的工艺,比湿法工艺效果要好些,侧壁也垂直很多。
在芯片制造过程中,光刻机用于在硅片上形成光刻胶图形,作为制造电路的模板。光刻机使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻胶,并通过投影光学系统将图形投射到硅片...
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