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标签 > 掩模
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光刻图形质量的主要判据是图形成像的对比度,移相掩模方法可使对比度得到改善,从而使得其分辨率比传统方法改善 40%~100%。移相掩模按不同的分类方法可分...
5月12日,皖江经济带核心城市合肥的边界上,御微首台掩模基板缺陷检测产品Halo-100正式装车,准备运输交付给国内顶尖掩模工厂。
据佳能介绍,传统的光刻设备将电路图案投射到涂有防腐剂的晶片上,而新产品就像邮票一样,在晶片上印上印有电路图案的掩模来实现这一目标。由于电路图案的传递过程...
来源:海门开发区 据海门开发区官微报道,日前,半影光学(南京)有限公司与海门开发区签订投资协议,规划建设微纳光学器件及半导体光掩模生产项目,总投资5亿元...
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