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标签 > 抛光
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。
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潘连胜表示:“神工股份公司的硅配件产品在生产能力计划、研究开发能力、技术储备、顾客普及等方面处于国内领先水平。”目前,这项工作仍处于产能提高和业务拓展阶...
化学机械抛光(CMP)是目前最主流的晶圆抛光技术,抛光过程中,晶圆厂会根据每一步晶圆芯片平坦度的加工要求,选择符合去除率(MRR)和表面粗糙度(Ra)等...
CMP抛光液市场高速增长,到2023年市场规模将达到25亿美元
得益于半导体业界的繁荣,世界cmp抛光液市场正在经历明显的增长。cmp抛光液是半导体制造中的关键成分,在实现集成电路制造的精度和效率方面发挥了关键作用。...
超精密两面抛光加工是化学机械抛光的应用(CMP)技术性,借助产品工件、碾磨颗粒物、抛光剂和抛光轮的机械作用,在工件打磨抛光环节中,发生部分持续高温和髙压...
2022-11-01 标签:抛光 3608 0
抛光工艺---五金压铸件抛光工艺打磨部分有三个工序:粗磨、半精磨、精磨
1.粗磨:要达到的目标是去掉压铸件表面及边缘的毛刺,以及在上步工序出现的碰伤,达到边缘圆角初步成型,水平面和垂直面基本无大划痕,无碰伤。;2.半精磨:对...
2022-06-13 标签:抛光 2789 0
目前常用的不锈钢抛光方法有以下几种:1机械抛光机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等...
2022-05-13 标签:抛光 4339 0
氩离子抛光技术是对样品表面进行抛光,去除损伤层,从而得到高质量样品,用于在 SEM,光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC ...
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