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刻蚀

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刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻［1］相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。

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刻蚀技术

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光伏刻蚀工艺流程光刻蚀刻加工原理是什么

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刻蚀工艺主要分为哪几种类型刻蚀的目的是什么？

PVP可以在刻蚀过程中形成一层保护性的膜，降低刻蚀剂对所需刻蚀材料的腐蚀作用。它可以填充材料表面的裂缝、孔洞和微小空隙，并防止刻蚀剂侵入。这样可以减少不...

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半导体制造工艺解析

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全球封装技术向先进封装迈进的转变

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刻蚀分为哪两种方式刻蚀的目的和原理

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刻蚀工艺流程和步骤酸性蚀刻和碱性蚀刻的区别

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一种孔径小于10纳米的固态纳米孔制备新技术

高质量固态纳米孔的制备是DNA测序、纳流器件以及纳滤膜等应用的关键技术。当前，在无机薄膜材料中制备固态纳米孔的主流方法是聚焦离子/电子束刻蚀。

2023-07-04 标签：电子束刻蚀 347 0

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在前几篇文章（点击查看），我们一直在借用饼干烘焙过程来形象地说明半导体制程。在上一篇我们说到，为制作巧克力夹心，需通过“刻蚀工艺”挖出饼干的中间部分，...

2023-06-29 标签：半导体晶圆工艺 1558 0

半导体图案化工艺流程之刻蚀(一)

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浅谈封装开封技术

环氧塑封是IC主要封装形式，环氧塑封器件开封方法有化学方法、机械方法和等离子体刻蚀法，化学方法是最广泛使用的方法，又分手动开封和机械开封两种。

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半导体八大工艺之刻蚀工艺-干法刻蚀

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2023-06-05 标签：多晶硅晶片刻蚀 3094 0

金属湿法刻蚀

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详解电池片全工序工艺

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用钪取代一些铝可以增加压电性能，但也使薄膜的沉积和图案形成更具挑战性。

2023-03-21 标签：蚀刻工艺压电材料刻蚀 1334 0

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