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标签 > 刻蚀
刻蚀,英文为Etch,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻 [1] 相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。所谓刻蚀,实际上狭义理解就是光刻腐蚀,先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理,然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。
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湿法刻蚀和清洗(Wet Etch and Cleaning)
湿法刻蚀是集成电路制造工艺最早采用的技术之一。虽然由于受其刻蚀的各向同性的限制,使得大部分的湿法刻蚀工艺被具有各向异性的干法刻蚀替代,但是它在尺寸较大的...
目前,国内半导体材料与设备的国产化率平均还不到20%,但经过15~20多年的技术积累,以及企业和国家的大力投入,半导体材料与设备在2020年将会获得实质...
近来有网络媒体称,“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机,性能优良,将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”,并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁...
灰化,简单的理解就是用氧气把光刻胶燃烧掉,光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化...
干法刻蚀和清洗(Dry Etch and Cleaning)
干法刻蚀工艺流程为,将刻蚀气体注入真空反应室,待压力稳定后,利用射频辉光放电产生等离子体;受高速电子撞击后分解产生自由基,并扩散到圆片表面被吸附。
半导体设备大厂Lam ResearchQ3营收创纪录 三分之一营收来自中国
4月21日,半导体设备大厂Lam Research发布2021第三季度财报,营收创下新高,达到38.5亿美元,高于此前37.2亿美元的预期,达到单季的最...
2021-04-22 标签:刻蚀营收Lam Research 6086 1
长期以来 ,微加工研究主要是针对微电子工业的应用而开展的 ,其加工对象大都是半导体材料 ,如对 Si、Ge、GaAs 及各种金属氧化物膜等材料的刻蚀 ,...
中微公司2022年第一季度收入9.49亿元同比增长57.31%
中微公司2022年 第一季度财务报告 AMEC 2022 Q1 Report 中微公司于4月28日发布2022年第一季度财务报告,摘要如下:...
【芯闻精选】八寸晶圆厂狂涨价,硅片单价突破 1000 美元创十年新高;中微公司刻蚀机已进入国际客户5nm产线
产业新闻 臻鼎科技控股高端集成电路封装载板智能制造工厂项目昨日签约 4月6日,臻鼎科技控股高端集成电路封装载板智能制造工厂项目签约仪式在秦皇岛经...
众所周知,我国芯片制造技术与国际先进水平有着不小的差距。芯片制造的关键设备--光刻机,与国际领先水平差距更大:世界最先进水平已经到了5nm水平,而我国才...
摘要:MEMS应用领域的扩展要求开发硅材料之外其他新型材料的三维微细加工技术.为此,对金属钛这一新型MEMS体材料的三维加工进行了探索.金属钛不仅延展性...
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