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刻蚀

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刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻［1］相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。

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刻蚀技术

综述：MEMS制造工艺研究进展

据麦姆斯咨询报道，近期，来自南京理工大学的研究人员于《新型工业化》期刊发表综述文章，总结了体微加工技术和表面微加工常用的MEMS加工工艺的原理、加工方法...

2022-11-30 标签：mems 制造工艺刻蚀 1431 0

一文详解微纳加工刻蚀工艺

微纳加工的高精度和精确度，可以在微米和纳米尺度上精确控制材料的形状和结构，这使得制造微小器件和结构成为可能。

2024-04-16 标签：集成电路刻蚀半导体集成电路 1425 0

通过湿法化学刻蚀制备多孔氧化锌薄膜

本文用湿化学腐蚀法制备多孔氧化锌的研究。通过射频磁控溅射在择优取向的p型硅上沉积ZnO薄膜。在本工作中使用的蚀刻剂是0.1％和1％硝酸（HNO）溶液，Z...

2022-04-24 标签：薄膜刻蚀 1405 0

半导体芯片的制造过程及原理

对于电子设备来说，它藏在内部，又非常重要，相当于汽车的发动机、人的心脏，所以叫“芯”。从形态来看，它是一片一片的，所以叫“片”。合起来，就是“芯片”。

2024-01-15 标签：集成电路芯片制造半导体芯片 1378 0

AlN和Sc0.2Al0.8N薄膜的湿法化学腐蚀

用钪取代一些铝可以增加压电性能，但也使薄膜的沉积和图案形成更具挑战性。

2023-03-21 标签：蚀刻工艺压电材料刻蚀 1335 0

通过化学湿法刻蚀工艺制备氮化镓基发光二极管

最近，氮化镓基蓝色、绿色和紫外线发光二极管取得了巨大进展。这些氮化物基发光二极管也有可能用于固态照明。然而，为了实现固态照明，需要进一步提高这些发光二极...

2022-04-12 标签：工艺发光二极管刻蚀 1317 0

微机械中的各向异性蚀刻技术与发展方向

单晶S1，作为IC、LSI的电子材料，用于微小机械部件的材料，也就是说，作为结构材料的新用途已经开发出来了。其理由是，除了单晶SI或机械性强之外，...

2022-03-29 标签：晶圆单晶硅刻蚀 1307 0

半导体制造之离子工艺

其中，AB是分子，而A和B是由分解碰撞产生的自由基，自由基至少带有一个不成对的电子, 因此并不稳定。自由基在化学上非常活跃，能夺取其他原子或分子的电子形...

2022-11-28 标签：等离子体工艺 CVD 1255 0

脊型GaAs基LD激光芯片工艺过程简述

但是里面也有几个关键的工艺参数需要控制的。同样Etch GaAs也可以用ICP干法刻蚀的工艺，比湿法工艺效果要好些，侧壁也垂直很多。

2023-11-14 标签：封装 GaAs 芯片工艺 1171 0

3D NAND的沟道通孔刻蚀工艺步骤

沟道通孔（Channel Hole）指的是从顶层到底层垂直于晶圆表面，穿过多层存储单元的细长孔洞。这些通孔贯穿整个堆叠结构，并填充了导电材料，它们在每个...

2024-03-20 标签：刻蚀 3d nand 1165 0

通过两步湿法刻蚀法制备黑硅

本研究对黑硅的形成进行了两步短湿蚀刻处理,所建议的结构包括两个步骤。第一步：湿酸性蚀刻凹坑状形态，具有降低纹理化温度的新解决方案；第二步：通过金属辅助蚀...

2022-03-29 标签：工艺晶片刻蚀 1031 0

如何在刻蚀铝之后保护铝不被腐蚀？

需要铝金属的地方太多了，在DRAM和flash等存储器产品中，铝连线由于成本低廉和加工简便仍被广泛使用。这些存储器设备通常不像高性能逻辑芯片那样对电阻和...

2023-12-25 标签：存储器等离子体半导体封装 980 0

采用湿蚀刻技术制备黑硅

本文介绍了我们华林科纳采用氮化硅膜作为掩膜，采用湿蚀刻技术制备黑硅，样品在250~1000nm波长下的吸收率接近90%。实验结果表明，氮化硅膜作为掩模湿...

2022-03-29 标签：测试材料刻蚀 973 0

浅谈刻蚀的终点控制

当等离子体转变到这种状态时，电子密度处于最低水平。一般来说，等离子体密度下降的水平取决于占空比和脉冲频率。通过调整脉冲的占空比，可以将时间平均离子能量分...

2024-04-09 标签：集成电路等离子体芯片制造 919 0

浅谈封装开封技术

环氧塑封是IC主要封装形式，环氧塑封器件开封方法有化学方法、机械方法和等离子体刻蚀法，化学方法是最广泛使用的方法，又分手动开封和机械开封两种。

2023-06-25 标签：芯片 IC 封装 919 0

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2023-11-27 标签：半导体 DRAM 晶圆 836 0

污染和清洗顺序对碱性纹理化的影响

本文介绍了我们华林科纳研究了污染和清洗顺序对碱性纹理化的影响。硅表面专门暴露在有机和金属污染中，以研究它们对碱性纹理化过程的影响，由此可见，无机污染对金...

2022-05-18 标签：晶片清洗刻蚀 810 0

全球封装技术向先进封装迈进的转变

先进封装处于晶圆制造与封测制程中的交叉区域，涉及IDM、晶圆代工、封测厂商，市场格局较为集中，前6 大厂商份额合计超过80%。全球主要的 6 家厂商，包...

2023-08-11 标签：芯片摩尔定律封装技术 800 0

什么是线刻蚀干法线刻蚀的常见形貌介绍

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2024-03-27 标签：晶圆刻蚀 721 0

半导体干法刻蚀技术解析

主要介绍几种常用于工业制备的刻蚀技术，其中包括离子束刻蚀（IBE）、反应离子刻蚀（RIE）、以及后来基于高密度等离子体反应离子的电子回旋共振等离子体刻蚀...

2024-10-18 标签：半导体制备工艺刻蚀 638 0

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